CN215251123U - 一种低温物理气相沉积装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种低温物理气相沉积装置，包括底座、活动块、蒸镀箱、真空罩和空心块，底座顶端的两侧皆固定连接有立板，立板的顶端固定连接有顶板，立板底端一侧的中间位置活动连接有螺旋杆，螺旋杆的一侧安装有电机，活动块顶端的中间位置设置有放置台，活动块的顶端活动连接有蒸镀箱，顶板顶端的两侧皆固定连接有空心块，真空罩外部一侧的中间位置安装有控制面板。本实用新型通过在螺旋杆的外部活动连接的活动块，螺旋杆的转动可以使得活动块带动蒸镀箱在螺旋杆上移动，从而使蒸镀箱内部蒸发物气体可以任意调节工作位置，使得可以均匀的进行蒸发物沉积，且可以进行局部位置的蒸镀作业。

Description

一种低温物理气相沉积装置

技术领域

本实用新型涉及气相沉积装置技术领域，具体为一种低温物理气相沉积装置。

背景技术

物理气相沉积是用物理的方法(如蒸发、溅射等)使镀膜材料气化，在基体表面沉积成膜的方法。除传统的真空蒸发和溅射沉积技术外，还包括近30多年来蓬勃发展起来的各种离子束沉积，离子镀和离子束辅助沉积技术，各种沉积技术的不同点主要表现为在上述三个环节中能源供给方式不同，同一气相转变的机制不同，气粒子形态不同，气相粒子荷能大小不同，气相粒子在输运过程中能量补给的方式及粒子形态转变不同，镀料粒子与反应气体的反应活性不同，以及沉积成膜的基体表面条件不同而已。

在物理气相沉积过程中会用到相应的气相沉积装置，随着社会的发展，物理气相沉积装置的种类也越来越多，已逐步满足了正常的使用需求，但现有的物理气相沉积装置，在使用过程中镀膜的蒸发物沉积不均且镀膜质量不佳，且不能进行局部范围的蒸镀作业。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种低温物理气相沉积装置，以解决上述背景技术中提出的不能进行局部范围的蒸镀作业的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种低温物理气相沉积装置，包括底座、活动块、蒸镀箱、真空罩和空心块，所述底座顶端的两侧皆固定连接有立板，所述立板的顶端固定连接有顶板，所述立板底端一侧的中间位置活动连接有螺旋杆，所述螺旋杆的一侧安装有电机，所述立板底端的两侧皆固定连接有导向杆，所述螺旋杆的外部活动连接有活动块，所述活动块顶端的中间位置设置有放置台，所述活动块的顶端活动连接有蒸镀箱，所述顶板顶端的两侧皆固定连接有空心块，所述底座的顶端活动连接有真空罩，所述真空罩外部一侧的中间位置安装有气泵，所述气泵的顶端固定连接有导管，所述真空罩外部一侧的中间位置安装有控制面板。

优选的，所述活动块内部的中间位置固定连接有螺旋套，所述活动块内部的顶端设置有放置槽。

优选的，所述螺旋套的内部设置有内螺纹，所述螺旋杆的外部设置有与螺旋套内螺纹匹配的外螺纹。

优选的，所述放置槽的两侧皆设置有竖向槽，所述竖向槽底端的一侧设置有横向槽，蒸镀箱可以带动固定块卡入竖向槽内部，然后再使固定块滑入横向槽内部，从而实现蒸镀箱的固定。

优选的，所述蒸镀箱的顶端固定连接有导流盘，所述蒸镀箱内部的两侧皆安装有电热丝。

优选的，所述蒸镀箱外部底端的两侧皆固定连接有固定块，所述固定块的外径大小与竖向槽和横向槽的内径大小相匹配。

优选的，所述空心块内部的底端固定连接有弹簧，所述弹簧的顶端滑动连接有滑动块。

优选的，所述滑动块的底端固定连接有支杆，所述支杆底端的一侧固定连接有压板。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

(1)该种低温物理气相沉积装置，通过在螺旋杆的外部活动连接的活动块，螺旋杆的转动可以使得活动块带动蒸镀箱在螺旋杆上移动，从而使蒸镀箱内部蒸发物气体可以任意调节工作位置，使得可以均匀的进行蒸发物沉积，且可以进行局部位置的蒸镀作业。

(2)该种低温物理气相沉积装置，通过在顶板顶端的两侧固定连接的空心块，可以将基片置于压板的顶端，且压板会受到弹簧的弹力效果，从而使压板可以对置于其顶端的基片进行挤压限位，从而可以方便的对基片进行限位操作。

(3)该种低温物理气相沉积装置，通过在蒸镀箱两侧的底端固定连接的固定块，蒸镀箱可以带动固定块滑入竖向槽内部，且蒸镀箱可以带动固定块在放置槽内部滑动，则蒸镀箱可以带动固定块滑入横向槽内部，从而实现蒸镀箱安装在活动块的顶端，同理可对其拆卸，则可以方便的进行蒸发物的补充更换操作。

附图说明

图1为本实用新型的正视结构示意图；

图2为本实用新型的蒸镀箱展开结构示意图；

图3为本实用新型的活动块俯视结构示意图；

图4为本实用新型图1中A处放大结构示意图。

图中：1、底座；101、螺旋杆；102、电机；103、顶板；104、立板；105、导向杆；2、活动块；201、螺旋套；202、放置台；203、竖向槽；204、放置槽；205、横向槽；3、蒸镀箱；301、导流盘；302、电热丝；303、固定块；4、气泵；401、导管；5、真空罩；6、控制面板；7、空心块；701、滑动块；702、压板；703、支杆；704、弹簧。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-4，本实用新型提供的一种实施例：一种低温物理气相沉积装置，包括底座1、活动块2、蒸镀箱3、真空罩5和空心块7，底座1顶端的两侧皆固定连接有立板104，立板104的顶端固定连接有顶板103，立板104底端一侧的中间位置活动连接有螺旋杆101，螺旋杆101的一侧安装有电机102，立板104底端的两侧皆固定连接有导向杆105，螺旋杆101的外部活动连接有活动块2，活动块2内部的中间位置固定连接有螺旋套201，螺旋套201的内部设置有内螺纹，螺旋杆101的外部设置有与螺旋套201内螺纹匹配的外螺纹，电机102可以带动螺旋杆101转动，使螺旋杆101外部连接的螺旋套201可以带动活动块2在螺旋杆101上移动，从而可以调节蒸镀箱3的位置；

活动块2内部的顶端设置有放置槽204，放置槽204的两侧皆设置有竖向槽203，竖向槽203底端的一侧设置有横向槽205，活动块2顶端的中间位置设置有放置台202，活动块2的顶端活动连接有蒸镀箱3，蒸镀箱3外部底端的两侧皆固定连接有固定块303，固定块303的外径大小与竖向槽203和横向槽205的内径大小相匹配，蒸镀箱3可以卡入放置槽204内部，且蒸镀箱3会带动固定块303滑入竖向槽203内部，此时蒸镀箱3可以带动固定块303在放置槽204内部转动，使蒸镀箱3可以带动固定块303滑入横向槽205内部，从而实现蒸镀箱3安装在活动块2的顶端；

蒸镀箱3的顶端固定连接有导流盘301，蒸镀箱3内部的两侧皆安装有电热丝302，电热丝302可以对蒸发物进行加热，使其可以蒸发，然后蒸发气体会通过导流盘301喷向基片；

顶板103顶端的两侧皆固定连接有空心块7，空心块7内部的底端固定连接有弹簧704，弹簧704的顶端滑动连接有滑动块701，滑动块701的底端固定连接有支杆703，支杆703底端的一侧固定连接有压板702，可以拉动两侧的压板702向下移动，使压板702可以通过支杆703带动滑动块701挤压弹簧704，并将基片置于压板702的顶端，则压板702会受到弹簧704的弹力对基片进行挤压限位；

底座1的顶端活动连接有真空罩5，真空罩5外部一侧的中间位置安装有气泵4，气泵4的顶端固定连接有导管401，真空罩5外部一侧的中间位置安装有控制面板6，气泵4会通过导管401将装置内部抽成真空，且真空效果会使真空罩5固定盖在底座1的顶端。

本申请实施例在使用时，可以将真空罩5移开，然后可以拉动两侧的压板702向下移动，使压板702可以通过支杆703带动滑动块701挤压弹簧704，并将基片置于压板702的顶端，则压板702会受到弹簧704的弹力对基片进行挤压限位，然后可以将待蒸发物置于放置台202的顶端，然后蒸镀箱3可以卡入放置槽204内部，且蒸镀箱3会带动固定块303滑入竖向槽203内部，此时蒸镀箱3可以带动固定块303在放置槽204内部转动，使蒸镀箱3可以带动固定块303滑入横向槽205内部，从而实现蒸镀箱3安装在活动块2的顶端，然后可以再将真空罩5盖在底座1的顶端，且气泵4会通过导管401将装置内部抽成真空，此时电热丝302可以对蒸发物进行加热，使其可以蒸发，然后蒸发气体会通过导流盘301喷向基片，并附着在基片上，且电机102可以带动螺旋杆101转动，使螺旋杆101外部连接的螺旋套201可以带动活动块2在螺旋杆101上移动，从而可以调节蒸镀箱3的位置，则可以均匀的进行蒸发物沉积，且可以进行局部位置的蒸镀作业。

Claims (8)

1.一种低温物理气相沉积装置，其特征在于：包括底座(1)、活动块(2)、蒸镀箱(3)、真空罩(5)和空心块(7)，所述底座(1)顶端的两侧皆固定连接有立板(104)，所述立板(104)的顶端固定连接有顶板(103)，所述立板(104)底端一侧的中间位置活动连接有螺旋杆(101)，所述螺旋杆(101)的一侧安装有电机(102)，所述立板(104)底端的两侧皆固定连接有导向杆(105)，所述螺旋杆(101)的外部活动连接有活动块(2)，所述活动块(2)顶端的中间位置设置有放置台(202)，所述活动块(2)的顶端活动连接有蒸镀箱(3)，所述顶板(103)顶端的两侧皆固定连接有空心块(7)，所述底座(1)的顶端活动连接有真空罩(5)，所述真空罩(5)外部一侧的中间位置安装有气泵(4)，所述气泵(4)的顶端固定连接有导管(401)，所述真空罩(5)外部一侧的中间位置安装有控制面板(6)。

2.根据权利要求1所述的一种低温物理气相沉积装置，其特征在于：所述活动块(2)内部的中间位置固定连接有螺旋套(201)，所述活动块(2)内部的顶端设置有放置槽(204)。

3.根据权利要求2所述的一种低温物理气相沉积装置，其特征在于：所述螺旋套(201)的内部设置有内螺纹，所述螺旋杆(101)的外部设置有与螺旋套(201)内螺纹匹配的外螺纹。

4.根据权利要求2所述的一种低温物理气相沉积装置，其特征在于：所述放置槽(204)的两侧皆设置有竖向槽(203)，所述竖向槽(203)底端的一侧设置有横向槽(205)。

5.根据权利要求1所述的一种低温物理气相沉积装置，其特征在于：所述蒸镀箱(3)的顶端固定连接有导流盘(301)，所述蒸镀箱(3)内部的两侧皆安装有电热丝(302)。

6.根据权利要求1所述的一种低温物理气相沉积装置，其特征在于：所述蒸镀箱(3)外部底端的两侧皆固定连接有固定块(303)，所述固定块(303)的外径大小与竖向槽(203)和横向槽(205)的内径大小相匹配。

7.根据权利要求1所述的一种低温物理气相沉积装置，其特征在于：所述空心块(7)内部的底端固定连接有弹簧(704)，所述弹簧(704)的顶端滑动连接有滑动块(701)。

8.根据权利要求7所述的一种低温物理气相沉积装置，其特征在于：所述滑动块(701)的底端固定连接有支杆(703)，所述支杆(703)底端的一侧固定连接有压板(702)。

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