CN214979134U - 双砼缸定位设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及工程机械领域，公开了一种双砼缸定位设备，其中，所述双砼缸定位设备包括分别用于支撑两个平行的砼缸(100)的支撑组件(10)、调整两个所述支撑组件之间的水平距离的第一调整装置(20)以及调整所述支撑组件的高度的第二调整装置(30)，所述支撑组件包括对称设置的接触面(11)，所述接触面与所述砼缸相切地接触。通过使接触面与砼缸相切地接触，一方面可以定位精确地支撑砼缸，另一方面可以确定接触面与砼缸接触的位置，继而可以确定砼缸的中心线的位置，以便通过第一调整装置和第二调整装置调整两个砼缸的中心线的高度和彼此之间的距离，使得两个砼缸获得精确的装配定位。

Description

双砼缸定位设备

技术领域

本实用新型涉及工程机械领域，具体地涉及双砼缸定位设备。

背景技术

混凝土泵车是建筑作业中重要的工程机械，其泵送单元是用于泵送物料的主要机构。具体的，泵送单元包括料斗、砼缸、水箱、油缸组件等，料斗与砼缸连接。装配时，通常先将料斗预定位(例如通过吊具吊装定位)，然后装配砼缸，再装配水箱、油缸组件等。当料斗装配定位不精确时，与砼缸装配时，一方面容易导致砼缸与料斗装配孔的碰撞，损坏精密零部件；另一方面可能导致料斗的砼缸装配孔与砼缸的轴线不平行，且该误差在砼缸与水箱、油缸组件的依次连接的长跨距配合情况下被放大，导致砼缸装配孔、砼缸、水箱、油缸组件的长跨距同轴度无法保证，需要人工反复调整各部件的定位，效率低下且劳动强度大

实用新型内容

本实用新型的目的是为了克服现有技术存在的泵送单元装配效率低下的问题，提供一种双砼缸定位设备，以提高装配效率。

为了实现上述目的，本实用新型提供一种双砼缸定位设备，其中，所述双砼缸定位设备包括分别用于支撑两个平行的砼缸的支撑组件、调整两个所述支撑组件之间的水平距离的第一调整装置以及调整所述支撑组件的高度的第二调整装置，所述支撑组件包括对称设置的接触面，所述接触面与所述砼缸相切地接触。

可选的，所述双砼缸定位设备包括控制所述第一调整装置和所述第二调整装置的控制装置以及用于识别支撑在所述支撑组件上的砼缸的中心线位置的识别装置，所述识别装置与所述控制装置电连接。

可选的，所述识别装置包括用于识别所述接触面与所述砼缸的接触位置的识别单元。

可选的，所述支撑组件包括V型块，所述接触面为所述V型块的相对的斜面。

可选的，每个所述支撑组件包括沿砼缸的轴向间隔设置的两个所述V型块。

可选的，所述双砼缸定位设备包括沿砼缸的轴向间隔设置在所述V型块之间的缓冲支撑组件。

可选的，所述缓冲支撑组件包括支架、弹性件和通过所述弹性件安装于所述支架的支撑件。

可选的，所述双砼缸定位设备包括移动平台和安装平台，所述支撑组件安装于所述移动平台，所述移动平台通过所述第二调整装置安装于所述安装平台，以能够相对于所述安装平台升降。

可选的，所述移动平台上设置有导轨，所述支撑组件设置有滑块，所述第一调整装置驱动所述滑块沿所述导轨移动。

可选的，所述双砼缸定位设备包括分别用于调整两个所述支撑组件的所述第一调整装置。

通过上述技术方案，通过使接触面与砼缸相切地接触，一方面可以定位精确地支撑砼缸，另一方面可以确定接触面与砼缸接触的位置，继而可以确定砼缸的中心线的位置，以便通过第一调整装置和第二调整装置调整两个砼缸的中心线的高度和彼此之间的距离，使得两个砼缸获得精确的装配定位。

附图说明

图1是本申请的双砼缸定位设备的一种实施方式的立体图；

图2是图1的主视图；

图3是显示识别砼缸中心线的原理的示意图；

图4是说明调整图1中支撑组件的位置的流程图。

附图标记说明

10、支撑组件；11、接触面；12、V型块；20、第一调整装置；30、第二调整装置；40、缓冲支撑组件；41、支架；42、弹性件；43、支撑件；50、移动平台；51、导轨；60、安装平台；70、底架；100、砼缸。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限制本实用新型。

在本实用新型中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上、下、左、右”通常是指参考附图所示的上、下、左、右；“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内、外。下面将参考附图并结合实施方式来详细说明本申请。

本申请提供一种双砼缸定位设备，其中，所述双砼缸定位设备包括分别用于支撑两个平行的砼缸100的支撑组件10、调整两个所述支撑组件10之间的水平距离的第一调整装置20以及调整所述支撑组件10的高度的第二调整装置30，所述支撑组件10包括对称设置的接触面11，所述接触面11与所述砼缸100相切地接触。

本申请的双砼缸定位设备，通过使接触面11与砼缸100相切地接触，一方面可以定位精确地支撑砼缸100，另一方面可以确定接触面11与砼缸100接触的位置，继而可以确定砼缸100的中心线的位置，以便通过第一调整装置20和第二调整装置30调整两个砼缸100的中心线的高度和彼此之间的距离，使得两个砼缸100获得精确的装配定位。

装配泵送单元时，可以先分别定位料斗、砼缸100、水箱、油缸等部件，其中，砼缸100通过本申请的双砼缸定位设备定位，并可以根据相关部件(例如料斗、水箱)的定位参数调整两个砼缸100的中心线的高度和彼此之间的距离，以使定位后的砼缸100能够对准料斗和水箱的砼缸装配孔，从而只需要通过推送(也可以将料斗、水箱朝向砼缸100推送)即可到位，提高了定位精度且便于装配。

使用第一调整装置20和所述第二调整装置30调整位置前，需先确定支撑在支撑组件10上的砼缸100的中心线的位置。其中，可以人工识别或者测量，或者可以通过仪器识别以提高精度。此外，可以根据识别结果控制第一调整装置20和第二调整装置30的操作。具体的，所述双砼缸定位设备包括控制所述第一调整装置20和所述第二调整装置30的控制装置以及用于识别支撑在所述支撑组件10上的砼缸100的中心线位置的识别装置，所述识别装置与所述控制装置电连接。由此，可以通过识别装置识别砼缸100的中心线位置，控制装置可以根据识别装置的反馈相应控制第一调整装置20和第二调整装置30对支持组件100的位置进行相应调整，以使砼缸100的中心线的位置到达所需的定位位置(即，定位两个砼缸100的中心线之间的水平距离以及砼缸100的中心线的高度)。

其中，识别装置可以采用各种适当方式来识别砼缸100的中心线位置。优选地，所述识别装置包括用于识别所述接触面11与所述砼缸100的接触位置的识别单元。具体的，识别单元可以包括位于接触面11上的多个压力传感器，以使感测到压力的传感器向控制装置反馈信号。可选的，识别单元可以包括用于沿接触面11检测接触面11与砼缸100之间的距离的测距传感器，以在测距传感器检测到接触面11与砼缸100之间的距离为零时反馈信号。

可以理解的，本申请的双砼缸定位设备，通过接触面11可以与各种型号的砼缸100相切地接触，通过接触位置的不同，可以确定各砼缸100的中心线位置，以便调整到该型号的砼缸100的定位位置。

具体的，根据接触面11与砼缸100的接触位置，即可获得砼缸100的中心线位置。由于接触面11与砼缸100相切地接触，砼缸100的经过接触处的径向垂直于接触面11在接触处的部分，且分别经过两个对称的接触面11的接触处的径向直线必将交于砼缸100的中心线上。

其中，为与砼缸100相切地接触，接触面11可以为曲率连续变化的曲面，或者，接触面11可以为平面。为便于获得与接触面11在接触处垂直的径向直线，优选使用平面的接触面11，从而只需确定接触面11与砼缸100的接触位置即可方便获得经过接触位置的径向直线。

具体的，如图3所示，所述支撑组件10包括V型块12，所述接触面11为所述V型块12的相对的斜面。当砼缸100放置到V型块12上，砼缸100与V型块12的斜面相切地接触，在接触位置与斜面(即接触面11)垂直的直线即为砼缸100的截面上经过接触位置的径向直线。经过两个斜面的接触位置的径向直线相交于砼缸100的中心线上(即图3中O点)。因此，只要识别出接触面11与砼缸100的接触位置，沿垂直于接触面11的方向从接触位置移动砼缸100的外圆直径r，即到达砼缸100的中心线。控制装置可以设置相应的功能单元(例如计算单元)，以确定砼缸100的中心线相对于支撑组件10的位置参数，继而能够控制第一调整装置20和所述第二调整装置30进行相应的调整。

本申请中，为对砼缸100提供稳定支撑，每个所述支撑组件包括沿砼缸的轴向间隔设置的两个所述V型块12。即，每个砼缸100通过对应的支撑组件的两个V型块12支撑。其中，两个V型块12在沿轴向的水平方向上完全对准，识别砼缸100的中心线位置时，仅识别一个V型块12的接触面11与砼缸100的接触位置即可。

本申请中，接触面11为精确定位砼缸100的表面，为避免其在放置砼缸100的过程中因砼缸100的重力导致接触面11变形、损坏，如图1和图2所示，所述双砼缸定位设备包括沿砼缸100的轴向间隔设置在所述V型块12之间的缓冲支撑组件40。由此，当砼缸100放置到双砼缸定位设备上(即上机)时，砼缸100的外圆首先与缓冲支撑组件40接触，以减缓其重力对双砼缸定位设备(尤其是支撑组件10)的冲击。

其中，缓冲支撑组件40可以采用各种适当形式，只要能够提供缓冲支撑即可。例如，所述缓冲支撑组件40可以包括支架41、弹性件42和通过所述弹性件42安装于所述支架41的支撑件43。在砼缸100上机前，支撑件43的高度可以高于V型块12的顶面，以便在砼缸100上机时先与支撑件43接触而获得缓冲。

另外，为便于实现支撑组件10的位置调整，可以采用各种具体结构设置第一调整装置20和第二调整装置30。

例如，在图1和图2所示的实施方式中，所述双砼缸定位设备包括移动平台50和安装平台60，所述支撑组件10安装于所述移动平台50，所述移动平台50通过所述第二调整装置30安装于所述安装平台60，以能够相对于所述安装平台60升降。当需要调整支撑组件10的高度时，可以通过第二调整装置30升降移动平台50，从而带动支撑组件10升降。其中，第二调整装置30可以为各种适当的升降装置，例如垂直伺服驱动。其中，安装平台60可以通过底架70支撑在地面上。

另外，所述移动平台50上可以设置有导轨51，所述支撑组件10设置有滑块，所述第一调整装置20驱动所述滑块沿所述导轨51移动。由此，可以通过第一调整装置20驱动滑块，带动支撑组件10沿导轨51移动，以调整支撑组件10的水平位置，从而调整两个支撑组件10之间的水平距离。其中，第一调整装置20可以为各种适当形式，例如可以为气缸。

可以理解的，为简化调节过程，可以使两组支撑组件10始终保持对称，当需要调整二者的水平间距时，可以通过同时使二者彼此靠近或远离相同距离来实现调整。为此，所述双砼缸定位设备包括分别用于调整两个所述支撑组件10的所述第一调整装置20。具体的，在图1和图2所示的实施方式中，每个支撑组件10包括两个V型块12，每个V型块12通过滑块安装于导轨51，每个V型块12可以对应一个第一调整装置20，同一个支撑组件10的V型块12对应的第一调整装置20同步进行相同的控制，不同支撑组件10的V型块12对应的第一调整装置20同步进行反向移动控制。

下面参考附图说明本申请的双砼缸定位设备的操作。

如图4所示，首先，将砼缸100上机(即放置到双砼缸定位设备上通过支撑组件10和缓冲支撑组件40支撑)。然后，可以通过识别装置识别砼缸100的中心线位置，控制装置可以根据识别装置的反馈和输入的砼缸100的外直径(即外圆半径)r判断砼缸100的当前支撑位置(可以通过支撑组件100的当前位置确定)和所需定位的最终位置之间的偏差，继而确定需要通过第一调整装置20和第二调整装置30调整的距离，随后可以分别通过第一调整装置20和第二调整装置30进行水平方向和竖直方向的调整(可以先后进行或者同时进行，先后没有顺序)，使得砼缸100定位支撑在最终位置。

以上结合附图详细描述了本实用新型的优选实施方式，但是，本实用新型并不限于此。在本实用新型的技术构思范围内，可以对本实用新型的技术方案进行多种简单变型。本申请包括各个具体技术特征以任何合适的方式进行组合。为了避免不必要的重复，本实用新型对各种可能的组合方式不再另行说明。但这些简单变型和组合同样应当视为本实用新型所公开的内容，均属于本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种双砼缸定位设备，其特征在于，所述双砼缸定位设备包括分别用于支撑两个平行的砼缸(100)的支撑组件(10)、调整两个所述支撑组件(10)之间的水平距离的第一调整装置(20)以及调整所述支撑组件(10)的高度的第二调整装置(30)，所述支撑组件(10)包括对称设置的接触面(11)，所述接触面(11)与所述砼缸(100)相切地接触。

2.根据权利要求1所述的双砼缸定位设备，其特征在于，所述双砼缸定位设备包括控制所述第一调整装置(20)和所述第二调整装置(30)的控制装置以及用于识别支撑在所述支撑组件(10)上的砼缸(100)的中心线位置的识别装置，所述识别装置与所述控制装置电连接。

3.根据权利要求2所述的双砼缸定位设备，其特征在于，所述识别装置包括用于识别所述接触面(11)与所述砼缸(100)的接触位置的识别单元。

4.根据权利要求1-3中任意一项所述的双砼缸定位设备，其特征在于，所述支撑组件(10)包括V型块(12)，所述接触面(11)为所述V型块(12)的相对的斜面。

5.根据权利要求4所述的双砼缸定位设备，其特征在于，每个所述支撑组件包括沿砼缸的轴向间隔设置的两个所述V型块(12)。

6.根据权利要求5所述的双砼缸定位设备，其特征在于，所述双砼缸定位设备包括沿砼缸(100)的轴向间隔设置在所述V型块(12)之间的缓冲支撑组件(40)。

7.根据权利要求6所述的双砼缸定位设备，其特征在于，所述缓冲支撑组件(40)包括支架(41)、弹性件(42)和通过所述弹性件(42)安装于所述支架(41)的支撑件(43)。

8.根据权利要求1-3中任意一项所述的双砼缸定位设备，其特征在于，所述双砼缸定位设备包括移动平台(50)和安装平台(60)，所述支撑组件(10)安装于所述移动平台(50)，所述移动平台(50)通过所述第二调整装置(30)安装于所述安装平台(60)，以能够相对于所述安装平台(60)升降。

9.根据权利要求5所述的双砼缸定位设备，其特征在于，所述移动平台(50)上设置有导轨(51)，所述支撑组件(10)设置有滑块，所述第一调整装置(20)驱动所述滑块沿所述导轨(51)移动。

10.根据权利要求9所述的双砼缸定位设备，其特征在于，所述双砼缸定位设备包括分别用于调整两个所述支撑组件(10)的所述第一调整装置(20)。

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