CN214830650U - 一种pecvd镀膜装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型属于镀膜装置领域，尤其是一种PECVD镀膜装置，针对现有的镀膜装置不便于镀膜时提高镀膜的质量的问题，现提出如下方案，其包括底座，所述底座的顶部固定连接有两个支撑板，两个支撑板的一侧固定连接有同一个镀膜箱，所述镀膜箱的一侧固定连接有进气管和出气管，进气管和出气管的一端固定连接有同一个收集箱，进气管的一端固定连接有活性炭过滤板，且镀膜箱的一侧转动连接有门，所述底座的顶部固定连接有电机，电机的输出轴上固定连接有第一旋转柱，第一旋转柱上固定连接有两个第一锥齿轮，两个第一锥齿轮分别啮合有第二锥齿轮和第三锥齿轮，本实用新型便于镀膜时提高镀膜的质量，且结构简单，操作方便。
Description
技术领域
本实用新型涉及镀膜装置技术领域，尤其涉及一种PECVD镀膜装置。
背景技术
PECVD通过等离子放电产生活性基团来促进薄膜生成的反应，使某些原本需要在高温下进行的CVD镀膜反应可以在较低温度下进行。
现有的镀膜装置不便于镀膜时提高镀膜的质量，因此，我们提出了一种PECVD镀膜装置。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在不便于镀膜时提高镀膜的质量的缺点，而提出的一种PECVD镀膜装置。
为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
一种PECVD镀膜装置，包括底座，所述底座的顶部固定连接有两个支撑板，两个支撑板的一侧固定连接有同一个镀膜箱，所述镀膜箱的一侧固定连接有进气管和出气管，进气管和出气管的一端固定连接有同一个收集箱，进气管的一端固定连接有活性炭过滤板，且镀膜箱的一侧转动连接有门，所述底座的顶部固定连接有电机，电机的输出轴上固定连接有第一旋转柱，第一旋转柱上固定连接有两个第一锥齿轮，两个第一锥齿轮分别啮合有第二锥齿轮和第三锥齿轮，第二锥齿轮的顶部固定连接有第二旋转柱，第二旋转柱的一端延伸到镀膜箱内并固定连接有旋转板，所述第三锥齿轮的顶固定连接有第一旋转杆，第一旋转杆的一端延伸到出气管内并固定连接有第四锥齿轮，所述第四锥齿轮上啮合有第五锥齿轮，第五锥齿轮的一侧固定连接有第二旋转杆，第二旋转杆的一端固定连接有旋转叶，所述镀膜箱内设有旋转机构。
优选的，所述旋转机构包括凹槽、齿轮、齿环、网箱，多个凹槽均固定连接在旋转板内，齿轮转动连接在凹槽内，且多个齿轮与同一个齿环啮合，齿环固定连接在镀膜箱内，多个网箱均固定连接多个齿轮的顶部。
优选的，所述收集箱内固定连接有过滤板，收集箱的一侧固定连接有固定架，固定架的一端固定连接在镀膜箱的一侧，收集箱的底部固定连接有出料管，出料管上设有第一阀门。
优选的，所述镀膜箱的顶部固定连接有支撑架、射频电源和直流电源，支撑架的顶部固定连接有存储箱，存储箱的一侧固定连接有连接管并延伸到镀膜箱内，连接管上设有第二阀门。
优选的，所述底座的顶部固定连接有第一轴承，镀膜箱的底部固定连接有第二轴承，出气管内固定连接有第三轴承，第一轴承的内圈与第一旋转柱的外侧固定连接，第二轴承的内圈与第二旋转柱的外侧固定连接，第三轴承的内圈与第二旋转杆的外侧固定连接。
本实用新型中，所述一种PECVD镀膜装置的有益效果；
当需要进行镀膜时，先打开第二阀门，存储箱内的气体进入镀膜箱内，接着打开射频电源和直流电源对气体进行电击，接着电击后的气体与原件进行反应，且反应时产生毒气和粉尘影响镀膜质量，接着打开电机，电机带动第一旋转柱转动，第一旋转柱带动旋转板网箱转动，使原件与气体充分接触反应，旋转叶旋转并向右吹风将镀膜箱内的毒气和粉尘吸到收集箱内进行过滤，使气体进行循环处理，提高镀膜箱内的气体质量，进而提高原件镀膜质量；
本实用新型便于镀膜时提高镀膜的质量，且结构简单，操作方便。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种PECVD镀膜装置的结构示意图；
图2为本实用新型提出的一种PECVD镀膜装置的侧视结构示意图；
图3为本实用新型提出的一种PECVD镀膜装置的齿轮和齿环俯视结构示意图；
图4为本实用新型提出的一种PECVD镀膜装置的A部分放大结构示意图。
图中：1底座、2支撑板、3镀膜箱、4出料管、5进气管、6出气管、7收集箱、8固定架、9门、10电机、11第一旋转柱、12第一锥齿轮、13第二锥齿轮、14第三锥齿轮、15第二旋转柱、16旋转板、 17第一旋转杆、18第四锥齿轮、19第五锥齿轮、20第二旋转杆、21 旋转叶、22过滤板、23活性炭过滤板、24齿轮、25齿环、26网箱、 27支撑架、28存储箱、29连接管、30第一轴承、31射频电源、32 直流电源。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
参照图1-4，一种PECVD镀膜装置，包括底座1，底座1的顶部固定连接有两个支撑板2，两个支撑板2的一侧固定连接有同一个镀膜箱3，镀膜箱3的一侧固定连接有进气管5和出气管6，进气管5 和出气管6的一端固定连接有同一个收集箱7，进气管5的一端固定连接有活性炭过滤板23，且镀膜箱3的一侧转动连接有门9，底座1 的顶部固定连接有电机10，电机10的输出轴上固定连接有第一旋转柱11，第一旋转柱11上固定连接有两个第一锥齿轮12，两个第一锥齿轮12分别啮合有第二锥齿轮13和第三锥齿轮14，第二锥齿轮13 的顶部固定连接有第二旋转柱15，第二旋转柱15的一端延伸到镀膜箱3内并固定连接有旋转板16，第三锥齿轮14的顶固定连接有第一旋转杆17，第一旋转杆17的一端延伸到出气管6内并固定连接有第四锥齿轮18，第四锥齿轮18上啮合有第五锥齿轮19，第五锥齿轮 19的一侧固定连接有第二旋转杆20，第二旋转杆20的一端固定连接有旋转叶21，镀膜箱3内设有旋转机构。
本实用新型中，旋转机构包括凹槽、齿轮24、齿环25、网箱26，多个凹槽均固定连接在旋转板16内，齿轮24转动连接在凹槽内，且多个齿轮24与同一个齿环25啮合，齿环25固定连接在镀膜箱3内，多个网箱26均固定连接多个齿轮24的顶部。
本实用新型中，收集箱7内固定连接有过滤板22，收集箱7的一侧固定连接有固定架8，固定架8的一端固定连接在镀膜箱3的一侧，收集箱7的底部固定连接有出料管4，出料管4上设有第一阀门，过滤板22起过滤作用。
本实用新型中，镀膜箱3的顶部固定连接有支撑架27、射频电源31和直流电源32，支撑架27的顶部固定连接有存储箱28，存储箱28的一侧固定连接有连接管29并延伸到镀膜箱3内，连接管29 上设有第二阀门，频电源31和直流电源32相配合。
本实用新型中，底座1的顶部固定连接有第一轴承30，镀膜箱3 的底部固定连接有第二轴承，出气管6内固定连接有第三轴承，第一轴承30的内圈与第一旋转柱11的外侧固定连接，第二轴承的内圈与第二旋转柱15的外侧固定连接，第三轴承的内圈与第二旋转杆20的外侧固定连接，第一轴承30起稳定作用。
本实用新型中，当需要进行镀膜时，先打开门9，将原件放入网箱26内并关上门9，接着打开第二阀门，存储箱28内的气体进入连接管29，最后进入到镀膜箱3内，然后打开射频电源31和直流电源 32对气体进行电击，接着电击后的气体与原件进行反应，且反应时产生毒气和粉尘影响镀膜质量，接着打开电机10，电机10带动第一旋转柱11转动，第一旋转柱11带动两个第一锥齿轮12转动，两个第一锥齿轮12分别带动第二锥齿轮13和第三锥齿轮14转动，第二锥齿轮13带动第二旋转柱15转动，第二旋转柱15带动旋转板16转动，旋转板16带动多个齿轮24转动并与齿环25啮合，且带动多个齿轮24转动，多个齿轮24带动多个网箱26转动，网箱26转动使原件与气体充分接触反应，能够使原件外侧平均镀膜，同时，第三锥齿轮14带动第一旋转杆17转动，第一旋转杆17带动第四锥齿轮18转动，第四锥齿轮18带动第五锥齿轮19转动，第五锥齿轮19带动第二旋转杆20转动，第二旋转杆20带动旋转叶21转动，旋转叶21旋转并向右吹风将镀膜箱3内的毒气和粉尘吸到收集箱7内，再由过滤板22过滤将灰尘留下，毒气上升并穿过活性炭过滤板23过滤，将毒气过滤净化，接着气体进入到进气管5内，再进入到镀膜箱3内，使气体进行循环处理，提高镀膜箱3内的气体质量，进而提高原件镀膜质量。
以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种PECVD镀膜装置，包括底座(1)，其特征在于，所述底座(1)的顶部固定连接有两个支撑板(2)，两个支撑板(2)的一侧固定连接有同一个镀膜箱(3)，所述镀膜箱(3)的一侧固定连接有进气管(5)和出气管(6)，进气管(5)和出气管(6)的一端固定连接有同一个收集箱(7)，进气管(5)的一端固定连接有活性炭过滤板(23)，且镀膜箱(3)的一侧转动连接有门(9)，所述底座(1)的顶部固定连接有电机(10)，电机(10)的输出轴上固定连接有第一旋转柱(11)，第一旋转柱(11)上固定连接有两个第一锥齿轮(12)，两个第一锥齿轮(12)分别啮合有第二锥齿轮(13)和第三锥齿轮(14)，第二锥齿轮(13)的顶部固定连接有第二旋转柱(15)，第二旋转柱(15)的一端延伸到镀膜箱(3)内并固定连接有旋转板(16)，所述第三锥齿轮(14)的顶固定连接有第一旋转杆(17)，第一旋转杆(17)的一端延伸到出气管(6)内并固定连接有第四锥齿轮(18)，所述第四锥齿轮(18)上啮合有第五锥齿轮(19)，第五锥齿轮(19)的一侧固定连接有第二旋转杆(20)，第二旋转杆(20)的一端固定连接有旋转叶(21)，所述镀膜箱(3)内设有旋转机构。
2.根据权利要求1所述的一种PECVD镀膜装置，其特征在于，所述旋转机构包括凹槽、齿轮(24)、齿环(25)、网箱(26)，多个凹槽均固定连接在旋转板(16)内，齿轮(24)转动连接在凹槽内，且多个齿轮(24)与同一个齿环(25)啮合，齿环(25)固定连接在镀膜箱(3)内，多个网箱(26)均固定连接多个齿轮(24)的顶部。
3.根据权利要求1所述的一种PECVD镀膜装置，其特征在于，所述收集箱(7)内固定连接有过滤板(22)，收集箱(7)的一侧固定连接有固定架(8)，固定架(8)的一端固定连接在镀膜箱(3)的一侧，收集箱(7)的底部固定连接有出料管(4)，出料管(4)上设有第一阀门。
4.根据权利要求1所述的一种PECVD镀膜装置，其特征在于，所述镀膜箱(3)的顶部固定连接有支撑架(27)、射频电源(31)和直流电源(32)，支撑架(27)的顶部固定连接有存储箱(28)，存储箱(28)的一侧固定连接有连接管(29)，连接管(29)上设有第二阀门。
5.根据权利要求1所述的一种PECVD镀膜装置，其特征在于，所述底座(1)的顶部固定连接有第一轴承(30)，镀膜箱(3)的底部固定连接有第二轴承，出气管(6)内固定连接有第三轴承，第一轴承(30)的内圈与第一旋转柱(11)的外侧固定连接，第二轴承的内圈与第二旋转柱(15)的外侧固定连接，第三轴承的内圈与第二旋转杆(20)的外侧固定连接。
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