CN214265148U - 一种氮化铝基板表面处理设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型属于氮化铝基板的加工技术领域,尤其是一种氮化铝基板表面处理设备,针对了对氮化铝陶瓷基板在进行研磨处研磨效果较差的问题,现提出如下方案,其包括工作台,工作台的顶部固定有安装架,工作台的顶部转动连接有放置座;本实用新型中通过电动推杆的推动,使得研磨盘与基板的表面接触,此时通过驱动电机的转动,带动研磨盘进行转动,传动轴进行同步转动,通过按压齿轮和转动齿轮的啮合传动作用,使得放置座与研磨盘呈反向转动,进一步提高基板的研磨效果,转动齿轮在转动的同时,带动从动齿轮同步转动,使得位于箱体内部的研磨液进行充分搅拌,通过喷头对基板的表面进行研磨液的添加,从而进一步提高基板在放置座上转动研磨的效果。
Description
技术领域
本实用新型涉及氮化铝基板的加工技术领域,尤其涉及一种氮化铝基板表面处理设备。
背景技术
氮化铝陶瓷电路板的制作流程是非常复杂的,第一步就是氮化铝陶瓷电路板的表面处理,也叫作研磨,其作用是去除其表面的附着物以及平整度的改善。
不同的研磨方式对氮化铝陶瓷电路板的平整度、生产率、成品率的影响都是很大的,而且后续的工序是没办法提高基材的几何形状的精度;目前对氮化铝陶瓷基板在进行研磨处理时,通常将基板放置于放置座上,通过研磨装置的转动对其进行研磨处理,这种方式虽然可对其进行研磨,但是其研磨效果存在一定的缺陷,其研磨效果较差。
因此,需要一种氮化铝基板表面处理设备,用以解决对氮化铝陶瓷基板在进行研磨处研磨效果较差的问题。
实用新型内容
本实用新型提出的一种氮化铝基板表面处理设备,解决了对氮化铝陶瓷基板在进行研磨处研磨效果较差的问题。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:一种氮化铝基板表面处理设备,包括工作台,所述工作台的顶部固定有安装架,所述工作台的顶部转动连接有放置座,所述安装架的底部固定有电动推杆,所述电动推杆的活动端固定有安装板,所述安装板的底部固定有驱动电机,所述驱动电机的输出端设置有研磨盘,所述安装架位于研磨盘的一侧固定有固定板,所述固定板的顶部固定有箱体,所述箱体的内部转动连接有搅拌杆,所述箱体的一侧连通有喷头,所述工作台的内部设置有传动组件。
优选的,所述传动组件包括与放置座同轴的转动齿轮,所述工作台位于转动齿轮的一侧转动连接有与搅拌杆同轴的从动齿轮,所述转动齿轮与所述从动齿轮啮合,所述安装架一侧固定有滑动套,所述滑动套的内部滑动贯穿有传动轴,所述传动轴与所述驱动电机的输出端均固定有带轮,两个所述带轮的外表面设置有皮带,所述传动轴的底端固定有与转动齿轮相啮合的按压齿轮。
优选的,所述从动齿轮位于所述转动齿轮的中心处,所述按压齿轮至所述转动齿轮的距离与所述研磨盘至放置座的距离相适配。
优选的,所述箱体的顶部穿设有进料斗,所述喷头的底部与所述箱体的侧面呈倾斜分布。
优选的,所述研磨盘的顶部开设有多个研磨槽,多个所述研磨槽与所述研磨盘的轴心呈对称分布。
优选的,所述工作台的顶部固定有支撑环,所述支撑环的顶部开设有环形槽,所述放置座的底部设置有多个呈对称分布的转动块。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1、本实用新型中通过电动推杆的推动,使得研磨盘与基板的表面接触,此时通过驱动电机的转动,带动研磨盘进行转动,通过带轮和皮带的作用,使得传动轴进行同步转动,通过按压齿轮和转动齿轮的啮合传动作用,使得放置座与研磨盘呈反向转动,从而进一步提高基板的研磨效果,转动齿轮在转动的同时,带动从动齿轮同步转动,使得位于箱体内部的研磨液进行充分搅拌,通过喷头对基板的表面进行研磨液的添加,从而进一步提高基板在放置座上转动研磨的效果。
2、本实用新型中研磨盘内研磨槽的设置,使得研磨盘内储存一定量的研磨液,从而使得基板进行更好的研磨处理;支撑环和转动块的设置,使得放置座在转动时更加稳定。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种氮化铝基板表面处理设备的主剖结构示意图;
图2为图1中A区域放大图;
图3为本实用新型提出的一种氮化铝基板表面处理设备的转动齿轮处俯视局部示意图;
图4为本实用新型提出的一种氮化铝基板表面处理设备的研磨盘处俯视局部示意图;
图5为本实用新型提出的一种氮化铝基板表面处理设备的主视结构示意图。
图中:1、工作台;2、安装架;3、放置座;4、电动推杆;5、安装板;6、驱动电机;7、研磨盘;8、固定板;9、箱体;10、搅拌杆;11、喷头;12、传动组件;121、转动齿轮;122、从动齿轮;123、滑动套;124、传动轴;125、带轮;126、皮带;127、按压齿轮;13、进料斗;14、研磨槽;15、支撑环;16、环形槽;17、转动块。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
参照图1-5,一种氮化铝基板表面处理设备,包括工作台1,工作台1的顶部固定有安装架2,工作台1的顶部转动连接有放置座3,安装架2的底部固定有电动推杆4,电动推杆4的活动端固定有安装板5,安装板5的底部固定有驱动电机6,驱动电机6的输出端设置有研磨盘7,安装架2位于研磨盘7的一侧固定有固定板8,固定板8的顶部固定有箱体9,箱体9的内部转动连接有搅拌杆10,箱体9的一侧连通有喷头11,工作台1的内部设置有传动组件12,具体的,箱体9内部放置有溶于水的研磨剂,能够很好的做到去油污,防锈,清洁和增光效果,所以可以让氮化铝陶瓷电路板超过原本的光泽,电动推杆4带动研磨盘7与基板的表面接触,对基板表面进行研磨处理,传动组件12的设置,使得研磨盘7与放置座3呈反向转动,进而提高基板的研磨效果。
传动组件12包括与放置座3同轴的转动齿轮121,工作台1位于转动齿轮121的一侧转动连接有与搅拌杆10同轴的从动齿轮122,转动齿轮121与从动齿轮122啮合,安装架2一侧固定有滑动套123,滑动套123的内部滑动贯穿有传动轴124,传动轴124与驱动电机6的输出端均固定有带轮125,两个带轮125的外表面设置有皮带126,传动轴124的底端固定有与转动齿轮121相啮合的按压齿轮127,具体的,电动推杆4在带动安装板5运动时,按压齿轮127始终与转动齿轮121处于啮合状态,从而使得研磨盘7与放置座3呈相反方向转动,进一步提高研磨效果,从动齿轮122随着转动齿轮121转动时,带动箱体9内部的研磨液进行搅拌,提高研磨液的均匀性,在一定程度上提高对基板的研磨效果。
从动齿轮122位于转动齿轮121的中心处,按压齿轮127至转动齿轮121的距离与研磨盘7至放置座3的距离相适配,具体的,从动齿轮122和转动齿轮121位置的设置,提高从动齿轮122带动搅拌杆10转动时的稳定性,按压齿轮127位置的设置,使得电动推杆4在带动研磨盘7运动时,按压齿轮127始终与转动齿轮121处于啮合状态。
箱体9的顶部穿设有进料斗13,喷头11的底部与箱体9的侧面呈倾斜分布,具体的,进料斗13的设置,用于对箱体9内部研磨液的添加,喷头11倾斜分布,便于研磨液更好的与基板接触,从而提高研磨盘7对基板的研磨效果。
研磨盘7的顶部开设有多个研磨槽14,多个研磨槽14与研磨盘7的轴心呈对称分布,具体的,研磨槽14的设置,使得研磨盘7内储存一定量的研磨液,从而使得基板进行更好的研磨处理。
工作台1的顶部固定有支撑环15,支撑环15的顶部开设有环形槽16,放置座3的底部设置有多个呈对称分布的转动块17,具体的,支撑环15和转动块17的设置,使得放置座3在转动时更加稳定。
工作原理:在对基板进行研磨处理时,将基板放置于放置座3内部,此时通过电动推杆4的推动,使得研磨盘7与基板的表面接触,此时通过驱动电机6的转动,带动研磨盘7进行转动,通过带轮125和皮带126的作用,使得传动轴124进行同步转动,通过按压齿轮127和转动齿轮121的啮合传动作用,使得放置座3与研磨盘7呈反向转动,从而进一步提高基板的研磨效果,转动齿轮121在转动的同时,带动从动齿轮122同步转动,使得位于箱体9内部的研磨液进行充分搅拌,通过喷头11对基板的表面进行研磨液的添加,从而进一步提高基板在放置座3上转动研磨的效果;研磨盘7内研磨槽14的设置,使得研磨盘7内储存一定量的研磨液,从而使得基板进行更好的研磨处理。
电动推杆4和驱动电机6均可采用市场购置,电动推杆4和驱动电机6均配有电源,在本领域属于成熟技术,已充分公开,因此说明书中不重复赘述。
以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种氮化铝基板表面处理设备,包括工作台(1),所述工作台(1)的顶部固定有安装架(2),其特征在于,所述工作台(1)的顶部转动连接有放置座(3),所述安装架(2)的底部固定有电动推杆(4),所述电动推杆(4)的活动端固定有安装板(5),所述安装板(5)的底部固定有驱动电机(6),所述驱动电机(6)的输出端设置有研磨盘(7),所述安装架(2)位于研磨盘(7)的一侧固定有固定板(8),所述固定板(8)的顶部固定有箱体(9),所述箱体(9)的内部转动连接有搅拌杆(10),所述箱体(9)的一侧连通有喷头(11),所述工作台(1)的内部设置有传动组件(12)。
2.根据权利要求1所述的一种氮化铝基板表面处理设备,其特征在于,所述传动组件(12)包括与放置座(3)同轴的转动齿轮(121),所述工作台(1)位于转动齿轮(121)的一侧转动连接有与搅拌杆(10)同轴的从动齿轮(122),所述转动齿轮(121)与所述从动齿轮(122)啮合,所述安装架(2)一侧固定有滑动套(123),所述滑动套(123)的内部滑动贯穿有传动轴(124),所述传动轴(124)与所述驱动电机(6)的输出端均固定有带轮(125),两个所述带轮(125)的外表面设置有皮带(126),所述传动轴(124)的底端固定有与转动齿轮(121)相啮合的按压齿轮(127)。
3.根据权利要求2所述的一种氮化铝基板表面处理设备,其特征在于,所述从动齿轮(122)位于所述转动齿轮(121)的中心处,所述按压齿轮(127)至所述转动齿轮(121)的距离与所述研磨盘(7)至放置座(3)的距离相适配。
4.根据权利要求1所述的一种氮化铝基板表面处理设备,其特征在于,所述箱体(9)的顶部穿设有进料斗(13),所述喷头(11)的底部与所述箱体(9)的侧面呈倾斜分布。
5.根据权利要求1所述的一种氮化铝基板表面处理设备,其特征在于,所述研磨盘(7)的顶部开设有多个研磨槽(14),多个所述研磨槽(14)与所述研磨盘(7)的轴心呈对称分布。
6.根据权利要求2所述的一种氮化铝基板表面处理设备,其特征在于,所述工作台(1)的顶部固定有支撑环(15),所述支撑环(15)的顶部开设有环形槽(16),所述放置座(3)的底部设置有多个呈对称分布的转动块(17)。
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CN114473841A (zh) * | 2022-03-17 | 2022-05-13 | 重庆臻宝实业有限公司 | 一种半导体石英研磨装置 |
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