CN214782126U - 一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置，涉及真空镀膜技术领域。该磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置，包括工作台，所述工作台的内部设置有检正机构，检正机构的外侧设置有翻面机构，工作台的顶部固定安装有两组识别光栅。该磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置，能够对倒置的基片进行自动翻面处理，不需要人工进行操作，减轻了操作人员的劳动负担，提升了识别效率，能够在识别前对基片的尺寸进行测定，使得超尺寸的基片被拦截于装置外，避免出现加工错误的情况，同时还能对基片进行校正，确保其平直地被送入真空镀膜装置内进行镀膜，使基片镀膜均匀，保证镀膜质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜技术领域，具体为一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置。
背景技术
磁控溅射真空镀膜装置在对基片进行镀膜前需要对基片进行识别，一方面检验基片规格参数正确，避免出现加工错误情况，另一方面起到计数功能，但基片识别过程中，部分基片正反面颠倒，大多识别装置缺乏翻面功能，需要人工对基片进行翻面，影响识别效率，实用性较差，不利于推广和使用。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置，包括工作台，所述工作台的内部设置有检正机构，检正机构的外侧设置有翻面机构，工作台的顶部固定安装有两组识别光栅，工作台的两侧内壁上转动安装有五组承托辊，工作台的底部固定安装有弓形架。
优选的，所述翻面机构包括传动杆、翻面托杆、链轮、减速电机、链条、支架和导向辊，工作台的内侧底部固定安装有两组支座，两组支座之间转动安装有传动杆，传动杆的外壁上固定安装有两组翻面托杆，传动杆的一端延伸至工作台的后侧并固定安装有一组链轮，弓形架的内侧底部固定安装有减速电机，减速电机的输出轴通过联轴器固定安装有一组链轮，两组链轮上套设安装有链条，两组链轮通过链条传动连接，工作台的顶部固定安装有支架，支架的一侧外壁上固定安装有两组导向辊。
优选的，所述检正机构包括双向螺杆、导向杆、承载块、导向筒和摇把，工作台的两侧内壁上转动安装有两组双向螺杆和两组导向杆，双向螺杆上螺纹安装有两组承载块且呈中心对称分布，承载块上开设有穿孔，承载块穿过穿孔套设于导向杆上，承载块的顶部转动安装有两组导向筒，双向螺杆的一端延伸至工作台的外部并固定安装有摇把。
优选的，所述导向辊和导向筒的外壁上均套设安装有橡胶垫，减轻对基片造成的损伤，保证基片质量。
优选的，所述工作台的内侧底部设置有刻度线，刻度线位于双向螺杆的下方，方便操作人员根据基片规格调整两组导向筒之间的距离。
优选的，所述工作台的底部固定安装有四组支杆，工作台的底部与支杆的外壁之间固定安装有加强肋，提升支撑能力和稳定性。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
(1)、该磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置，通过传动杆、翻面托杆、减速电机、和导向辊的配合使用，能够对倒置的基片进行自动翻面处理，不需要人工进行操作，减轻了操作人员的劳动负担，提升了识别效率，为识别作业的安全、稳定运行提供保障，结构简单，使用便捷，利于推广和使用。
(2)、该磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置，通过双向螺杆、导向杆、承载块和导向筒的配合使用，能够在识别前对基片的尺寸进行测定，使得超尺寸的基片被拦截于装置外，避免出现加工错误的情况，同时还能对基片进行校正，确保其平直地被送入真空镀膜装置内进行镀膜，使基片镀膜均匀，保证镀膜质量，进一步提升了该装置的实用性和一体性。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为本实用新型的俯视图；
图3为本实用新型的A部放大图。
图中：1工作台、2翻面机构、201传动杆、202翻面托杆、203链轮、204减速电机、205链条、206支架、207导向辊、3检正机构、301双向螺杆、302导向杆、303承载块、304导向筒、305摇把、4识别光栅、5承托辊、6弓形架。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
实施例一：
请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置，包括工作台1，工作台1的内部设置有检正机构3，检正机构3的外侧设置有翻面机构2，工作台1的顶部固定安装有两组识别光栅4，工作台1的两侧内壁上转动安装有五组承托辊5，工作台1的底部固定安装有弓形架6。
进一步的，工作台1的底部固定安装有四组支杆，工作台1的底部与支杆的外壁之间固定安装有加强肋。
实施例二：
请参阅图1-3，在实施例一的基础上，翻面机构2包括传动杆201、翻面托杆202、链轮203、减速电机204、链条205、支架206和导向辊207，工作台1的内侧底部固定安装有两组支座，两组支座之间转动安装有传动杆201，传动杆201的外壁上固定安装有两组翻面托杆202，传动杆201的一端延伸至工作台1的后侧并固定安装有一组链轮203，弓形架6的内侧底部固定安装有减速电机204，减速电机204的输出轴通过联轴器固定安装有一组链轮203，两组链轮203上套设安装有链条205，两组链轮203通过链条205传动连接，工作台1的顶部固定安装有支架206，支架206的一侧外壁上固定安装有两组导向辊207，能够对倒置的基片进行自动翻面处理，不需要人工进行操作，减轻了操作人员的劳动负担，提升了识别效率，为识别作业的安全、稳定运行提供保障，提升识别效率和正确率。
进一步的，检正机构3包括双向螺杆301、导向杆302、承载块303、导向筒304和摇把305，工作台1的两侧内壁上转动安装有两组双向螺杆301和两组导向杆302，双向螺杆301上螺纹安装有两组承载块303且呈中心对称分布，承载块303上开设有穿孔，承载块303穿过穿孔套设于导向杆302上，承载块303的顶部转动安装有两组导向筒304，双向螺杆301的一端延伸至工作台1的外部并固定安装有摇把305，导向辊207和导向筒304的外壁上均套设安装有橡胶垫，能够在识别前对基片的尺寸进行测定，使得超尺寸的基片被拦截于装置外，避免出现加工错误的情况，同时还能对基片进行校正，确保其平直地被送入真空镀膜装置内进行镀膜，使基片镀膜均匀，保证镀膜质量，提升实用性。
再进一步的，工作台1的内侧底部设置有刻度线，刻度线位于双向螺杆301的下方。
工作原理：将该装置移动至输送基片的传送带处，基片从传送带上被送入工作台1内并搭接在承托辊5上，控制传送带停止对基片进行输送，摇动摇把305，带动双向螺杆301转动，螺纹安装于双向螺杆301上的两组承载块303在双向螺杆301的驱动以及导向杆302的限位作用下向内侧运动，当两组导向筒304与基片贴合后停止摇动，控制传送带继续对基片进行输送，位于前侧的一组识别光栅4对基片进行识别，识别通过后，基片被送入真空镀膜装置内，位于前侧的一组识别光栅4未识别时，控制传送带停止对基片进行输送，控制减速电机204启动，通过链轮203和链条205的传动作用带动传动杆201逆时针转动，翻面托杆202随之翻转，翻面托杆202顶动基片翻转，基片搭接于导向辊207上后，基片翻转，控制减速电机204带动传动杆201顺时针转动，传动杆201回归原位，基片翻面后重新搭接于承托辊5上，控制传送带继续对基片进行输送，位于后侧的一组识别光栅4对对基片进行再次识别。
Claims (6)
1.一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置，包括工作台(1)，其特征在于：所述工作台(1)的内部设置有检正机构(3)，检正机构(3)的外侧设置有翻面机构(2)，工作台(1)的顶部固定安装有两组识别光栅(4)，工作台(1)的两侧内壁上转动安装有五组承托辊(5)，工作台(1)的底部固定安装有弓形架(6)。
2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置，其特征在于：所述翻面机构(2)包括传动杆(201)、翻面托杆(202)、链轮(203)、减速电机(204)、链条(205)、支架(206)和导向辊(207)，工作台(1)的内侧底部固定安装有两组支座，两组支座之间转动安装有传动杆(201)，传动杆(201)的外壁上固定安装有两组翻面托杆(202)，传动杆(201)的一端延伸至工作台(1)的后侧并固定安装有一组链轮(203)，弓形架(6)的内侧底部固定安装有减速电机(204)，减速电机(204)的输出轴通过联轴器固定安装有一组链轮(203)，两组链轮(203)上套设安装有链条(205)，两组链轮(203)通过链条(205)传动连接，工作台(1)的顶部固定安装有支架(206)，支架(206)的一侧外壁上固定安装有两组导向辊(207)。
3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置，其特征在于：所述检正机构(3)包括双向螺杆(301)、导向杆(302)、承载块(303)、导向筒(304)和摇把(305)，工作台(1)的两侧内壁上转动安装有两组双向螺杆(301)和两组导向杆(302)，双向螺杆(301)上螺纹安装有两组承载块(303)且呈中心对称分布，承载块(303)上开设有穿孔，承载块(303)穿过穿孔套设于导向杆(302)上，承载块(303)的顶部转动安装有两组导向筒(304)，双向螺杆(301)的一端延伸至工作台(1)的外部并固定安装有摇把(305)。
4.根据权利要求2所述的一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置，其特征在于：所述导向辊(207)和导向筒(304)的外壁上均套设安装有橡胶垫。
5.根据权利要求1所述的一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置，其特征在于：所述工作台(1)的内侧底部设置有刻度线，刻度线位于双向螺杆(301)的下方。
6.根据权利要求1所述的一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置，其特征在于：所述工作台(1)的底部固定安装有四组支杆，工作台(1)的底部与支杆的外壁之间固定安装有加强肋。
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