CN214625093U - 发光器件和显示装置 - Google Patents

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CN214625093U CN202022433812.9U CN202022433812U CN214625093U CN 214625093 U CN214625093 U CN 214625093U CN 202022433812 U CN202022433812 U CN 202022433812U CN 214625093 U CN214625093 U CN 214625093U
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何宝轲
李端明
郜明浩
孙泉钦
黄冠军
张钦
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Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
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BOE Technology Group Co Ltd
Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
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Abstract

本公开提供了一种发光器件和显示装置,涉及显示技术领域。所述发光器件包括:发光单元,位于背板的一侧;和封装层,位于所述发光单元远离所述背板的一侧。封装层包括:第一无机层;第二无机层,位于所述第一无机层远离所述背板的一侧;有机层,位于所述第一无机层和所述第二无机层之间;和第三无机层,位于所述第一无机层和所述有机层之间。所述第一无机层的折射率、所述第三无机层的折射率和所述有机层的折射率依次减小。

Description

发光器件和显示装置
技术领域
本公开涉及显示技术领域,尤其涉及一种发光器件和显示装置。
背景技术
随着显示技术的发展,有机发光二极管(OLED)由于自身的优点发展迅速。
对于OLED等发光器件来说,发光效率是评价发光器件的性能的一个指标。
实用新型内容
相关技术中,为了提高发光器件的发光效率,通过对发光器件的封装层以下的层结构进行调节。
发明人注意到,这样的方式对发光效率的提升有限,且实现难度和成本较高。
为了进一步提高发光器件的发光效率,本公开实施例提供了如下技术方案。
根据本公开实施例的一方面,提供一种发光器件,包括:发光单元,位于背板的一侧;和封装层,位于所述发光单元远离所述背板的一侧。封装层包括:第一无机层;第二无机层,位于所述第一无机层远离所述背板的一侧;有机层,位于所述第一无机层和所述第二无机层之间;和第三无机层,位于所述第一无机层和所述有机层之间。所述第一无机层的折射率、所述第三无机层的折射率和所述有机层的折射率依次减小。
在一些实施例中,所述第三无机层包括至少一层,所述至少一层中的每一层的折射率为n1,所述第一无机层、所述至少一层和所述有机层中与所述至少一层中的每一层相邻的两层的折射率为n2和n3,(n1)2 与(n2×n3)之间的差值的绝对值大于或等于0、且小于0.1。
在一些实施例中,所述至少一层包括一层。
在一些实施例中,所述至少一层中的每一层的厚度d=(2K+1)*λ/4,K为整数,λ为所述发光单元发出的光的波长。
在一些实施例中,所述第一无机层、所述至少一层和所述有机层中的相邻两层的折射率的差值的绝对值的范围为0.01至0.1。
在一些实施例中,所述至少一层中的每一层的折射率范围为1.45至1.76。
在一些实施例中,所述至少一层包括:第一层,所述第一层的折射率范围为1.57至1.76;和第二层,位于所述第一层和所述有机层之间,所述第二层的折射率范围为1.45至1.55。
在一些实施例中,所述第一无机层的折射率范围为1.7至2;以及所述有机层的折射率范围为1.45至1.55。
在一些实施例中,所述至少一层中的每一层的厚度与所述第一无机层的厚度的比值范围为1:8至1:12。
在一些实施例中,所述至少一层中的每一层的厚度范围为20纳米至200纳米。
在一些实施例中,所述至少一层包括:第一层,所述第一层的厚度范围为50纳米至200纳米;和第二层,位于所述第一层和所述有机层之间。
在一些实施例中,所述第一无机层的厚度范围为500纳米至1500纳米;以及所述有机层的厚度范围为4微米至16微米。
在一些实施例中,所述第三无机层的材料包括氮氧化硅。
在一些实施例中,所述第一无机层的材料包括氮氧化硅。
在一些实施例中,所述发光单元包括微腔结构,所述微腔结构包括:阳极,位于所述背板的所述一侧;发光层,位于所述阳极远离所述背板的一侧;阴极,位于所述发光层远离所述阳极的一侧;和取光层,位于所述阴极远离所述发光层的一侧,所述取光层的折射率小于所述有机层的折射率。
在一些实施例中,所述第三无机层与所述有机层接触的表面具有凸起。
在一些实施例中,所述表面的轮廓算数平均偏差大于10纳米。
根据本公开实施例的另一方面,提供一种显示装置,包括:所述背板;多个像素单元,位于所述背板的所述一侧,所述多个像素单元中的至少一个像素单元包括上述任意一个实施例所述的发光器件。
根据本公开实施例的又一方面,提供一种发光器件的制造方法,包括:在背板的一侧形成发光单元;和在所述发光单元远离所述背板的一侧形成封装层,包括:形成第一无机层、在所述第一无机层远离所述背板的一侧形成第三无机层、在所述第三无机层远离所述第一无机层的一侧形成有机层和在所述有机层远离所述第三无机层的一侧形成第二无机层,其中,所述第一无机层的折射率、所述第三无机层的折射率和所述有机层的折射率依次减小。
在一些实施例中,形成所述第三无机层包括:利用化学气相沉积工艺形成所述第三无机层,并且在形成所述第三无机层的过程中施加的功率从非0的值在某一时刻变为0,以使得所述第三无机层与所述有机层接触的表面具有所述凸起。
本公开实施例提供的发光器件中,在封装层中,第一无机层的折射率、第三无机层的折射率和有机层的折射率依次减小。这样的封装层有利于提高光的透射率,从而提高发光器件的发光效率。
通过以下参照附图对本公开的示例性实施例的详细描述,本公开的其它特征、方面及其优点将会变得清楚。
附图说明
附图构成本说明书的一部分,其描述了本公开的示例性实施例,并且连同说明书一起用于解释本公开的原理。
参照附图,根据下面的详细描述,可以更加清楚地理解本公开,在附图中:
图1是示出根据本公开一个实施例的发光器件的结构示意图;
图2是示出根据本公开另一个实施例的发光器件的结构示意图;
图3是示出根据本公开又一个实施例的发光器件的结构示意图;
图4是示出根据本公开再一个实施例的发光器件的结构示意图;
图5是示出根据本公开一个实施例的发光器件的制造方法的流程示意图。
应当明白,附图中所示出的各个部分的尺寸并不必然是按照实际的比例关系绘制的。此外,相同或类似的参考标号表示相同或类似的构件。
具体实施方式
现在将参照附图来详细描述本公开的各种示例性实施例。对示例性实施例的描述仅仅是说明性的,决不作为对本公开及其应用或使用的任何限制。本公开可以以许多不同的形式实现,不限于这里所述的实施例。提供这些实施例是为了使本公开透彻且完整,并且向本领域技术人员充分表达本公开的范围。应注意到:除非另外具体说明,否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、材料的组分、数字表达式和数值应被解释为仅仅是示例性的,而不是作为限制。
本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性,而只是用来区分不同的部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指在该词前的要素涵盖在该词后列举的要素,并不排除也涵盖其他要素的可能。“上”、“下”等仅用于表示相对位置关系,当被描述对象的绝对位置改变后,则该相对位置关系也可能相应地改变。
在本公开中,当描述到特定部件位于第一部件和第二部件之间时,在该特定部件与第一部件或第二部件之间可以存在居间部件,也可以不存在居间部件。当描述到特定部件连接其它部件时,该特定部件可以与所述其它部件直接连接而不具有居间部件,也可以不与所述其它部件直接连接而具有居间部件。
本公开使用的所有术语(包括技术术语或者科学术语)与本公开所属领域的普通技术人员理解的含义相同,除非另外特别定义。还应当理解,在诸如通用字典中定义的术语应当被解释为具有与它们在相关技术的上下文中的含义相一致的含义,而不应用理想化或极度形式化的意义来解释,除非这里明确地这样定义。
对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论,但在适当情况下,所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。
本公开的发明人通过研究发现,通过调节发光器件的封装层中的有机层和无机层之间的折射率之间的关系,可以调节发光器件的发光效率和色偏。据此,本公开实施例提出了如下技术方案。
图1是示出根据本公开一个实施例的发光器件的结构示意图。
如图1所示,发光器件可以包括发光单元10和封装层20。
发光单元10位于背板BP的一侧。这里,背板BP中可以设置有用于驱动发光器件发光的驱动电路,驱动电路可以包括薄膜晶体管、电容器等部件。发光单元10例如可以包括红色发光单元R、绿色发光单元G或蓝色发光单元B。在一些实施例中,发光单元10可以是OLED。
封装层20位于发光单元10远离背板BP的一侧。封装层20例如可以是薄膜封装层。封装层20包括第一无机层21、第二无机层22、有机层23和第三无机层24。第二无机层22位于第一无机层21远离背板BP的一侧,有机层23位于第一无机层21和第二无机层22之间,第三无机层24位于第一无机层21和有机层23之间。第一无机层21的折射率、第三无机层24的折射率和有机层23的折射率依次减小。
在一些实施例中,第三无机层24的材料包括氮氧化硅。在一些实施例中,第一无机层21的材料包括氮氧化硅。在一些实施例中,第二无机层22的材料包括氮化硅。
上述实施例中,在封装层20中,第一无机层21的折射率、第三无机层24的折射率和有机层23的折射率依次减小。这样的封装层20有利于提高光的透射率,从而提高发光器件的发光效率。另外,这样的封装层20还有利于降低发光器件的色偏。
封装层20中的第三无机层24包括至少一层。例如,第三无机层24仅包括一层,如图1所示;又例如,第三无机层24包括多层,例如两层或更多层,如图2所示。在一些实施例中,在第三无机层24包括多层的情况下,第三无机层24的多层的折射率在从背板BP到发光单元10的方向上逐渐减小。
图2是示出根据本公开另一个实施例的发光器件的结构示意图。
如图2所示,第三无机层24包括第一层241和位于第一层241与有机层23之间的第二层242。应理解,第三无机层24还可以包括除第一层241和第二层242之外的更多层。
下面介绍第一无机层21、第三无机层24和有机层23的折射率的一些具体实现方式。
在下文中,为了描述方便,将第三无机层24中的每一层的折射率定义为n1,将第一无机层21、第三无机层24的至少一层和有机层23中与第三无机层24中的每一层相邻的两层的折射率定义为n2和n3。
例如,在第三无机层24仅包括一层的情况下,与第三无机层24相邻的两层为第一无机层21和有机层23。
又例如,在第三无机层24包括两层的情况下,与第三无机层24的两层中的一层相邻的两层为第一无机层21和有机层23中的一层、以及第三无机层24的两层中的另一层。
再例如,在第三无机层24包括三层的情况下,与第三无机层24的三层中的中间一层相邻的两层为三层中的另外两层,与第三无机层24的中间一层之外的另外两层中的一层相邻的两层为第一无机层21和有机层23中的一层、以及第三无机层24的另外两层中的另一层。
在一些实施例中,(n1)2与(n2×n3)之间的差值的绝对值大于或等于0、且小于0.1。这样的方式下,封装层20的第三无机层24中的每一层均有利于提高光的透射率,从而可以进一步提高发光器件的发光效率。
发明人还注意到,通过调节相邻两层的折射率的差值,可以更进一步提高光的透射率。在一些实施例中,第一无机层21、第三无机层24的至少一层和有机层23中的相邻两层的折射率的差值的绝对值的范围为0.01至0.1,例如,0.04、0.06等。如此,可以更进一步提高光的透射率。
例如,在第三无机层24仅包括一层的情况下,第一无机层21的折射率和第三无机层24的折射率的差值的绝对值的范围为0.01至0.1,有机层23的折射率和第三无机层24的折射率的差值的绝对值的范围为0.01至0.1。
又例如,在第三无机层24包括多层的情况下,第三无机层24中与第一无机层21相邻的一层的折射率与第一无机层21的折射率的差值的绝对值的范围为0.01至0.1,第三无机层24中与有机层23相邻的一层的折射率与有机层23的折射率的差值的绝对值的范围为0.01至0.1,第三无机层24中相邻的两层的折射率的差值的绝对值的范围为0.01至0.1。
在一些实施例中,第三无机层24中的每一层的折射率范围为1.45至1.76。例如,在第三无机层24包括图2所示的第一层241和第二层242的情况下,第一层241的折射率范围为1.57至1.76,例如1.6、1.65、1.7等;位于第一层241和有机层23之间的第二层242的折射率范围为1.45至1.55,例如1.5、1.52等。
在一些实施例中,第三无机层24中的每一层的折射率范围为1.45至1.76,例如,1.5、1.6、1.63、1.7等;第一无机层21的折射率范围为1.7至2,例如,1.73、1.8、1.9等;有机层23的折射率范围为1.45至1.55,例如,1.47、1.5、1.52等。在一些实施例中,第二无机层22的折射率范围为1.8至1.9,例如,1.84、1.85等。
在一些实施例中,(n1)2与(n2×n3)之间的差值的绝对值大于或等于0、且小于0.1,并且,第三无机层24中的每一层的厚度d=(2K+1)*λ/4,K为整数,λ为发光单元10发出的光的波长。这样的方式下,封装层20的第三无机层24中的每一层更有利于提高光的透射率,从而可以进一步提高发光器件的发光效率。作为一些实现方式,(n1)2与(n2×n3)之间的差值为0.03、0.05、0.07等。
发明人通过进一步研究发现,通过调节第三无机层24中的每一层的厚度与第一无机层21的厚度的比值,可以更进一步提高光的透射率。在一些实施例中,第三无机层24中的每一层的厚度与第一无机层21的厚度的比值范围为1:8至1:12,例如,1:4、1:6、1:10等。如此,可以更进一步提高光的透射率。
在一些实施例中,第三无机层24中的每一层的厚度范围为20纳米至200纳米,例如,40纳米、80纳米、150纳米等。例如,图2所示的第一层241的厚度范围为50纳米至200纳米,例如,100纳米、150纳米、180纳米等;图2所示的位于第一层241和有机层23之间的第二层242的厚度范围为20纳米至200纳米。
在一些实施例中,第三无机层24中的每一层的厚度范围为20纳米至200纳米,例如,40纳米、80纳米、150纳米等;第一无机层的厚度范围为500纳米至1500纳米,例如600纳米、800纳米、900纳米、1000纳米、1200纳米等;有机层23的厚度范围为4微米至16微米,例如,6微米、8微米、10微米、12微米等。在一些实施例中,第二无机层22的厚度为500纳米至800纳米,例如600纳米、700纳米等。
在一些实施例中,有机层23通过喷墨打印工艺形成,用于形成有机层23的原材料例如可以包括有机墨水。发明人注意到,有机层23的厚度降低有利于节约成本,但厚度的降低有可能会导致有机层23的平整度较差,进而导致发光器件在应用到显示装置中时产生显示不良。
鉴于以上问题,本公开实施例还提出了如下解决方案。
图3是示出根据本公开又一个实施例的发光器件的结构示意图。
与图1所示实施例相比,图3所示的第三无机层24与有机层23接触的表面24A具有凸起24AP。在一些实施例中,凸起24AP的数量可以为多个。凸起24AP的存在有利于提高用于形成有机层23的原材料的流动,从而使得有机层23在厚度降低的情况下,仍可以具有平整度高的表面。
在一些实施例中,第三无机层24与有机层23接触的表面24A的轮廓算数平均偏差(简称为Ra)大于10纳米,例如12纳米、15纳米、20纳米等。如此,可以在降低有机层23厚度的情况下保证有机层23具有平整度。例如,在表面24A的轮廓算数平均偏差为约15纳米的情况下,相同时间内有机墨水的扩散距离为约800微米,有机层23的厚度在4微米的情况下不会导致显示不良。
图4是示出根据本公开再一个实施例的发光器件的结构示意图。
与图3所示实施例相比,图4所示的第一无机层21与第三无机层24接触的表面21A具有凸起21AP。在一些实施例中,凸起21AP的数量可以为多个。
在图4所示情况下,第三无机层24可以保形地形成在第一无机层24的表面21A,从而使得第三无机层24与有机层203接触的表面24A具有凸起24AP。
在一些实施例中,参见图2至图4,发光单元10可以包括微腔结构。这里,微腔结构包括位于背板BP的一侧的阳极11、位于阳极11远离背板BP一侧的发光层12、位于发光层12远离阳极11一侧的阴极13和位于阴极13远离发光层12一侧的取光层14。在一些实施例中,发光单元10的微腔结构还包括空穴传输层、空穴注入层、电子传输层、电子注入层中的一层或多层。
这里,取光层14的折射率小于有机层23的折射率。在一些实施例中,取光层14的折射率范围为1.3至1.5,例如,1.35、1.4、1.45等。
在一些实施例中,取光层14的材料可以包括氟化锂(LiF)、硅的氧化物(例如二氧化硅)、三氧化二铝等。在一些实施例中,取光层14的厚度大于0纳米、小于或等于100纳米,例如为20纳米、50纳米、80纳米等。
在一些实施例中,发光层12的材料包括有机发光材料。
应理解,可以通过调整发光单元10中微腔结构的厚度(也可以称为光学长度),以使得特定波长的光干涉增强,从而使得发光单元10发出高亮度的光。例如,通过调整发光单元10中微腔结构的厚度,可以使得红色发光单元R发出高亮度的红光,绿色发光单元G发出高亮度的绿光,蓝色发光单元B发射出高亮度的蓝光。
上述实施例中,在发光单元10的微腔结构中,取光层14的折射率小于有机层23的折射率。另外,在封装层20中,第一无机层21的折射率、第三无机层24的折射率和有机层23的折射率依次减小。这样的发光单元10和封装层20可以更进一步提高光的透射率,从而更进一步提高发光器件的发光效率。
本公开实施例还提供了一种显示装置。该显示装置包括:背板BP以及位于背板BP一侧(例如上侧)的多个像素单元。多个像素单元中的至少一个可以包括上述任意一个实施例的发光器件。例如,每个像素单元均包括上述任意一个实施例的发光器件。应理解,在本公开实施例中,像素单元也可以称为子像素。
在一些实施例中,多个像素单元包括多个红色像素单元R、多个绿色像素单元G和多个蓝色像素单元B。在一些实施例中,在每个像素单元的发光器件中,第三无机层24中的每一层的厚度d=(2K+1)*λ/4,K为整数,λ为蓝光的波长。如此,通过提高蓝色像素单元B的发光效率可以提高整个显示装置的发光效率。
在一些实施例中,显示装置例如可以是显示面板、移动终端、电视机、显示器(例如微显示器)、笔记本电脑、数码相框、导航仪、电子纸等任何具有显示功能的产品或部件。
图5是示出根据本公开一个实施例的发光器件的制造方法的流程示意图。
如图5所示,发光器件的制造方法包括步骤502和步骤504。
在步骤502,在背板的一侧形成发光单元。例如,发光单元可以是OLED。例如,背板可以通过低温多晶硅(Low Temperature Poly-silicon,LTPS)工艺形成。
在步骤504,在发光单元远离背板的一侧形成封装层。
参见图5,步骤504可以包括步骤514至步骤544。
在步骤514,形成第一无机层。
例如,可以利用化学气相沉积(CVD)工艺形成第一无机层。例如,第一无机层的材料可以包括氮氧化硅。
在步骤524,在第一无机层远离背板的一侧形成第三无机层。
例如,可以利用CVD工艺形成第三无机层。应理解,可以利用CVD工艺形成包括一层或多层的第三无机层。第三无机层中的每一层的材料例如可以包括硅的氮化物层。
在步骤534,在第三无机层远离第一无机层的一侧形成有机层。
例如,可以通过喷墨打印工艺形成有机层。
在步骤544,在有机层远离第三无机层的一侧形成第二无机层。
例如,可以利用CVD工艺形成第二无机层。
上述第一无机层的折射率、上述第三无机层的折射率和上述有机层的折射率依次减小。
上述实施例形成的发光器件中,在封装层中,第一无机层的折射率、第三无机层的折射率和有机层的折射率依次减小。这样的封装层有利于提高光的透射率,从而提高发光器件的发光效率。另外,这样的封装层20还有利于降低发光器件的色偏。
在一些实施例中,在形成第三无机层的过程中施加的功率从非0的值在某一时刻变为0,以使得第三无机层与后续有机层接触的表面具有凸起。
例如,在形成第三无机层的起始时刻,施加的功率为0;然后,施加的功率依次增大到大于0的预定功率;之后,在某一时刻,施加的功率降为0;之后,施加的功率从0再次依次增大到预定功率。
由于施加的功率从非0的值在某一时刻变为0,形成的第三无机层的中间表面会沉积部分未完全反应的物质,从而使得最终形成的第三无机层的表面粗糙度发生变化。通过这样的方式,可以增大第三无机层的表面粗糙度。
至此,已经详细描述了本公开的各实施例。为了避免遮蔽本公开的构思,没有描述本领域所公知的一些细节。本领域技术人员根据上面的描述,完全可以明白如何实施这里公开的技术方案。
虽然已经通过示例对本公开的一些特定实施例进行了详细说明,但是本领域的技术人员应该理解,以上示例仅是为了进行说明,而不是为了限制本公开的范围。本领域的技术人员应该理解,可在不脱离本公开的范围和精神的情况下,对以上实施例进行修改或者对部分技术特征进行等同替换。本公开的范围由所附权利要求来限定。

Claims (18)

1.一种发光器件,其特征在于,包括:
发光单元,位于背板的一侧;和
封装层,位于所述发光单元远离所述背板的一侧,包括:
第一无机层,
第二无机层,位于所述第一无机层远离所述背板的一侧,
有机层,位于所述第一无机层和所述第二无机层之间,和
第三无机层,位于所述第一无机层和所述有机层之间,
其中,所述第一无机层的折射率、所述第三无机层的折射率和所述有机层的折射率依次减小。
2.根据权利要求1所述的发光器件,其特征在于,所述第三无机层包括至少一个层,所述至少一个层中的每一层的折射率为n1,所述第一无机层、所述至少一个层和所述有机层中与所述至少一个层中的每一层相邻的两层的折射率为n2和n3,(n1)2与(n2×n3)之间的差值的绝对值大于或等于0、且小于0.1。
3.根据权利要求2所述的发光器件,其特征在于,所述至少一个层仅包括一个层。
4.根据权利要求2所述的发光器件,其特征在于,所述至少一个层中的每一层的厚度d=(2K+1)*λ/4,K为整数,λ为所述发光单元发出的光的波长。
5.根据权利要求2所述的发光器件,其特征在于,所述第一无机层、所述至少一个层和所述有机层中的相邻两层的折射率的差值的绝对值的范围为0.01至0.1。
6.根据权利要求5所述的发光器件,其特征在于,所述至少一个层中的每一层的折射率范围为1.45至1.76。
7.根据权利要求6所述的发光器件,其特征在于,所述至少一个层包括:
第一层,所述第一层的折射率范围为1.57至1.76;和
第二层,位于所述第一层和所述有机层之间,所述第二层的折射率范围为1.45至1.55。
8.根据权利要求6所述的发光器件,其特征在于:
所述第一无机层的折射率范围为1.7至2;以及
所述有机层的折射率范围为1.45至1.55。
9.根据权利要求4所述的发光器件,其特征在于,所述至少一个层中的每一层的厚度与所述第一无机层的厚度的比值范围为1:8至1:12。
10.根据权利要求9所述的发光器件,其特征在于,所述至少一个层中的每一层的厚度范围为20纳米至200纳米。
11.根据权利要求10所述的发光器件,其特征在于,所述至少一个层包括:
第一层,所述第一层的厚度范围为50纳米至200纳米;和
第二层,位于所述第一层和所述有机层之间。
12.根据权利要求10所述的发光器件,其特征在于:
所述第一无机层的厚度范围为500纳米至1500纳米;以及
所述有机层的厚度范围为4微米至16微米。
13.根据权利要求1所述的发光器件,其特征在于,所述第三无机层的材料包括氮氧化硅。
14.根据权利要求13所述的发光器件,其特征在于,所述第一无机层的材料包括氮氧化硅。
15.根据权利要求1-14任意一项所述的发光器件,其特征在于,所述发光单元包括微腔结构,所述微腔结构包括:
阳极,位于所述背板的所述一侧;
发光层,位于所述阳极远离所述背板的一侧;
阴极,位于所述发光层远离所述阳极的一侧;和
取光层,位于所述阴极远离所述发光层的一侧,所述取光层的折射率小于所述有机层的折射率。
16.根据权利要求1所述的发光器件,其特征在于,所述第三无机层与所述有机层接触的表面具有凸起。
17.根据权利要求16所述的发光器件,其特征在于,所述表面的轮廓算数平均偏差大于10纳米。
18.一种显示装置,其特征在于,包括:
所述背板;
多个像素单元,位于所述背板的所述一侧,所述多个像素单元中的至少一个像素单元包括如权利要求1-17任意一项所述的发光器件。
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