CN215428911U - 一种反应设备的气体分布器 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种反应设备的气体分布器，包括：气体分布器，气体分布器的上表面设有向上延伸的凸缘，凸缘设有限位凹槽，气体分布器为圆盘形；反应设备，反应设备的内部设有内腔，内腔具有底面和侧面，气体分布器位于反应设备内部。本实用新型的有益效果是：使气体分布器稳固地安装在反应设备的内部，延长气体分布器的使用寿命。
Description
技术领域
本实用新型涉及气体分布器，尤其涉及一种反应设备的气体分布器。
背景技术
气体分布器向反应设备输送高压气体，会导致气体分布器发生振动，现有技术的气体分布器无法稳定的安装在反应设备内部，振动会影响气体分布器的使用寿命。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是克服现有技术中存在的不足，提供一种反应设备的气体分布器。
本实用新型是通过以下技术方案予以实现：
一种反应设备的气体分布器，包括：
气体分布器，气体分布器的上表面设有向上延伸的凸缘，凸缘设有限位凹槽，气体分布器为圆盘形；
反应设备，反应设备的内部设有内腔，内腔具有底面和侧面，气体分布器位于反应设备内部；
底面，底面设有环形槽，环形槽内滑动连接压环，压环与环形槽之间设有压簧，压环与气体分布器的底面接触；
侧面，侧面设有侧壁凹槽，侧壁凹槽中设有限位块，限位块与侧壁凹槽转动连接；
限位块连接限位齿轮，限位齿轮与限位齿条啮合，压环连接压环齿条，压环齿条与传动齿轮啮合，传动齿轮与传动齿条啮合，传动齿条与限位齿条垂直，传动齿条与限位齿条通过传动杆连接，传动杆的两端分别铰接传动齿条和限位齿条。
根据上述技术方案，优选地，压环齿条与反应设备滑动连接，压环齿条与传动齿条平行，且分别位于传动齿轮的两侧，传动齿轮与反应设备转动连接，传动齿条与反应设备滑动连接，限位齿条与反应设备滑动连接，限位齿条与传动齿条的运动方向垂直。
根据上述技术方案，优选地，侧壁凹槽内部设有第一限位面和第二限位面。第一限位面限制限位块在侧壁凹槽内部的位置，第二限位面限制限位块的转动角度。
本实用新型的有益效果是：使气体分布器稳固地安装在反应设备的内部，延长气体分布器的使用寿命。气体分布器是使通入的气体在整个截面上均匀分布的设备。限位凹槽用于限制气体分布器的位置。气体分布器的底面为圆形平面。气体分布器安装到反应设备的底面上时，气体分布器可以下压压环，推动压环向下进入环形槽。压簧推动压环向上移动，当气体分布器与压环脱离，弹簧会推动压环向上移动复位。限位块从侧壁凹槽中转出，卡入气体分布器的限位凹槽中。当压环下移时，会推动压环齿条移动，压环齿条带动传动齿轮转动，传动齿轮会带动传动齿条反向移动，传动齿条通过传动杆带动限位齿条移动，限位齿条带动限位齿轮转动。
附图说明
图1示出了本实用新型的实施例的主视结构示意图。
图2示出了本实用新型的实施例的俯视结构示意图。
图3示出了本实用新型的实施例的限位齿轮和限位齿条连接结构示意图。
图4示出了本实用新型的实施例的传动杆结构示意图。
图中：
1.气体分布器，11.凸缘，12.限位凹槽，
2.反应设备，21.内腔，
22.底面，221.环形槽，222.压环，223.压簧，224.传动齿轮，225.传动齿条，226.传动杆，
23.侧面，231.侧壁凹槽，2311.第一限位面，2312.第二限位面，232.限位块，233.限位齿轮，234.限位齿条。
具体实施方式
为了使本技术领域的技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图和最佳实施例对本实用新型作进一步的详细说明。
如图所示，本实用新型一种反应设备的气体分布器，包括：
气体分布器1，气体分布器的上表面设有向上延伸的凸缘11，凸缘设有限位凹槽12，气体分布器为圆盘形；
反应设备2，反应设备的内部设有内腔21，内腔具有底面和侧面，气体分布器位于反应设备内部；
底面22，底面设有环形槽221，环形槽内滑动连接压环222，压环与环形槽之间设有压簧223，压环与气体分布器的底面接触；
侧面23，侧面设有侧壁凹槽231，侧壁凹槽中设有限位块232，限位块与侧壁凹槽转动连接；
限位块连接限位齿轮233，限位齿轮与限位齿条234啮合，压环连接压环齿条224，压环齿条与传动齿轮224啮合，传动齿轮与传动齿条225啮合，传动齿条与限位齿条垂直，传动齿条与限位齿条通过传动杆226连接，传动杆的两端分别铰接传动齿条和限位齿条。
根据上述实施例，优选地，压环齿条与反应设备滑动连接，压环齿条与传动齿条平行，且分别位于传动齿轮的两侧，传动齿轮与反应设备转动连接，传动齿条与反应设备滑动连接，限位齿条与反应设备滑动连接，限位齿条与传动齿条的运动方向垂直。
根据上述实施例，优选地，侧壁凹槽内部设有第一限位面2311和第二限位面2312。第一限位面限制限位块在侧壁凹槽内部的位置，第二限位面限制限位块的转动角度。
本实施例的工作原理为：气体分布器是使通入的气体在整个截面上均匀分布的设备。限位凹槽用于限制气体分布器的位置。气体分布器的底面为圆形平面。气体分布器安装到反应设备的底面上时，气体分布器可以下压压环，推动压环向下进入环形槽。压簧推动压环向上移动，当气体分布器与压环脱离，弹簧会推动压环向上移动复位。限位块从侧壁凹槽中转出，卡入气体分布器的限位凹槽中。当压环下移时，会推动压环齿条移动，压环齿条带动传动齿轮转动，传动齿轮会带动传动齿条反向移动，传动齿条通过传动杆带动限位齿条移动，限位齿条带动限位齿轮转动。
本实用新型的有益效果是：使气体分布器稳固地安装在反应设备的内部，延长气体分布器的使用寿命。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (3)
1.一种反应设备的气体分布器，其特征在于，包括：
气体分布器，气体分布器的上表面设有向上延伸的凸缘，凸缘设有限位凹槽，气体分布器为圆盘形；
反应设备，反应设备的内部设有内腔，内腔具有底面和侧面，气体分布器位于反应设备内部；
底面，底面设有环形槽，环形槽内滑动连接压环，压环与环形槽之间设有压簧，压环与气体分布器的底面接触；
侧面，侧面设有侧壁凹槽，侧壁凹槽中设有限位块，限位块与侧壁凹槽转动连接；
限位块连接限位齿轮，限位齿轮与限位齿条啮合，压环连接压环齿条，压环齿条与传动齿轮啮合，传动齿轮与传动齿条啮合，传动齿条与限位齿条垂直，传动齿条与限位齿条通过传动杆连接，传动杆的两端分别铰接传动齿条和限位齿条。
2.根据权利要求1所述的一种反应设备的气体分布器，其特征在于，压环齿条与反应设备滑动连接，压环齿条与传动齿条平行，且分别位于传动齿轮的两侧，传动齿轮与反应设备转动连接，传动齿条与反应设备滑动连接，限位齿条与反应设备滑动连接，限位齿条与传动齿条的运动方向垂直。
3.根据权利要求1所述的一种反应设备的气体分布器，其特征在于，侧壁凹槽内部设有第一限位面和第二限位面，第一限位面限制限位块在侧壁凹槽内部的位置，第二限位面限制限位块的转动角度。
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Publications (1)
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Family
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2021
- 2021-07-13 CN CN202121594260.8U patent/CN215428911U/zh active Active
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