CN214300331U - 一种pvd磁控离子镀膜设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种PVD磁控离子镀膜设备，包括镀膜腔，所述镀膜腔顶部固定设置有电机，所述电机输出轴端部传动连接有转轴，所述转轴外周面连接有两个固定圈，两个所述固定圈外周面均连接有圆盘，两个所述圆盘顶部均贯穿设置有四个转杆，多个所述转杆顶部均连接有转盘，且多个所述转杆底部均固定设置有行星齿轮，所述镀膜腔内腔顶部以及底部均设置有内齿圈，两个所述内齿圈均与对应位置的四个行星齿轮相啮合。本实用新型通过电机带动多个待镀膜件做环形移动的同时自转，当多个待镀膜件转动至靶阴极附近时，靶阴极溅射的等离子实现对自转待镀膜件均匀镀膜，镀膜效果较好，且一次实现对多个待镀膜件镀膜，镀膜效率较高。

Description

一种PVD磁控离子镀膜设备

技术领域

本实用新型涉及镀膜设备技术领域，具体涉及一种PVD磁控离子镀膜设备。

背景技术

物理气相沉积(PVD)是通过蒸发，电离或溅射等过程，产生金属粒子并与反应气体反应形成化合物沉积在工件表面，物理气相沉积镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜，磁控溅射是物理气相沉积的一种，一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤，因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率，磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

现有技术存在以下不足：现有的PVD磁控离子镀膜设备大多待镀膜件放置在旋转架中心位置旋转镀膜，由于旋转架一次只能实现对一个待镀膜件镀膜，从而镀膜效率较低。

在所述背景技术部分公开的上述信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此它可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种PVD磁控离子镀膜设备，通过电机带动多个待镀膜件做环形移动的同时自转，当多个待镀膜件转动至靶阴极附近时，靶阴极溅射的等离子实现对自转待镀膜件均匀镀膜，镀膜效果较好，且一次实现对多个待镀膜件镀膜，镀膜效率较高，以解决上述背景技术中的问题。

为了实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种PVD磁控离子镀膜设备，包括镀膜腔，所述镀膜腔顶部固定设置有电机，所述电机输出轴端部传动连接有转轴，所述转轴外周面连接有两个固定圈，两个所述固定圈外周面均连接有圆盘，两个所述圆盘顶部均贯穿设置有四个转杆，多个所述转杆顶部均连接有转盘，且多个所述转杆底部均固定设置有行星齿轮，所述镀膜腔内腔顶部以及底部均设置有内齿圈，两个所述内齿圈均与对应位置的四个行星齿轮相啮合，所述镀膜腔内腔两侧均固定设置有两个靶阴极。

优选的，多个所述转杆与对应位置的圆盘连接处均设置有轴承，多个所述转杆均通过轴承与对应位置的圆盘转动连接。

优选的，多个所述转盘顶部均固定设置有防滑垫。

优选的，两个所述内齿圈与镀膜腔内壁之间均连接有多个连接板，任意相邻的两个所述连接板之间的夹角均为60度。

优选的，所述镀膜腔两侧内壁均固定设置有两个第一弧形板、两个第二弧形板以及两个第三弧形板，四个所述第三弧形板均设置在四个第一弧形板与对应位置的第二弧形板之间，四个所述第一弧形板与对应位置的第三弧形板之间均连接有弹簧，四个所述弹簧初始均为压缩状态，四个所述第一弧形板顶部均贯穿设置有拉杆，四个所述拉杆均与对应位置的第二弧形板相连接。

优选的，所述镀膜腔底部两侧均固定设置有两个万向轮，所述镀膜腔一侧固定设置有门体。

在上述技术方案中，本实用新型提供的技术效果和优点：

通过将待镀膜件放置在多个转盘顶部，在四个靶阴极表面均引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率，接通电机带动转轴、两个固定圈以及两个圆盘同时转动，两个圆盘进而带动对应位置的多个转杆、多个转盘、多个待镀膜件以及多个行星齿轮做环形移动，多个行星齿轮做环形移动时带动多个转杆自转，进而带动多个待镀膜件自转，当多个待镀膜件转动至靶阴极附近时，靶阴极溅射的等离子实现对自转待镀膜件均匀镀膜，镀膜效果较好，且一次实现对多个待镀膜件镀膜，镀膜效率较高。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型的整体结构示意图。

图2为本实用新型图1的A部放大图。

图3为本实用新型图1的B部放大图。

图4为本实用新型镀膜腔局部结构横剖图。

图5为本实用新型镀膜腔整体结构正视图。

附图标记说明：

1、镀膜腔；2、电机；3、转轴；4、固定圈；5、圆盘；6、转杆；7、转盘；8、行星齿轮；9、内齿圈；10、靶阴极；11、轴承；12、第一弧形板；13、第二弧形板；14、第三弧形板；15、弹簧；16、拉杆。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的范例；相反，提供这些示例实施方式使得本公开的描述将更加全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。附图仅为本公开的示意性图解，并非一定是按比例绘制。图中相同的附图标记表示相同或类似的部分，因而将省略对它们的重复描述。

此外，所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多示例实施方式中。在下面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本公开的示例实施方式的充分理解。然而，本领域技术人员将意识到，可以实践本公开的技术方案而省略所述特定细节中的一个或更多，或者可以采用其它的方法、组元、步骤等。在其它情况下，不详细示出或描述公知结构、方法、实现或者操作以避免喧宾夺主而使得本公开的各方面变得模糊。

本实用新型提供了如图1-5所示的一种PVD磁控离子镀膜设备，包括镀膜腔1，所述镀膜腔1顶部固定设置有电机2，所述电机2输出轴端部传动连接有转轴3，所述转轴3外周面连接有两个固定圈4，两个所述固定圈4外周面均连接有圆盘5，两个所述圆盘5顶部均贯穿设置有四个转杆6，多个所述转杆6顶部均连接有转盘7，且多个所述转杆6底部均固定设置有行星齿轮8，所述镀膜腔1内腔顶部以及底部均设置有内齿圈9，两个所述内齿圈9均与对应位置的四个行星齿轮8相啮合，所述镀膜腔1内腔两侧均固定设置有两个靶阴极10。

进一步的，在上述技术方案中，多个所述转杆6与对应位置的圆盘5连接处均设置有轴承11，多个所述转杆6均通过轴承11与对应位置的圆盘5转动连接。

进一步的，在上述技术方案中，多个所述转盘7顶部均固定设置有防滑垫，避免待镀膜件在转盘7顶部滑动。

进一步的，在上述技术方案中，两个所述内齿圈9与镀膜腔1内壁之间均连接有多个连接板，任意相邻的两个所述连接板之间的夹角均为60度，实现将两个内齿圈9与镀膜腔1相连接。

进一步的，在上述技术方案中，所述镀膜腔1两侧内壁均固定设置有两个第一弧形板12、两个第二弧形板13以及两个第三弧形板14，四个所述第三弧形板14均设置在四个第一弧形板12与对应位置的第二弧形板13之间，四个所述第一弧形板12与对应位置的第三弧形板14之间均连接有弹簧15，四个所述弹簧15初始均为压缩状态，四个所述第一弧形板12顶部均贯穿设置有拉杆16，四个所述拉杆16均与对应位置的第二弧形板13相连接，在四个弹簧15的作用下，四个第三弧形板14与对应位置的第二弧形板13实现将靶阴极夹紧固定，拉动四个拉杆16带动对应位置的第三弧形板14向上移动，便于对靶阴极进行更换。

进一步的，在上述技术方案中，所述镀膜腔1底部两侧均固定设置有两个万向轮，便于镀膜腔1移动，所述镀膜腔1一侧固定设置有门体。

实施方式具体为：实际使用时，将电机2通过导线与外接电源接通，将门体打开，将待镀膜件放置在多个转盘7顶部，随后将门体关闭，在四个靶阴极表面均引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率，随后接通电机2带动转轴3、两个固定圈4以及两个圆盘5同时转动，两个圆盘5进而带动对应位置的多个转杆6、多个转盘7、多个待镀膜件以及多个行星齿轮8做环形移动，由于两个内齿圈9均与对应位置的四个行星齿轮8相啮合，多个行星齿轮8做环形移动时带动多个转杆6自转，进而带动多个待镀膜件自转，当多个待镀膜件转动至靶阴极附近时，靶阴极溅射的等离子实现对自转待镀膜件均匀镀膜，镀膜效果较好，且一次实现对多个待镀膜件镀膜，镀膜效率较高，该实施方式具体解决了现有技术中存在的现有的PVD磁控离子镀膜设备大多待镀膜件放置在旋转架中心位置旋转镀膜，由于旋转架一次只能实现对一个待镀膜件镀膜，从而镀膜效率较低的问题。

本实用工作原理：通过电机2带动多个待镀膜件做环形移动的同时自转，当多个待镀膜件转动至靶阴极附近时，靶阴极溅射的等离子实现对自转待镀膜件均匀镀膜，镀膜效果较好，且一次实现对多个待镀膜件镀膜，镀膜效率较高。

以上只通过说明的方式描述了本实用新型的某些示范性实施例，毋庸置疑，对于本领域的普通技术人员，在不偏离本实用新型的精神和范围的情况下，可以用各种不同的方式对所描述的实施例进行修正。因此，上述附图和描述在本质上是说明性的，不应理解为对本实用新型权利要求保护范围的限制。

Claims (6)

1.一种PVD磁控离子镀膜设备，包括镀膜腔（1），其特征在于：所述镀膜腔（1）顶部固定设置有电机（2），所述电机（2）输出轴端部传动连接有转轴（3），所述转轴（3）外周面连接有两个固定圈（4），两个所述固定圈（4）外周面均连接有圆盘（5），两个所述圆盘（5）顶部均贯穿设置有四个转杆（6），多个所述转杆（6）顶部均连接有转盘（7），且多个所述转杆（6）底部均固定设置有行星齿轮（8），所述镀膜腔（1）内腔顶部以及底部均设置有内齿圈（9），两个所述内齿圈（9）均与对应位置的四个行星齿轮（8）相啮合，所述镀膜腔（1）内腔两侧均固定设置有两个靶阴极（10）。

2.根据权利要求1所述的一种PVD磁控离子镀膜设备，其特征在于：多个所述转杆（6）与对应位置的圆盘（5）连接处均设置有轴承（11），多个所述转杆（6）均通过轴承（11）与对应位置的圆盘（5）转动连接。

3.根据权利要求1所述的一种PVD磁控离子镀膜设备，其特征在于：多个所述转盘（7）顶部均固定设置有防滑垫。

4.根据权利要求1所述的一种PVD磁控离子镀膜设备，其特征在于：两个所述内齿圈（9）与镀膜腔（1）内壁之间均连接有多个连接板，任意相邻的两个所述连接板之间的夹角均为60度。

5.根据权利要求1所述的一种PVD磁控离子镀膜设备，其特征在于：所述镀膜腔（1）两侧内壁均固定设置有两个第一弧形板（12）、两个第二弧形板（13）以及两个第三弧形板（14），四个所述第三弧形板（14）均设置在四个第一弧形板（12）与对应位置的第二弧形板（13）之间，四个所述第一弧形板（12）与对应位置的第三弧形板（14）之间均连接有弹簧（15），四个所述弹簧（15）初始均为压缩状态，四个所述第一弧形板（12）顶部均贯穿设置有拉杆（16），四个所述拉杆（16）均与对应位置的第二弧形板（13）相连接。

6.根据权利要求1所述的一种PVD磁控离子镀膜设备，其特征在于：所述镀膜腔（1）底部两侧均固定设置有两个万向轮，所述镀膜腔（1）一侧固定设置有门体。

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