CN215295835U - 一种扩散氧化炉的载片装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种扩散氧化炉的载片装置，包括两个端板、两个上支撑杆和两个下支撑杆，两个上支撑杆和两个下支撑杆连接于两个端板之间围城一个方框结构，两个上支撑杆之间设有多个沿上支撑杆长度方向间隔布置的上支撑棒，两个下支撑杆之间设有多个沿下支撑杆长度方向间隔布置的下支撑棒，相邻两个上支撑棒下方对应两个下支撑棒且四者围成载片存放区，在载片存放区内，两个上支撑棒之间的间距大于两个下支撑棒之间的间距。本实用新型解决了在相同的工艺时间内产能受到限制的问题，提高了工艺效果和工艺质量。

Description

一种扩散氧化炉的载片装置

技术领域

本实用新型涉及太阳能电池片生产设备，尤其涉及一种扩散氧化炉的载片装置。

背景技术

太阳能电池是一种把太阳能直接转换为电能的新型电池。太阳能电池的制备过程中，依次需要经过制绒、扩散、氧化、刻蚀、镀膜以及印刷等工序。扩散氧化工艺是指硅片以载片装置为载体放入扩散氧化设备的反应炉中，在一定温度下向扩散氧化设备的反应炉中通入氮气和扩散源，从而在硅片表面扩散沉积PN结。

现有技术的载片装置通常采用一个舟托和多个舟架组成的方式，其中硅片的排列方式是沿载片装置在扩散氧化设备反应炉内进出方向水平排列。另一种方式是直接一个整体舟架，其中硅片的排列方式是沿载片装置在扩散氧化设备反应炉内进出方向竖直排列。现有载片装置受限于扩散氧化设备反应炉的空间大小和恒温区长度，相同的工艺时间内，单台设备的产能受到载片装置载片数量和自动化设备上下料节拍的限制。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种解决了在相同的工艺时间内产能受到限制的问题，提高了工艺效果和工艺质量的扩散氧化炉的载片装置。

为解决上述技术问题，本实用新型采用以下技术方案：

一种扩散氧化炉的载片装置，包括两个端板、两个上支撑杆和两个下支撑杆，两个上支撑杆和两个下支撑杆连接于两个端板之间围城一个方框结构，两个上支撑杆之间设有多个沿上支撑杆长度方向间隔布置的上支撑棒，两个下支撑杆之间设有多个沿下支撑杆长度方向间隔布置的下支撑棒，相邻两个上支撑棒下方对应两个下支撑棒且四者围成载片存放区，在载片存放区内，两个上支撑棒之间的间距大于两个下支撑棒之间的间距。

作为上述技术方案的进一步改进，所述载片装置还包括至少一个中间加强板，所述中间加强板设于两个端板之间，各上支撑杆和各下支撑杆支撑在中间加强板上。

作为上述技术方案的进一步改进，所述中间加强板设有透气孔或透气槽。

作为上述技术方案的进一步改进，所述端板和中间加强板的底部设有用于上料装置通过的上料避让槽。

作为上述技术方案的进一步改进，所述端板和中间加强板的底部均设有两个支撑角，两个支撑角之间具有间隙以形成供上料装置通过的上料避让槽。

作为上述技术方案的进一步改进，所述端板的外侧上设有抓耳。

作为上述技术方案的进一步改进，所述上支撑棒上设有多个用于卡放硅片的上卡槽，所述下支撑棒上设有多个用于卡放硅片的下卡槽。

作为上述技术方案的进一步改进，所述上卡槽和下卡槽均倾斜设置。

作为上述技术方案的进一步改进，所述端板与上支撑杆、下支撑杆之间为焊接连接，所述中间加强板与上支撑杆、下支撑杆之间为焊接连接，所述上支撑棒和上支撑杆之间为焊接连接，所述下支撑棒与下支撑杆之间为焊接连接。

作为上述技术方案的进一步改进，所述方框结构设置多个，多个方框结构依次拼接成一个整体，相邻两个方框结构通过前后两个端板固定连接。

与现有技术相比，本实用新型的优点在于：

本实用新型的载片装置，首先，硅片沿载片装置的宽度度方向排列，在相同长度的载片装置、适当增加宽度的情况下，硅片的存放数量增加，通过更改硅片的放置方向可以实现产能增加且不影响设备空间；其次，硅片列数增加，每一列长度段，更利于硅片受热；再有，载片装置的两个端板之间通过上支撑杆和下支撑杆3连接为方框结构，透气性好，硅片受热更快，利于工艺气体流通，气氛更均匀，提高了工艺效果效率和工艺质量；本实用新型的扩散氧化炉的载片装置不仅解决了在相同的工艺时间内产能受到限制的问题，还提高了工艺效果和工艺质量。

附图说明

图1是本实用新型实施例1的扩散氧化炉的载片装置的结构示意图。

图2是本实用新型实施例1中硅片与上支撑棒、下支撑棒的位置关系示意图。

图3是本实用新型实施例1中上卡槽、下卡槽的结构示意图。

图4是本实用新型实施例1的扩散氧化炉的载片装置装满硅片的状态示意图。

图中各标号表示：

1、端板；11、上料避让槽；12、两个支撑角；2、上支撑杆；3、下支撑杆；4、上支撑棒；41、上卡槽；5、下支撑棒；51、下卡槽；6、载片存放区；7、中间加强板；71、透气孔；8、抓耳；9、硅片。

具体实施方式

以下结合说明书附图和具体实施例对本实用新型作进一步详细说明。

实施例1

如图1至图4所示，本实施例的扩散氧化炉的载片装置，包括两个端板1、两个上支撑杆2和两个下支撑杆3，两个上支撑杆2和两个下支撑杆3连接于两个端板1之间围城一个方框结构。两个上支撑杆2之间设有多个沿上支撑杆2长度方向间隔布置的上支撑棒4，两个下支撑杆3之间设有多个沿下支撑杆3长度方向间隔布置的下支撑棒5，相邻两个上支撑棒4下方对应两个下支撑棒5且四者围成载片存放区6，在载片存放区6内，两个上支撑棒4之间的间距大于两个下支撑棒5之间的间距，便于支撑硅片9。本实施例以两个端板1之间设置10个载片存放区6为例。

使用时，硅片9竖向成排的插放在载片存放区6内，硅片9两侧靠在相邻两个上支撑棒4之间，硅片9底部支撑在两个下支撑棒5上。载片存放区6内的硅片与端板1垂直，硅片9即沿着载片装置的宽度方向排列，沿长度方向分成多列，每个载片存放区6内硅片9的数量和布置方式基本一致。而现有技术的载片装置，硅片9是沿载片装置的长度方向排列(即硅片与端板平行，成一行布置)，排列的长度长，硅片9的数量越多需要载片装置的产度就越长，产能受设备空间的限制，而且其硅片排列越长，硅片与硅片越密实，加热所需要时间长，造成工艺时间延长，降低了生产效率。本实用新型的载片装置，首先，硅片9沿载片装置的宽度度方向排列，在相同长度的载片装置、适当增加宽度的情况下，硅片9的存放数量增加，通过更改硅片9的放置方向可以实现产能增加且不影响设备空间；其次，硅片列数增加，每一列长度段，更利于硅片9受热；再有，载片装置的两个端板1之间通过上支撑杆2和下支撑杆3连接为方框结构，透气性好，硅片9受热更快，利于工艺气体流通，气氛更均匀，提高了工艺效果效率和工艺质量。本实用新型的扩散氧化炉的载片装置不仅解决了在相同的工艺时间内产能受到限制的问题，还提高了工艺效果和工艺质量。

在具体应用实例中，两个端板1之间至少一个中间加强板7，用于加强载片装置的强度。本实施例中，以中间加强板7设置两个为例。两个中间加强板7间隔设于两个端板1之间，各上支撑杆2和各下支撑杆3支撑在中间加强板7上。本实施例中，上支撑杆2和下支撑杆3穿设在中间加强板7上。端板1与上支撑杆2、下支撑杆3之间为焊接连接，中间加强板7与上支撑杆2、下支撑杆3之间为焊接连接，上支撑棒4和上支撑杆2之间为焊接连接，下支撑棒5与下支撑杆3之间为焊接连接，即载片装置为整体式结构，整体式结构更稳定牢靠，也便于存放更多的硅片9。

本实施例中，中间加强板7设有透气孔71，优选为方孔，数量根据实际需要设置，便于这个内部空间气体流动。需要说明的是，除本实施例外，也可以设置透气槽。

本实施例中，上支撑棒4上设有多个用于卡放硅片9的上卡槽41，下支撑棒5上设有多个用于卡放硅片9的下卡槽51。相邻两个上支撑棒4的上卡槽41相对布置。上卡槽41和下卡槽51用来对硅片9进行限位，防止硅片9移动，

优选的，上卡槽41和下卡槽51均倾斜设置。如图3所示，硅片9倾斜放置，卡槽的斜面可以分担硅片9的重力，减少硅片9受重力影响导致底部磨损。上支撑棒4优选为方形，下支撑棒5优选为圆形。

本实施例中，端板1和中间加强板7的底部均设有两个支撑角12，两个支撑角12之间具有间隙以形成供上料装置通过的上料避让槽11，上料装置为上料桨，上料时，上料桨从底部伸入上料避让槽11内抬起整个载片装置和硅片9。需要说明的是，除本实施例外，也可以是在端板1和中间加强板7的底部直接设置凹的上料避让槽11。

本实施例中，端板1的外侧上设有抓耳8。抓耳8的作用为方便对载片装置进行取放，抓耳8可以是圆柱形、方形等其它凸起形状。

实施例2

本实施例的扩散氧化炉的载片装置，与实施例1仅区别在于：

本实施例中，载片装置是分体式的，即将方框结构设置多个，多个方框结构依次拼接成一个整体，相邻两个方框结构通过前后两个端板1固定连接。单个方框结构的两个端板1中间不设置中间加强板7。

虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本实用新型。任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案范围的情况下，都可利用上述揭示的技术内容对本实用新型技术方案做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。因此，凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰，均应落在本实用新型技术方案保护的范围内。

Claims (10)

1.一种扩散氧化炉的载片装置，其特征在于：包括两个端板(1)、两个上支撑杆(2)和两个下支撑杆(3)，两个上支撑杆(2)和两个下支撑杆(3)连接于两个端板(1)之间围城一个方框结构，两个上支撑杆(2)之间设于多个沿上支撑杆(2)长度方向间隔布置的上支撑棒(4)，两个下支撑杆(3)之间设有多个沿下支撑杆(3)长度方向间隔布置的下支撑棒(5)，相邻两个上支撑棒(4)下方对应两个下支撑棒(5)且四者围成载片存放区(6)，在载片存放区(6)内，两个上支撑棒(4)之间的间距大于两个下支撑棒(5)之间的间距。

2.根据权利要求1所述的扩散氧化炉的载片装置，其特征在于：所述载片装置还包括至少一个中间加强板(7)，所述中间加强板(7)设于两个端板(1)之间，各上支撑杆(2)和各下支撑杆(3)支撑在中间加强板(7)上。

3.根据权利要求2所述的扩散氧化炉的载片装置，其特征在于：所述中间加强板(7)设有透气孔(71)或透气槽。

4.根据权利要求2所述的扩散氧化炉的载片装置，其特征在于：所述端板(1)和中间加强板(7)的底部设有用于上料装置通过的上料避让槽(11)。

5.根据权利要求2所述的扩散氧化炉的载片装置，其特征在于：所述端板(1)和中间加强板(7)的底部均设有两个支撑角(12)，两个支撑角(12)之间具有间隙以形成供上料装置通过的上料避让槽(11)。

6.根据权利要求1至5任意一项所述的扩散氧化炉的载片装置，其特征在于：所述端板(1)的外侧上设有抓耳(8)。

7.根据权利要求1至5任意一项所述的扩散氧化炉的载片装置，其特征在于：所述上支撑棒(4)上设有多个用于卡放硅片(9)的上卡槽(41)，所述下支撑棒(5)上设有多个用于卡放硅片(9)的下卡槽(51)。

8.根据权利要求7所述的扩散氧化炉的载片装置，其特征在于：所述上卡槽(41)和下卡槽(51)均倾斜设置。

9.根据权利要求2至5任意一项所述的扩散氧化炉的载片装置，其特征在于：所述端板(1)与上支撑杆(2)、下支撑杆(3)之间为焊接连接，所述中间加强板(7)与上支撑杆(2)、下支撑杆(3)之间为焊接连接，所述上支撑棒(4)和上支撑杆(2)之间为焊接连接，所述下支撑棒(5)与下支撑杆(3)之间为焊接连接。

10.根据权利要求1所述的扩散氧化炉的载片装置，其特征在于：所述方框结构设置多个，多个方框结构依次拼接成一个整体，相邻两个方框结构通过前后两个端板(1)固定连接。

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