CN214906482U - 一种清洁系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种清洁系统,包括表面清洁设备和基座,表面清洁设备包括直立手柄和可枢转连接到直立手柄的清洁头,清洁头包括前滚刷和后滚刷;基座包括基座本体,基座本体限定有用于容纳至少部分清洁头的容置空间,容置空间包括两个基本平行的容纳腔,两个容纳腔分别用于对接前滚刷和后滚刷,两个容纳腔之间壁面与清洁头的底壁共同限定有至少一个通道,用于将其中两个容纳腔导通。通过将两个容纳腔导通,可以同时对两个滚刷进行清理,提高清洁效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及清洁设备技术领域,尤其涉及一种清洁系统。
背景技术
随着生活水平的提高,人们对地面清洁的要求越来越高。目前,市场上有吸尘器、洗地机、蒸汽拖把等多种表面清洁设备,来满足不同的需求。洗地机作为既可以收集脏污、又可以对待清洁表面进行湿清洁,方便快捷。
市场上,洗地机大部分采用的是单滚刷的形式,一方面是采用单滚刷成本低,另一方面是因为双滚刷清洁起来比较困难。
实用新型内容
针对上述技术中存在的不足之处,本实用新型提供了一种具有双滚刷的清洁系统,可以有效地对两个滚刷同时进行清理。
一方面,本实用新型提供了一种清洁系统,包括
表面清洁设备,其包括直立手柄和可枢转连接到所述直立手柄的清洁头,所述清洁头包括前滚刷和后滚刷;
对接所述表面清洁设备的基座,所述基座包括基座本体,所述基座本体限定有用于容纳至少部分清洁头的容置空间,所述容置空间包括两个基本平行的容纳腔,两个所述容纳腔分别用于对接所述前滚刷和所述后滚刷,两个所述容纳腔之间的壁面高于所述容纳腔的底部;
其中,两个所述容纳腔之间的壁面形成有至少一个通道,用于将其中两个容纳腔导通。
在一个实施例中,所述壁面构造成波浪形,以形成多个导通所述容纳腔的通道。
在一个实施例中,沿所述滚刷的轴向方向,所述壁面的两侧设置有用于支撑所述清洁头的支撑台,所述支撑台的支撑面高于所述壁面。
在一个实施例中,所述表面清洁设备包括流体供应系统,所述流体供应系统配置成仅向所述前滚刷提供清洁液。
另一方面,本实用新型还提供了一种清洁系统,包括
表面清洁设备,其包括直立手柄和可枢转连接到所述直立手柄的清洁头,所述清洁头包括前滚刷和后滚刷;
对接所述表面清洁设备的基座,所述基座包括基座本体,基座本体限定有用于容纳至少部分清洁头的容置空间,所述容置空间包括两个基本平行的容纳腔,两个所述容纳腔分别用于对接所述前滚刷和所述后滚刷,其中,与所述后滚刷对应的容纳腔设置有用于刮擦所述后滚刷的刮擦结构。
在一个实施例中,所述表面清洁设备包括流体供应系统,所述流体供应系统配置成仅向所述前滚刷提供清洁液。
在一个实施例中,两个所述容纳腔之间的壁面形成有至少一个通道,用于将其中两个容纳腔导通。
在一个实施例中,所述刮擦结构为分布在所述容纳腔底部的多个凸起。
在一个实施例中,所述凸起沿滚刷径向方向凸出设置于所述容纳腔的底部。
在一个实施例中,所述凸起包括与所述后滚刷接触的刮擦面,所述刮擦面与所述后滚刷的旋转轴线呈预设角度。
本实用新型提供的清洁系统,包括表面清洁设备和基座,清洁设备包括直立手柄和可枢转连接到直立手柄的清洁头,清洁头包括前滚刷和后滚刷;基座包括基座本体,基座本体限定有用于容纳至少部分清洁头的容置空间,容置空间包括两个基本平行的容纳腔,两个容纳腔分别用于对接前滚刷和后滚刷,两个容纳腔之间壁面与清洁头的底壁共同限定有至少一个通道,用于将其中两个容纳腔导通。通过将两个容纳腔导通,可以同时对两个滚刷进行清理,提高清洁效率。
本实用新型提供的清洁系统包括表面清洁设备和基座,表面清洁设备包括直立手柄和可枢转连接到直立手柄的清洁头,清洁头包括前滚刷和后滚刷;基座包括基座本体,基座本体限定有用于容纳至少部分清洁头的容置空间,容置空间包括两个基本平行的容纳腔,两个容纳腔分别用于对接前滚刷和后滚刷,其中,与后滚刷对应的容纳腔设置有用于刮擦后滚刷的刮擦结构。通过在容纳腔内设置刮擦结构,可以有效提高基座的清洁能力。
附图说明
图1为本实用新型一实施例中的清洁系统的结构示意图;
图2为一实施例中基座的结构示意图;
图3为图2中A所示区域的局部放大图;
图4为基座沿滚刷的轴向方向的截面图;
图5为另一角度下基座的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
需要说明,若本实用新型实施例中有涉及方向性指示,则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。
另外,若本实用新型实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述,则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外,全文中出现的“和/或”的含义,包括三个并列的方案,以“A和/或B”为例,包括A方案、或B方案、或A和B同时满足的方案。另外,各个实施例之间的技术方案可以相互结合,但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础,当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在,也不在本实用新型要求的保护范围之内。
在本申请的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以通过具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
如图1-图5所示,本实用新型公开了一种清洁系统,其包括表面清洁设备100和对接表面清洁设备100的基座9。表面清洁设备100包括流体供应系统,流体供应系统一般包括清洁液箱、清洁液管路、水泵及喷嘴,水泵将清洁液箱内的清洁液通过管路泵送到喷嘴处,通过喷嘴将清洁液喷洒到待清洁表面或者表面清洁设备100的滚刷上,滚刷上一般设置有具有吸水功能的擦拭物,以对待清洁表面进行刮擦。表面清洁设备100还可以包括脏污回收系统,脏污回收系统一般包括产生抽吸气流的气流发生装置、抽吸管路和回收箱,气流发生装置产生抽吸气流,将脏污从抽吸口抽吸到回收箱内。表面清洁设备100包括直立手柄11和可枢转连接到直立手柄11的清洁头2,清洁头2包括前滚刷21和后滚刷22。在一个实施例中,喷嘴将清洁液喷射到前滚刷21上,将前滚刷打湿后对待清洁表面进行清洁。
基座9包括基座本体91,基座本体91限定有用于容纳至少部分清洁头2的容置空间,前滚刷21和后滚刷22的至少一部分可以放置到容置空间内,容置空间包括两个基本平行的容纳腔93,两个容纳腔93分别用于对接前滚刷21和后滚刷22,两个容纳腔93之间的壁面设置有至少一个通道932,用于将将两个容纳腔93导通,具体地,在表面清洁100设备对接到基座2后,两个容纳腔93之间的壁面931可以与清洁头2的底壁接合,共同限定有至少一个通道932。当然,壁面931也可以与清洁头2的底壁之间存在一点间隙,该间隙对通道的影响不大。在表面清洁设备100进行自清洁时,可以将两个容纳腔93内的液体同时抽吸到回收箱内,实现前滚刷21和后滚刷22的同时清洁。具体的自清洁操作流程如下:当表面清洁设备100与基座9对接后,用户通过按键可控制设备执行自清洁操作,此时,流体供应系统向滚刷提供清洁液,同时滚刷转动,通过刮条对滚刷的表面进行刮擦,将粘附到滚刷上的脏污刮出后由脏污回收系统回收到回收箱内。采用上述具有双滚刷的清洁系统,在清理完待清洁表面后,通过在基座9上的双容纳腔93之间设置通道932,离抽吸口较远的容纳腔93中的液体可以通过通道932快速有效地到达抽吸口(图中箭头为液体流动方向),以对两个滚刷同时进行自清洁。
在一个具体的实施例中,壁面931构造成波浪形,以与清洁头2的底壁限定有多个导通容纳腔93的通道932。通过设置多个通道932,多个通道沿滚刷的轴向方向均匀布置,将抽吸气流比较均匀的分布在滚刷上,避免因为气流不均匀而造成滚刷局部不干净,同时,采用波浪形,可以保证抽吸气流在对容纳腔93内的液体产生比较大的吸力,如果两个容纳腔93全部连通(即两个容纳腔93之间的部分完全成为一个腔体),此时需要很大的吸力才能将整个容置空间内的液体回收到回收箱中,如果吸力不够,很可能不能实现自清洁的功能。
为了进一步实现自清洁的效果,沿滚刷的轴向方向,壁面931的两侧设置有用于支撑清洁头2的支撑台933,支撑台933的支撑面高于壁面931。清洁头2通过支撑台933支撑到基座9上,可以实现清洁头2两侧与基座9之间比较好的密封,确保在滚刷处产生较大的抽吸气流,将容纳腔93内的液体快速的抽吸到回收箱内。在一个进一步地实施例中,支撑台933的上表面和/或与支撑台933上表面对应的清洁头2的下表面设置有密封条(图中未示出),可以实现良好的密封,进一步提高自清洁能力。
为了使待清洁表面快速干燥,流体供应系统配置成仅向前滚刷21提供清洁液。这样,通过前滚刷21对地面湿清洁后,由于后滚刷22相对来说是比较干燥的,可以通过后滚刷22对待清洁表面进行擦干,这样,通过湿滚刷擦完的地面就不会存在水渍,用户可以立即在上面行走,而不会产生印记。
参考图2-5,为了进一步提高滚刷的自清洁效果,与后滚刷22对应的容纳腔93设置有用于刮擦后滚刷22的刮擦结构934。可以理解的是,与前滚刷21对应的滚刷腔内同样可以设置刮擦结构934,提高前滚刷21的自清洁能力。
刮擦结构934为分布在容纳腔93底部的多个凸起。沿滚刷径向方向凸起垂直设置于容纳腔93的底部。多个凸起可以呈阵列式分布在底部,以在清洁头2对接到基座9后,凸起可以对旋转的滚刷进行刮擦。
凸起包括与后滚刷22接触的刮擦面935,为了尽量减少滚刷在自清洁时产生损坏,凸起的刮擦面935与后滚刷22的旋转轴线呈预设角度。在一个实施例中,凸起为矩形状,矩形的四个角均为圆形倒角,其中,有两个相邻的面为刮擦面,两个刮擦面均滚刷的旋转轴线呈预设角度,角度范围可以为30-60度之间的任意数值,当然,这个范围只是列举清洁效果好的角度,并不是限制该角度的范围。矩形的长边和短边均与滚刷的旋转轴线具有一定的角度,这样,在滚刷旋转的时候,可以有效减少滚刷表面刷毛的损伤,延长滚刷的使用周期。
尽管本实用新型的实施方案已公开如上,但其并不仅限于说明书和实施方式中所列运用,它完全可以被适用于各种适合本实用新型的领域,对于熟悉本领域的人员而言,可容易地实现另外的修改,因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下,本实用新型并不限于特定的细节和这里示出与描述的图例。
Claims (10)
1.一种清洁系统,其特征在于,包括
表面清洁设备,其包括直立手柄和可枢转连接到所述直立手柄的清洁头,所述清洁头包括前滚刷和后滚刷;
对接所述表面清洁设备的基座,所述基座包括基座本体,所述基座本体限定有用于容纳至少部分清洁头的容置空间,所述容置空间包括两个基本平行的容纳腔,两个所述容纳腔分别用于对接所述前滚刷和所述后滚刷,两个所述容纳腔之间的壁面高于所述容纳腔的底部;
其中,两个所述容纳腔之间的壁面形成有至少一个通道,用于将其中两个容纳腔导通。
2.如权利要求1所述的清洁系统,其特征在于,
所述壁面构造成波浪形,以形成多个导通两个所述容纳腔的通道。
3.如权利要求1所述的清洁系统,其特征在于,
沿所述滚刷的轴向方向,所述壁面的两侧设置有用于支撑所述清洁头的支撑台,所述支撑台的支撑面高于所述壁面。
4.如权利要求1所述的清洁系统,其特征在于,
所述表面清洁设备包括流体供应系统,所述流体供应系统配置成仅向所述前滚刷提供清洁液。
5.一种清洁系统,其特征在于,包括
表面清洁设备,其包括直立手柄和可枢转连接到所述直立手柄的清洁头,所述清洁头包括前滚刷和后滚刷;
对接所述表面清洁设备的基座,所述基座包括基座本体,基座本体限定有用于容纳至少部分清洁头的容置空间,所述容置空间包括两个基本平行的容纳腔,两个所述容纳腔分别用于对接所述前滚刷和所述后滚刷,其中,与所述后滚刷对应的容纳腔设置有用于刮擦所述后滚刷的刮擦结构。
6.如权利要求5所述的清洁系统,其特征在于,
所述表面清洁设备包括流体供应系统,所述流体供应系统配置成仅向所述前滚刷提供清洁液。
7.如权利要求5所述的清洁系统,其特征在于,
两个所述容纳腔之间的壁面形成有至少一个通道,用于将其中两个容纳腔导通。
8.如权利要求5所述的清洁系统,其特征在于,
所述刮擦结构为分布在所述容纳腔底部的多个凸起。
9.如权利要求8所述的清洁系统,其特征在于,
所述凸起沿滚刷径向方向凸出设置于所述容纳腔的底部。
10.如权利要求8所述的清洁系统,其特征在于,
所述凸起包括与所述后滚刷接触的刮擦面,所述刮擦面与所述后滚刷的旋转轴线呈预设角度。
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