CN214519476U - 一种便于维护的硅片抛光装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及硅片加工技术领域，且公开了一种便于维护的硅片抛光装置，包括机体，所述机体顶部固定连接有机架，所述机架上固定连接有伸缩架，所述伸缩架底端固定连接有溶剂槽盒，所述溶剂槽盒底部固定连接有上研磨盘，所述溶剂槽盒与上研磨盘之间连接有管道，所述伸缩架上活动连接有套环，所述套环上固定套接有齿环，所述齿环一侧设置有驱动器。该便于维护的硅片抛光装置，通过拧动第一螺母可以调节竖螺杆的位置，进而将斜板移动至溶剂槽盒内部，然后启动电机可以带动套环和横梁转动，进而带动斜板在溶剂槽盒内部转动，可以将溶剂槽盒内壁的残留物刮除，相比人工清理更加方便省力，便于对溶剂槽盒的维护。
Description
技术领域
本实用新型涉及硅片加工技术领域，具体为一种便于维护的硅片抛光装置。
背景技术
硅片加工过程中需要对硅片表面进行抛光，一般采用双面研磨设备进行，将硅片放置在机体上的下转盘内，控制上研磨盘下移并旋转实现研磨和抛光，同时上研磨盘上设置有溶剂槽，溶剂槽通过管道与上研磨盘连通，在抛光时不断通过溶剂槽将研磨剂输送至硅片处，以此辅助抛光，除上料外均可以电动控制，效率高，精度高。
目前的硅片双面抛光设备的研磨溶剂在工作结束后部分残留在溶剂槽内，需要人工清理，费时费力，不便维护。
实用新型内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种便于维护的硅片抛光装置，具备等优点，解决了目前的硅片双面抛光设备的研磨溶剂在工作结束后部分残留在溶剂槽内，需要人工清理，费时费力，不便维护的问题。
(二)技术方案
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种便于维护的硅片抛光装置，包括机体，所述机体顶部固定连接有机架，所述机架上固定连接有伸缩架，所述伸缩架底端固定连接有溶剂槽盒，所述溶剂槽盒底部固定连接有上研磨盘，所述溶剂槽盒与上研磨盘之间连接有管道，所述伸缩架上活动连接有套环，所述套环上固定套接有齿环，所述齿环一侧设置有驱动器，所述套环上还固定连接有横梁，所述横梁端部设置有竖螺杆，所述竖螺杆贯穿横梁，所述竖螺杆上设置有第一螺母，所述竖螺杆通过第一螺母与横梁连接，所述竖螺杆底端设置有清理装置。
优选的，所述清理装置包括斜板，所述斜板与竖螺杆底端铰接，所述斜板靠近顶部边缘处固定连接有拉簧，所述拉簧一端与竖螺杆固定连接，所述斜板上设置有开口，所述斜板一侧固定连接有横螺杆，所述横螺杆底部设置有收纳盒，所述收纳盒顶部固定连接有套管，所述套管套置在横螺杆上，所述横螺杆上设置有第二螺母和限位环，所述限位环与横螺杆固定连接。
优选的，所述驱动器包括电机，所述电机与伸缩架固定连接，所述电机输出轴上固定连接有齿轮，所述齿轮与齿环啮合。
优选的，所述溶剂槽盒内底壁开设有多个浅槽，所述浅槽内开设有孔洞，所述浅槽内还设置有防护盖，所述防护盖与浅槽活动连接。
优选的，所述上研磨盘底部设有下研磨盘，所述下研磨盘安装在机体上。
与现有技术相比，本实用新型提供了一种便于维护的硅片抛光装置，具备以下有益效果：
1、该便于维护的硅片抛光装置，通过拧动第一螺母可以调节竖螺杆的位置，进而将斜板移动至溶剂槽盒内部，然后启动电机可以带动套环和横梁转动，进而带动斜板在溶剂槽盒内部转动，可以将溶剂槽盒内壁的残留物刮除，相比人工清理更加方便省力，便于对溶剂槽盒的维护。
2、该便于维护的硅片抛光装置，通过设置收纳盒可以用于收集刮除的杂物，拧动螺母可以将收纳盒拆除，便于处理杂物，通过设置防护盖，转动防护盖可以堵住孔洞，有利于在清理杂物时避免杂物进入孔洞内部造成堵塞。
附图说明
图1为本实用新型的整体结构示意图；
图2为本实用新型清理装置的结构示意图；
图3为本实用新型溶剂槽盒的俯视图。
其中：1、机体；2、机架；3、伸缩架；4、溶剂槽盒；5、上研磨盘；6、套环；7、齿环；8、横梁；9、竖螺杆；10、第一螺母；11、斜板；12、拉簧； 13、横螺杆；14、收纳盒；15、套管；16、第二螺母；17、限位环；18、电机；19、齿轮；20、浅槽；21、孔洞；22、防护盖。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-3，一种便于维护的硅片抛光装置，包括机体1，机体1顶部固定连接有机架2，机架2上固定连接有伸缩架3，伸缩架3底端固定连接有溶剂槽盒4，溶剂槽盒4设置为环形，溶剂槽盒4底部固定连接有上研磨盘5，上研磨盘5底部设有下研磨盘，下研磨盘安装在机体1上，溶剂槽盒4与上研磨盘5之间连接有管道，伸缩架3上活动连接有套环6，实际应用中套环6 内侧固定设置有轴承，套环6通过轴承与伸缩架3活动连接，套环6上固定套接有齿环7，齿环7一侧设置有驱动器，驱动器包括电机18，电机18与伸缩架3固定连接，电机18输出轴上固定连接有齿轮19，齿轮19与齿环7啮合，有利于通过启动电机18带动齿轮19转动，进而带动齿环7和套环6转动，套环6上还固定连接有横梁8，横梁8端部设置有竖螺杆9，竖螺杆9贯穿横梁8，竖螺杆9上设置有第一螺母10，实际应用时第一螺母10的数量设置为两个，两个第一螺母10分别位于横梁8的顶部和底部，可拧动第一螺母 10实现伸缩杆的位置调节以及固定，竖螺杆9通过第一螺母10与横梁8连接，竖螺杆9底端设置有清理装置，清理装置包括斜板11，斜板11与竖螺杆9底端铰接，斜板11靠近顶部边缘处固定连接有拉簧12，拉簧12一端与竖螺杆 9固定连接，通过设置拉簧12，斜板11下移至溶剂槽盒4内后，可利用拉簧12的拉力使斜板11底部边缘保持紧贴溶剂槽盒4内底壁，清理效果更好，斜板11上设置有开口，斜板11一侧固定连接有横螺杆13，横螺杆13底部设置有收纳盒14，收纳盒14的侧面设置为梯形，收纳盒14靠近斜板11一侧设置有盒口，初始状态下盒口与开口位置对应，收纳盒顶部固定连接有套管15，套管15套置在横螺杆13上，横螺杆13上设置有第二螺母16和限位环17，限位环17与横螺杆13固定连接，拧动第二螺母16可以将套管15从横螺杆 13上拆除，有利于将收纳盒14内收集的杂物倒出。
溶剂槽盒4内底壁开设有多个浅槽20，浅槽20内开设有孔洞21，孔洞 21与管道顶端位置对应，用于输送研磨溶剂，浅槽20内还设置有防护盖22，防护盖22与浅槽20活动连接，实际应用时防护盖22通过转轴与浅槽20内壁活动连接，可以转动防护盖22将孔洞21遮住，避免清理杂物时杂物进入孔洞21内部造成堵塞。
在使用时，先转动防护盖22，可将孔洞21遮挡，然后拧动两个第一螺母 10可以调节竖螺杆9的上下位置，直至斜板11压紧溶剂槽盒4内壁，此时斜板11倾斜并拉长拉簧12，然后拧动第一螺母10固定竖螺杆9，之后启动电机18，电机18运转带动齿轮19转动，齿轮19转动可以带动齿环7转动，齿环7转动可带动套环6和横臂转动，进而带动竖螺杆9和斜板11转动，斜板 11在溶剂槽盒4内部转动可以将内部杂物清理，杂物沿着斜板11进入收纳盒 14内，清理结束后，拧动第二螺母16将其拆卸，然后可将收纳盒14与套管 15从横螺杆13上拆卸，可将收纳盒14内的杂物倒出。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (5)
1.一种便于维护的硅片抛光装置，包括机体(1)，其特征在于：所述机体(1)顶部固定连接有机架(2)，所述机架(2)上固定连接有伸缩架(3)，所述伸缩架(3)底端固定连接有溶剂槽盒(4)，所述溶剂槽盒(4)底部固定连接有上研磨盘(5)，所述溶剂槽盒(4)与上研磨盘(5)之间连接有管道，所述伸缩架(3)上活动连接有套环(6)，所述套环(6)上固定套接有齿环(7)，所述齿环(7)一侧设置有驱动器，所述套环(6)上还固定连接有横梁(8)，所述横梁(8)端部设置有竖螺杆(9)，所述竖螺杆(9)贯穿横梁(8)，所述竖螺杆(9)上设置有第一螺母(10)，所述竖螺杆(9)通过第一螺母(10)与横梁(8)连接，所述竖螺杆(9)底端设置有清理装置。
2.根据权利要求1所述的一种便于维护的硅片抛光装置，其特征在于：所述清理装置包括斜板(11)，所述斜板(11)与竖螺杆(9)底端铰接，所述斜板(11)靠近顶部边缘处固定连接有拉簧(12)，所述拉簧(12)一端与竖螺杆(9)固定连接，所述斜板(11)上设置有开口，所述斜板(11)一侧固定连接有横螺杆(13)，所述横螺杆(13)底部设置有收纳盒(14)，所述收纳盒顶部固定连接有套管(15)，所述套管(15)套置在横螺杆(13)上，所述横螺杆(13)上设置有第二螺母(16)和限位环(17)，所述限位环(17)与横螺杆(13)固定连接。
3.根据权利要求1所述的一种便于维护的硅片抛光装置，其特征在于：所述驱动器包括电机(18)，所述电机(18)与伸缩架(3)固定连接，所述电机(18)输出轴上固定连接有齿轮(19)，所述齿轮(19)与齿环(7)啮合。
4.根据权利要求1所述的一种便于维护的硅片抛光装置，其特征在于：所述溶剂槽盒(4)内底壁开设有多个浅槽(20)，所述浅槽(20)内开设有孔洞(21)，所述浅槽(20)内还设置有防护盖(22)，所述防护盖(22)与浅槽(20)活动连接。
5.根据权利要求1所述的一种便于维护的硅片抛光装置，其特征在于：所述上研磨盘(5)底部设有下研磨盘，所述下研磨盘安装在机体(1)上。
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| CN202120048262.0U CN214519476U (zh) | 2021-01-08 | 2021-01-08 | 一种便于维护的硅片抛光装置 |
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| CN (1) | CN214519476U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114734339A (zh) * | 2022-05-04 | 2022-07-12 | 许顺贵 | 一种运动鞋生产用鞋楦机 |
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2021
- 2021-01-08 CN CN202120048262.0U patent/CN214519476U/zh not_active Expired - Fee Related
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