CN215314449U - 一种双面等离子清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种双面等离子清洗装置，具体涉及清洗装置技术领域，包括机台机架，所述机台机架顶部设有清洗机构，所述清洗机构包括A面等离子发生器，所述A面等离子发生器底部设有B面等离子发生器，所述机台机架顶端固定设有A面运动模组。本实用新型通过设置清洗机构，利用输送驱动步进电机驱动输送轨道运转，将待清洗的物料放置在输送轨道上，利用输送轨道将物料输送至清洗的位置，同时打开A面等离子发生器和B面等离子发生器，二者产生等离子后，由A面运动模组和B面运动模组按照设定的程序驱动二者往复运动，以此对物料的两面进行同步清理，无需将物料翻面，节约了时间，提高了清洗的效率。

Description

一种双面等离子清洗装置

技术领域

本实用新型涉及清洗装置技术领域，更具体地说是一种双面等离子清洗装置。

背景技术

当气体的温度不断升高时，构成气体分子的原子便会因此而发生分离，若温度进一步升高，原子中的电子便会因此而被剥离，这一过程就是原子的电离，原子发生电离之后就会形成等离子，电离过程使得物质发生了本质上的变化，物质已经不再是固态、液态或是气态，最终形成了等离子态，这一状态被称为物质的第四态。

现有技术中可以利用等离子发生器人工生成等离子，等离子态的物质具有良好的流动性和扩散性，根据它的一些特性，可以将其应用于各个领域，其中较为常见的就是等离子清洗装置，它是利用等离子体轰击物体表面来达到清洗的目的，清洗的过程中，当物体的一面清洗完毕后还需要将物体翻面来清洗另一面，十分不便。

实用新型内容

为了克服现有技术的上述缺陷，本实用新型提供一种双面等离子清洗装置，以解决上述背景技术中出现的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种双面等离子清洗装置，包括机台机架，所述机台机架顶部设有清洗机构；

所述清洗机构包括A面等离子发生器，所述A面等离子发生器设在机台机架顶部，所述A面等离子发生器底部设有B面等离子发生器，所述B面等离子发生器设在机台机架内部，所述B面等离子发生器一端延伸至机台机架顶部，所述机台机架顶端固定设有A面运动模组，所述A面等离子发生器设在A面运动模组上并通过A面运动模组与机台机架活动连接，所述机台机架一侧内壁上固定设有B面运动模组，所述B面等离子发生器设在B面运动模组上并通过B面运动模组与机台机架活动连接，所述A面运动模组和B面运动模组分别设在A面等离子发生器和B面等离子发生器一侧。

进一步地，所述A面等离子发生器一侧设有A面等离子发生器高度调节机构，所述A面等离子发生器与A面运动模组通过A面等离子发生器高度调节机构相连接。

进一步地，所述机台机架顶端固定设有两个输送轨道，所述输送轨道上设有输送驱动步进电机，所述输送驱动步进电机固定设在机台机架顶端，所述A面等离子发生器和B面等离子发生器设在两个输送轨道之间。

进一步地，其中一个所述输送轨道后侧设有抽风口，所述机台机架一侧固定设有控制面板。

进一步地，所述机台机架一侧固定设有风力舱，所述风力舱设在控制面板后侧，所述风力舱内部设有风扇，所述风扇外端与风力舱内壁固定连接，所述风力舱一侧固定设有排气管，所述排气管上固定设有阀门，所述排气管一端固定设有喷头。

进一步地，所述风力舱后侧固定设有进气管，所述进气管和排气管分别设在风扇两侧，所述进气管一端固定设有接头，所述接头一端固定设有固定环，所述固定环一侧固定设有密封圈，所述密封圈上镶嵌有多个磁铁。

本实用新型的技术效果和优点：

1、本实用新型通过设置清洗机构，在清洗过程中，利用输送驱动步进电机驱动输送轨道运转，将待清洗的物料放置在输送轨道上，利用输送轨道将物料输送至清洗的位置，同时打开A面等离子发生器和B面等离子发生器，二者产生等离子后，由A面运动模组和B面运动模组按照设定的程序驱动二者往复运动，以此对物料的两面进行同步清理，无需将物料翻面，节约了时间，提高了清洗的效率。

2、本实用新型通过将接头扣在抽风口外侧，密封圈将接头内部密封，磁铁则便于将接头直接吸附在抽风口上，而后打开风扇，风扇驱动气流移动，由于进气管和排气管分别位于风扇两侧，因此在风扇的引导下，清洗过程中的等离子便会通过抽风口被吸入接头中，而后经过进气管到达风力舱内部，随后等离子经过排气管到达喷头，再由喷头喷出，此时可控制喷头将等离子喷向机台机架外端，以此可利用等离子对设备的外端进行清洁，十分便利。

附图说明

图1为本实用新型的立体图。

图2为本实用新型的侧视图。

图3为本实用新型的俯视图。

图4为本实用新型的风力舱立体半剖图。

图5为本实用新型的接头立体半剖图。

附图标记为：1、A面运动模组；2、A面等离子发生器高度调节机构；3、A面等离子发生器；4、输送轨道；5、输送驱动步进电机；6、B面运动模组；7、B面等离子发生器；8、抽风口；9、机台机架；10、控制面板；11、接头；12、进气管；13、风力舱；14、排气管；15、喷头；16、风扇。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

参照说明书附图1-5，该实施例的一种双面等离子清洗装置，包括机台机架9，所述机台机架9顶部设有清洗机构；

所述清洗机构包括A面等离子发生器3，所述A面等离子发生器3设在机台机架9顶部，所述A面等离子发生器3底部设有B面等离子发生器7，所述B面等离子发生器7设在机台机架9内部，所述B面等离子发生器7一端延伸至机台机架9顶部，所述机台机架9顶端固定设有A面运动模组1，所述A面等离子发生器3设在A面运动模组1上并通过A面运动模组1与机台机架9活动连接，所述机台机架9一侧内壁上固定设有B面运动模组6，所述B面等离子发生器7设在B面运动模组6上并通过B面运动模组6与机台机架9活动连接，所述A面运动模组1和B面运动模组6分别设在A面等离子发生器3和B面等离子发生器7一侧。

所述A面等离子发生器3一侧设有A面等离子发生器高度调节机构2，所述A面等离子发生器3与A面运动模组1通过A面等离子发生器高度调节机构2相连接，通过A面等离子发生器高度调节机构2调节A面等离子发生器3的高度。

所述机台机架9顶端固定设有两个输送轨道4，所述输送轨道4上设有输送驱动步进电机5，所述输送驱动步进电机5固定设在机台机架9顶端，所述A面等离子发生器3和B面等离子发生器7设在两个输送轨道4之间，利用输送轨道4传输物料。

其中一个所述输送轨道4后侧设有抽风口8，所述机台机架9一侧固定设有控制面板10，通过控制面板10控制设备整体。

实施场景具体为：在进行清洗之前，首先转动A面等离子发生器高度调节机构2，A面等离子发生器高度调节机构2被转动后A面等离子发生器3的高度因此而得到了调节，进而对A面等离子发生器3和B面等离子发生器7之间的间距进行调节，以便于清洗厚度不同的物料，此外调节A面等离子发生器3的高度还可以对清洗过程中A面等离子发生器3一端与物料之间的距离进行调节，调节完毕后打开输送驱动步进电机5，输送驱动步进电机5开始工作后驱动输送轨道4开始运转，此时便可将物料放置在输送轨道4上，利用输送轨道4将物料输送至清洗的位置，同时A面运动模组1和B面运动模组6分别按照设定的程序开始运转，带动A面等离子发生器3和B面等离子发生器7往复运动，同时打开A面等离子发生器3和B面等离子发生器7，以此在运动的过程中产生等离子，对物料进行清洗，且清洗时，A面等离子发生器3和B面等离子发生器7分别位于物料的两面，以此对两面进行同步清洗，提高了清洗的效率，节约了清洗的时间，通过设置清洗机构，在清洗过程中，利用输送驱动步进电机5驱动输送轨道4运转，将待清洗的物料放置在输送轨道4上，利用输送轨道4将物料输送至清洗的位置，同时打开A面等离子发生器3和B面等离子发生器7，二者产生等离子后，由A面运动模组1和B面运动模组6按照设定的程序驱动二者往复运动，以此对物料的两面进行同步清理，无需将物料翻面，节约了时间，提高了清洗的效率。

参照说明书附图1-5，该实施例的一种双面等离子清洗装置，所述机台机架9一侧固定设有风力舱13，所述风力舱13设在控制面板10后侧，所述风力舱13内部设有风扇16，所述风扇16外端与风力舱13内壁固定连接，所述风力舱13一侧固定设有排气管14，所述排气管14上固定设有阀门，所述排气管14一端固定设有喷头15。

所述风力舱13后侧固定设有进气管12，所述进气管12和排气管14分别设在风扇16两侧，所述进气管12一端固定设有接头11，所述接头11一端固定设有固定环，所述固定环一侧固定设有密封圈，所述密封圈上镶嵌有多个磁铁，通过磁铁吸附抽风口8将接头11固定。

实施场景具体为：在任意一次的清洗的过程中，将接头11扣在抽风口8外侧，密封圈将接头11内部密封，磁铁则便于将接头11直接吸附在抽风口8上，而后打开风扇16，风扇16驱动气流移动，由于进气管12和排气管14分别位于风扇16两侧，因此在风扇16的引导下，清洗过程中的等离子便会通过抽风口8被吸入接头11中，而后经过进气管12到达风力舱13内部，随后等离子经过排气管14到达喷头15，再由喷头15喷出，此时可控制喷头15将等离子喷向机台机架9外端，以此可利用等离子对设备的外端进行清洁，十分便利。

最后应说明的几点是：首先，在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，可以是机械连接或电连接，也可以是两个元件内部的连通，可以是直接相连，“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变，则相对位置关系可能发生改变；

其次：本实用新型公开实施例附图中，只涉及到与本公开实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计，在不冲突情况下，本实用新型同一实施例及不同实施例可以相互组合；

最后：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种双面等离子清洗装置，包括机台机架(9)，其特征在于：所述机台机架(9)顶部设有清洗机构；

所述清洗机构包括A面等离子发生器(3)，所述A面等离子发生器(3)设在机台机架(9)顶部，所述A面等离子发生器(3)底部设有B面等离子发生器(7)，所述B面等离子发生器(7)设在机台机架(9)内部，所述B面等离子发生器(7)一端延伸至机台机架(9)顶部，所述机台机架(9)顶端固定设有A面运动模组(1)，所述A面等离子发生器(3)设在A面运动模组(1)上并通过A面运动模组(1)与机台机架(9)活动连接，所述机台机架(9)一侧内壁上固定设有B面运动模组(6)，所述B面等离子发生器(7)设在B面运动模组(6)上并通过B面运动模组(6)与机台机架(9)活动连接，所述A面运动模组(1)和B面运动模组(6)分别设在A面等离子发生器(3)和B面等离子发生器(7)一侧。

2.根据权利要求1所述的一种双面等离子清洗装置，其特征在于：所述A面等离子发生器(3)一侧设有A面等离子发生器高度调节机构(2)，所述A面等离子发生器(3)与A面运动模组(1)通过A面等离子发生器高度调节机构(2)相连接。

3.根据权利要求1所述的一种双面等离子清洗装置，其特征在于：所述机台机架(9)顶端固定设有两个输送轨道(4)，所述输送轨道(4)上设有输送驱动步进电机(5)，所述输送驱动步进电机(5)固定设在机台机架(9)顶端，所述A面等离子发生器(3)和B面等离子发生器(7)设在两个输送轨道(4)之间。

4.根据权利要求3所述的一种双面等离子清洗装置，其特征在于：其中一个所述输送轨道(4)后侧设有抽风口(8)，所述机台机架(9)一侧固定设有控制面板(10)。

5.根据权利要求4所述的一种双面等离子清洗装置，其特征在于：所述机台机架(9)一侧固定设有风力舱(13)，所述风力舱(13)设在控制面板(10)后侧，所述风力舱(13)内部设有风扇(16)，所述风扇(16)外端与风力舱(13)内壁固定连接，所述风力舱(13)一侧固定设有排气管(14)，所述排气管(14)上固定设有阀门，所述排气管(14)一端固定设有喷头(15)。

6.根据权利要求5所述的一种双面等离子清洗装置，其特征在于：所述风力舱(13)后侧固定设有进气管(12)，所述进气管(12)和排气管(14)分别设在风扇(16)两侧，所述进气管(12)一端固定设有接头(11)，所述接头(11)一端固定设有固定环，所述固定环一侧固定设有密封圈，所述密封圈上镶嵌有多个磁铁。

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