CN214556089U - 玻璃基板清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种玻璃基板清洗装置，包括若干输送辊和若干喷嘴，输送辊间隔设置，玻璃基板在输送辊上移动，喷嘴分布在输送辊的上下两侧，喷嘴通过喷射清洗液对玻璃基板的两面进行冲洗，喷嘴包括喷嘴本体和调节阀，调节阀用于调节喷嘴本体的喷射压力。本实用新型的玻璃基板清洗装置所使用的喷嘴带有调节阀，通过调节阀可以改变喷嘴所喷射的清洗液的压力，因而可以对玻璃基板上需要着重清洗的Bezel区域和Pad区域进行较高强度的冲洗，提高Bezel区域和Pad区域的洁净度，避免显示面板发生屏幕边缘漏光或线缺陷不良，提升显示面板的良品率，减少物料浪费。

Description

玻璃基板清洗装置

技术领域

本实用新型涉及显示器技术领域，尤其涉及一种玻璃基板清洗装置。

背景技术

玻璃基板是显示面板的一个重要组件，在显示面板的制造过程中，需要在玻璃基板上设置各种元件以形成显示面板，玻璃基板上设有Bezel区域，Bezel区域位于玻璃基板的边缘，Bezel区域围绕着显示区域，Bezel区域需要涂黑以防止屏幕边缘漏光。

Bonding(绑定)是显示面板工艺制程中重要的一步，Bonding是指在显示面板的生产过程中，将Bonding区域内的Pad(焊盘)和IC(驱动集成电路)的引脚按照一定的工作流程连接到一起并导通的过程。Bonding区域在玻璃基板上对应Pad区域，Pad即设置在Pad区域。

在对玻璃基板进行加工之前，需要对其进行清洗。若Bezel区域上残留有有机物等杂质，会造成Bezel区域上涂布的材料无法对Bezel区域进行良好的覆盖，使屏幕的边缘漏光。若Pad区域上残留有异物，则会导致显示面板发生线缺陷不良。而现有的玻璃基板清洗装置对玻璃基板上的各个区域没有区别对待，导致Bezel区域和Pad区域这两个需要着重清洗的区域没有达到所需要的洁净标准，使显示面板的良品率降低。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种玻璃基板清洗装置，能对Bezel区域和Pad区域进行着重清洗，提高Bezel区域和Pad区域的洁净度，从而提升显示面板的良品率。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

提供一种玻璃基板清洗装置，包括若干输送辊和若干喷嘴，所述输送辊间隔设置，玻璃基板在所述输送辊上移动，所述喷嘴分布在所述输送辊的上下两侧，所述喷嘴通过喷射清洗液对所述玻璃基板的两面进行冲洗，所述喷嘴包括喷嘴本体和调节阀，所述调节阀用于调节所述喷嘴本体的喷射压力。

作为本实用新型的玻璃基板清洗装置的一种优选方案，所述玻璃基板清洗装置还包括定位相机，所述定位相机设置在所述输送辊上方，所述定位相机对所述玻璃基板在所述输送辊上的位置进行检测，所述调节阀为电磁阀，所述定位相机与所述调节阀电连接。

作为本实用新型的玻璃基板清洗装置的一种优选方案，所述玻璃基板清洗装置还包括若干侧边辊筒，所述输送辊的两端设置在不同的高度，所述侧边辊筒设置在所述输送辊的较低的一端，所述玻璃基板在所述输送辊上处于倾斜姿态，所述玻璃基板的一侧边缘与所述侧边辊筒抵接。

作为本实用新型的玻璃基板清洗装置的一种优选方案，所述输送辊的轴线与水平面之间的夹角不大于5度。

作为本实用新型的玻璃基板清洗装置的一种优选方案，所述清洗液的喷射压力不大于5.8kgf/cm²。

作为本实用新型的玻璃基板清洗装置的一种优选方案，所述清洗液为去离子水。

作为本实用新型的玻璃基板清洗装置的一种优选方案，所述玻璃基板清洗装置还包括若干风刀，所述风刀设置在所述输送辊的上下两侧，所述风刀通过喷射气流清除所述玻璃基板上的清洗液。

作为本实用新型的玻璃基板清洗装置的一种优选方案，所述风刀形成的风幕所在的平面与所述玻璃基板表面之间的夹角为锐角。

作为本实用新型的玻璃基板清洗装置的一种优选方案，所述风刀内部设置有电热丝，所述电热丝对所述气流进行加热。

作为本实用新型的玻璃基板清洗装置的一种优选方案，所述风刀的出风口与所述玻璃基板的距离小于5毫米，所述气流的喷射压力不大于10kgf/cm²。

本实用新型的有益效果：

本实用新型的玻璃基板清洗装置所使用的喷嘴带有调节阀，通过调节阀可以改变喷嘴所喷射的清洗液的压力，因而可以对玻璃基板上需要着重清洗的Bezel区域和Pad区域进行较高强度的冲洗，提高Bezel区域和Pad区域的洁净度，避免显示面板发生屏幕边缘漏光或线缺陷不良，提升显示面板的良品率，减少物料浪费。

附图说明

图1为本实用新型一实施例的玻璃基板清洗装置的侧面示意图；

图2为本实用新型一实施例的玻璃基板清洗装置的俯视示意图；

图3为本实用新型另一实施例的玻璃基板清洗装置的正面示意图；

图4为本实用新型一实施例的玻璃基板与风刀的位置关系图。

图中：

1、输送辊；2、喷嘴；21、喷嘴本体；22、调节阀；3、定位相机；4、侧边辊筒；5、风刀；100、玻璃基板；110、Bezel区域；120、Pad区域；130、可视区域；200、风幕。

具体实施方式

参考下面结合附图详细描述的实施例，本实用新型的优点和特征以及实现它们的方法将变得显而易见。然而，本实用新型不限于以下公开的实施例，而是可以以各种不同的形式来实现，提供本实施例仅仅是为了完成本实用新型的公开并且使本领域技术人员充分地了解本实用新型的范围，并且本实用新型仅由权利要求的范围限定。相同的附图标记在整个说明书中表示相同的构成要素。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征之“上”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征之“下”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者多个该特征。

以下，参照附图来详细描述本实用新型。

为了减少物料浪费，提高显示面板的良品率，如图1所示，一实施例的玻璃基板清洗装置包括若干输送辊1和若干喷嘴2，输送辊1间隔设置，玻璃基板100在输送辊1上移动，喷嘴2分布在输送辊1的上下两侧，喷嘴2通过喷射清洗液对玻璃基板100的两面进行冲洗，喷嘴2包括喷嘴本体21和调节阀22，调节阀22用于调节喷嘴本体21的喷射压力。

本实用新型的玻璃基板清洗装置所使用的喷嘴2带有调节阀22，通过调节阀22可以改变喷嘴2所喷射的清洗液的压力，因而可以对玻璃基板100上需要着重清洗的Bezel区域110和Pad区域120进行较高强度的冲洗，提高Bezel区域110和Pad区域120的洁净度，避免显示面板发生屏幕边缘漏光或线缺陷不良，提升显示面板的良品率，减少物料浪费。

进一步的，玻璃基板清洗装置还包括定位相机3，定位相机3设置在输送辊1上方，定位相机3对玻璃基板100在输送辊1上的位置进行检测，调节阀22为电磁阀，定位相机3与调节阀22电连接。在本实施例中，喷嘴2的位置是固定不变的，当定位相机3获取玻璃基板100在输送辊1上的位置信息后，可以计算出玻璃基板100与各个喷嘴2之间的位置关系，从而指令当前时刻正对Bezel区域110或Pad区域120的喷嘴2的调节阀22动作，使这些喷嘴2喷出的清洗液流速增加。具体的，在喷嘴2工作时，保持喷嘴2的流量一定，调节阀22可通过减小流道的截面积，来增加喷嘴2喷出的清洗液的流速，从而对玻璃基板100的表面造成更强的冲击力。在本实施例中，各个喷嘴2工作时的流量均相同以实现标准化控制。

对于尺寸一定的玻璃基板100来说，在输送辊1的转速恒定的情况下，玻璃基板100的位置还可以根据玻璃基板100在输送辊1上的输送时间来确定，但通过输送时间来确定玻璃基板100的位置相较于采用定位相机3进行检测，其误差较大，有可能会造成Bezel区域110或Pad区域120无法受到着重的冲刷，定位相机3则可以实时监测玻璃基板100的具体位置，具有较高的精度。

输送辊1上下两侧的喷嘴2需要同时工作，以平衡玻璃基板100的受力，防止玻璃基板100从输送辊1上脱离。

如图2所示，在玻璃基板100上方的喷嘴2形成若干喷头组，每个喷头组包括五个排列为一条直线的喷嘴2，其中，位于两端的喷嘴2由于一直对准Bezel区域110的一条边，这两个喷嘴2一直对玻璃基板100施加较大的喷射压力，而位于中间的三个喷嘴2只有当Bezel区域110正好经过其下方时才对玻璃基板100施加较大的喷射压力，当可视区域130移动至中间的三个喷嘴2下方时，喷射压力减弱，减少对玻璃基板100的冲击力度，降低玻璃基板100受损的概率。

如图3所示，在另一些实施例中，玻璃基板清洗装置还包括侧边辊筒4，输送辊1的两端设置在不同的高度，侧边辊筒4设置在输送辊1的较低的一端，玻璃基板100在输送辊1上处于倾斜姿态，玻璃基板100的一侧边缘与侧边辊筒4抵接。由于玻璃基板100处于倾斜的姿态，玻璃基板100表面的清洗液可以在重力的作用下自行滑落，减少玻璃基板100表面的清洗液残留。

优选的，输送辊1的轴线与水平面之间的夹角不大于5度。输送辊1的倾斜程度越大，则侧边辊筒4所收到的压力越大，即玻璃基板100需要承担自身的重量，鉴于玻璃基板100的厚度较薄，为了避免玻璃基板100受损，应该使输送辊1发挥出对玻璃基板100的主要支撑作用，因此需要控制输送辊1的倾斜程度在较小的范围内。

优选的，清洗液的喷射压力不大于5.8kgf/cm²，以防止玻璃基板100因受到清洗液过大的冲击力而发生破损。

优选的，清洗液为去离子水。采用去离子水对玻璃基板100进行清洗，可以减少污染，保证玻璃基板100的洁净度。

进一步的，清洗液中混有二氧化碳气体。混有二氧化碳气体的清洗液喷出后，会产生大量微小气泡，气泡冲击到玻璃基板100表面时破裂，气泡破裂时的冲击力能进一步提高清洗液对玻璃基板100表面异物的清除能力。

如图4所示，在一些实施例中，玻璃基板清洗装置还包括若干风刀5，风刀5设置在输送辊1的上下两侧，风刀5通过喷射气流清除玻璃基板100上的清洗液。玻璃基板100经过清洗后，会有少量清洗液附着在玻璃基板100表面，因而需要清除这些残留的清洗液，风刀5可以形成一道风幕200，像一把刮刀一样将清洗液从玻璃基板100的表面扫除。

进一步的，风刀5形成的风幕200所在的平面与玻璃基板100表面之间的夹角α为锐角。倾斜的风幕200能更好地发挥出清扫效果，使清洗液有方向性地从玻璃基板100的表面扫除，防止已经被清扫的玻璃基板100表面被吹起的液滴重新污染。

更进一步的，风刀5内部设置有电热丝(图中未示出)，电热丝对气流进行加热。较高温度的气流还能加速蒸发玻璃基板100表面可能残留的微量清洁液，使玻璃基板100表面更快的被干燥。

优选的，风刀5的出风口与玻璃基板100的距离小于5毫米，气流的喷射压力不大于10kgf/cm²。如果风刀5距离玻璃基板100过远，当气流接触到玻璃基板100表面时，速度会大大衰减，与此同时，气流对玻璃基板100施加的压力也不能过大，以防止玻璃基板100受损。

尽管上面已经参考附图描述了本实用新型的实施例，但是本实用新型不限于以上实施例，而是可以以各种形式制造，并且本领域技术人员将理解，在不改变本实用新型的技术精神或基本特征的情况下，可以以其他特定形式来实施本实用新型。因此，应该理解，上述实施例在所有方面都是示例性的而不是限制性的。

Claims (10)

1.一种玻璃基板清洗装置，其特征在于，包括若干输送辊和若干喷嘴，所述输送辊间隔设置，玻璃基板在所述输送辊上移动，所述喷嘴分布在所述输送辊的上下两侧，所述喷嘴通过喷射清洗液对所述玻璃基板的两面进行冲洗，所述喷嘴包括喷嘴本体和调节阀，所述调节阀用于调节所述喷嘴本体的喷射压力。

2.根据权利要求1所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，所述玻璃基板清洗装置还包括定位相机，所述定位相机设置在所述输送辊上方，所述定位相机对所述玻璃基板在所述输送辊上的位置进行检测，所述调节阀为电磁阀，所述定位相机与所述调节阀电连接。

3.根据权利要求1所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，所述玻璃基板清洗装置还包括若干侧边辊筒，所述输送辊的两端设置在不同的高度，所述侧边辊筒设置在所述输送辊的较低的一端，所述玻璃基板在所述输送辊上处于倾斜姿态，所述玻璃基板的一侧边缘与所述侧边辊筒抵接。

4.根据权利要求3所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，所述输送辊的轴线与水平面之间的夹角不大于5度。

5.根据权利要求1至4任一项所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，所述清洗液的喷射压力不大于5.8kgf/cm²。

6.根据权利要求1至4任一项所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，所述清洗液为去离子水。

7.根据权利要求1至4任一项所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，所述玻璃基板清洗装置还包括若干风刀，所述风刀设置在所述输送辊的上下两侧，所述风刀通过喷射气流清除所述玻璃基板上的清洗液。

8.根据权利要求7所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，所述风刀形成的风幕所在的平面与所述玻璃基板表面之间的夹角为锐角。

9.根据权利要求7所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，所述风刀内部设置有电热丝，所述电热丝对所述气流进行加热。

10.根据权利要求7所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，所述风刀的出风口与所述玻璃基板的距离小于5毫米，所述气流的喷射压力不大于10kgf/cm²。

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