CN214218851U - 连续镀膜设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一连续镀膜设备，其中所述连续镀膜设备包括一辅助腔体和一工作腔体，通过对于所述辅助腔体预抽真空可以使得样品自所述辅助腔体被直接运输至所述工作腔体，所述工作腔体由于不需要和外部环境连通因此可以维持在预设的真空度，从而使得整个镀膜过程连续化。

Description

连续镀膜设备

技术领域

本实用新型涉及到真空镀膜设备技术领域，特别涉及到一种连续镀膜设备。

背景技术

目前的真空镀膜设备通常是有一个真空腔体和相关的抽气系统、进料系统组成的，待处理样品被放置在所述真空腔体内以在后续步骤中进行处理。处理完毕的样品离开所述真空腔体，然后下一批次的待处理样品被放入到所述真空腔体中，从而完成对于多批次的待镀膜样品的处理。

真空镀膜技术对于真空度有着较高的要求，这意味着在待处理样品进入到所述真空腔体后，所述真空腔体需要进行一定时间的抽真空处理，而在处理完毕的样品离开所述真空腔体之后，所述真空腔体需要再次进行抽真空处理，以达到真空镀膜要求的真空度。

另外，真空镀膜设备内一般被设置有转架以带动样品运动，运动的转架一方面有利于搅动所述真空腔体内的原料气体以使得所述真空腔体内的气体分布均匀，另一方面带动样品运动以使得样品均匀地和所述真空腔体内的气体接触，以使得镀膜均匀。然而在单一腔体导致样品在进出时需要开关门，导致所述真空腔体内的气压上升，一方面延长了真空镀膜设备的处理时间，降低了生产效率，另一方面可能导致样品的差异性增大，从而不利于最后产品的质量。详细地说，在一次镀膜过程中，大多数时间是用于等待真空镀膜设备的所述真空腔体的真空度达到预设数值，真正镀膜的时间较短，而在所述真空腔体内的等离子体的分布本身就不均匀，这会影响到同一批次的样品的品质。

实用新型内容

本实用新型的一优势在于提供一连续镀膜设备，其中所述连续镀膜设备可以节约抽真空的时间，从而提高生产效率。

本实用新型的另一优势在于提供一连续镀膜设备，其中所述连续镀膜设备包括一个工作腔体和可以形成至少一个辅助腔体，其中所述辅助腔体可以被事先抽真空，以降低等待所述工作腔体的抽真空的时间，其中样品可以被放置在所述辅助腔体中，然后被传输至所述工作腔体。

本实用新型的另一优势在于提供一连续镀膜设备，其中所述辅助腔体的数目可以是两个，一个是前置腔体，另一个是后置腔体，所述前置腔体供放置待处理样品并且被控制在预设真空度，以使得被放置于所述前置腔体的样品可以被快速地转移到所述工作腔体，所述后置腔体被控制在预设真空度以供放置镀膜完毕的样品，以使得所述工作腔体内的真空度不需要进行大幅波动，从而节约所述工作腔体的真空度变化的控制时间。

本实用新型的另一优势在于提供一连续镀膜设备，其中当所述辅助腔体的数目是至少两个，所述前置腔体和所述后置腔体的位置能够互换，以有利于所述连续镀膜设备的连续化作业。

本实用新型的另一优势在于提供一连续镀膜设备，其中所述连续镀膜设备提供一缓冲腔体，其中所述工作腔体被设置于所述缓冲腔体内，所述缓冲腔体能够为所述工作腔体和外界提供缓冲。

根据本实用新型的一方面，本实用新型提供了一连续镀膜设备，适于为待镀膜样品镀膜，其中所述连续镀膜设备包括：

一放电装置；

一进料装置；

一抽真空装置；

一工作腔体，其中所述工作腔体具有一工作腔；以及

至少一辅助腔体，其中所述辅助腔体能够形成有一个辅助腔，所述辅助腔用于转移样品，其中所述放电装置用于向所述工作腔体的所述工作腔放电，其中所述进料装置用于向所述工作腔体的所述工作腔进料，所述工作腔体和所述辅助腔体被真空度可控地连接于所述抽真空装置，其中每一所述辅助腔体和所述工作腔体之间具有一封闭状态和一连通状态并且被可操作地在所述封闭状态和所述连通状态之间变换，在所述连通状态，所述辅助腔体和所述工作腔体之间能够进行样品转移并且保持和外界封闭，在所述封闭状态，所述辅助腔体和所述工作腔体之间保持独立，其中在所述封闭状态，至少一个被放置有该未镀膜样品的所述辅助腔体被提前抽真空以为连通于所述工作腔体以转移该待镀膜样品做好准备，至少一个所述辅助腔体被提前抽真空以为连通于所述工作腔体以承接来自于所述工作腔体的样品做好准备，以使得所述工作腔体在所述封闭状态和所述连通状态之间变换时真空度能够被控制在预设范围内，从而所述工作腔体能够连续作业。

根据本实用新型的一个实施例，所述工作腔体具有一入口和一出口，其中所述辅助腔体的数目是两个，一个所述辅助腔体被设置于所述工作腔体的所述入口的位置，另一个所述辅助腔体被设置于所述工作腔体的所述出口的位置，在所述工作腔体内的该样品完成镀膜之前，设置于所述工作腔体的所述入口的位置的被装载有该待镀膜样品的所述辅助腔体和设置于所述工作腔体的所述出口的位置的所述辅助腔体被分别抽真空至预设范围，在所述工作腔体内的该样品完成镀膜之后，两个所述辅助腔体分别变换为所述连通状态，以使得所述工作腔体内的该样品被转移至位于所述出口的位置的所述辅助腔体，位于所述入口的位置的所述辅助腔体内的该样品被转移至所述工作腔体，以连续地进行镀膜。

根据本实用新型的一个实施例，所述工作腔体具有一入口和一出口，其中所述辅助腔体的数目是两个并且分别被实施为第一辅助腔体和第二辅助腔体，其中所述第一辅助腔体具有一第一辅助腔并且被可连通地连接于所述工作腔体的所述工作腔，所述第二辅助腔体具有一第二辅助腔并且被可连通地连接于所述工作腔体的所述工作腔，其中所述第一辅助腔体被可在通过连通所述工作腔体的所述入口以连通于所述工作腔和通过连通于所述工作腔体的所述出口以连通于所述工作腔之间变换，所述第二辅助腔体被可在通过连通所述工作腔体的所述入口以连通于所述工作腔和通过连通于所述工作腔体的所述出口以连通于所述工作腔之间变换。

根据本实用新型的一个实施例，所述连续镀膜设备进一步包括一镀膜腔体，其中所述镀膜腔体包括至少两个可移动隔板和一镀膜围壁，其中所述工作腔形成于所述可移动隔板之间，所述辅助腔体形成于所述移动隔板和所述镀膜围壁之间。

根据本实用新型的一个实施例，所述连续镀膜设备进一步包括一缓冲腔体，其中所述缓冲腔体具有一缓冲腔，所述工作腔体被设置于所述缓冲腔体的所述缓冲腔，所述辅助腔体被可连通地连接于所述缓冲腔体。

根据本实用新型的一个实施例，所述连续镀膜设备进一步包括一装载装置，其中所述装载装置适于装载该待镀膜样品，在所述辅助腔体连通于所述缓冲腔体，所述装载装置适于自所述辅助腔体的所述辅助腔移动至所述缓冲腔体的所述缓冲腔，然后所述装载装置适于自所述缓冲腔体的所述缓冲腔被移动至所述工作腔体的所述工作腔。

根据本实用新型的一个实施例，所述缓冲腔体被可连通地连接于所述进料装置，所述进料装置适于所述缓冲腔体供料以使得所述工作腔内外皆能够获得原料供应。

根据本实用新型的一个实施例，所述连续镀膜设备进一步包括至少一个装载装置，其中所述装载装置包括一移动单元和一转架，其中所述转架被可带动以移动地支撑于所述移动单元，其中所述该样品适于被安装于所述转架并且跟随所述转架一同运动。

根据本实用新型的一个实施例，所述连续镀膜设备进一步包括一导轨，其中所述导轨被设置在所述辅助腔体和所述工作腔体之间，以引导所述装载装置在所述辅助腔体和所述工作腔体之间移动。

根据本实用新型的一个实施例，所述装载装置的数目是至少两个，其中所述装载装置的所述转架被可转动地独立容纳于所述工作腔体的所述工作腔，任意一个所述转架上被设置的该样品被镀膜完毕后能够被转移至所述辅助腔体。

附图说明

图1是根据本实用新型的一较佳实施例的一连续镀膜设备被示意。

图2A是根据本实用新型的上述较佳实施例的所述连续镀膜设备的应用示意图。

图2B是根据本实用新型的上述较佳实施例的所述连续镀膜设备的应用示意图。

图2C是根据本实用新型的上述较佳实施例的所述连续镀膜设备的应用示意图。

图3是根据本实用新型的另一较佳实施例的所述连续镀膜设备的示意图。

图4A是根据本实用新型的上述较佳实施例的所述连续镀膜设备的应用示意图。

图4B是根据本实用新型的上述较佳实施例的所述连续镀膜设备的应用示意图。

图4C是根据本实用新型的上述较佳实施例的所述连续镀膜设备的应用示意图。

图5是根据本实用新型的另一较佳实施例的所述连续镀膜设备的示意图。

图6A是根据本实用新型的上述较佳实施例的所述连续镀膜设备的应用示意图。

图6B是根据本实用新型的上述较佳实施例的所述连续镀膜设备的应用示意图。

图6C是根据本实用新型的上述较佳实施例的所述连续镀膜设备的应用示意图。

图7是根据本实用新型的另一较佳实施例的所述连续镀膜设备的示意图。

图8A是根据本实用新型的上述较佳实施例的所述连续镀膜设备的应用示意图。

图8B是根据本实用新型的上述较佳实施例的所述连续镀膜设备的应用示意图。

图9是根据本实用新型的另一较佳实施例的所述连续镀膜设备的示意图。

图10A是根据本实用新型的上述较佳实施例的所述连续镀膜设备的应用示意图。

图10B是根据本实用新型的上述较佳实施例的所述连续镀膜设备的应用示意图。

具体实施方式

以下描述用于揭露本实用新型以使本领域技术人员能够实现本实用新型。以下描述中的优选实施例只作为举例，本领域技术人员可以想到其他显而易见的变型。在以下描述中界定的本实用新型的基本原理可以应用于其他实施方案、变形方案、改进方案、等同方案以及没有背离本实用新型的精神和范围的其他技术方案。

本领域技术人员应理解的是，在本实用新型的揭露中，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系是基于附图所示的方位或位置关系，其仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此上述术语不能理解为对本实用新型的限制。

可以理解的是，术语“一”应理解为“至少一”或“一个或多个”，即在一个实施例中，一个元件的数量可以为一个，而在另外的实施例中，该元件的数量可以为多个，术语“一”不能理解为对数量的限制。

参考附图1至附图2C所示，根据本实用新型的一较佳实施例的一连续镀膜设备1被示意。

所述连续镀膜设备1能够形成至少两个腔，其中一个腔为工作腔100，用于在待镀膜样品表面进行镀膜，至少一个为辅助腔200，其中所述辅助腔200用于节约等待所述工作腔100的真空度被控制在预设值的时间。

详细地说，所述连续镀膜设备1可以包括一工作腔体10、至少一辅助腔体 20、一进料装置30、一放电装置40以及一抽真空装置50，其中所述工作腔体 10可以形成所述工作腔100，所述辅助腔体20可以形成所述辅助腔200，所述进料装置30用于将原料运输到所述工作腔体10的所述工作腔100，所述放电装置40用于向所述工作腔体10的所述工作腔100放电，以提供符合要求的环境，至少部分原料反应生成等离子体，从而在待镀膜样品表面沉积形成膜层。所述抽真空装置50用于控制所述工作腔体10的所述工作腔100的真空度，可以将所述工作腔100的真空度升高，也可以将所述工作腔100的真空度降低。

可以理解的是，所述抽真空装置50不仅可以控制所述工作腔体10的所述工作腔100的真空度，还可以控制所述辅助腔体20的所述辅助腔200的真空度。

所述抽真空装置50可以同时控制所述工作腔体10的所述工作腔100和所述辅助腔体20的所述辅助腔200的真空度，也可以分别控制所述工作腔体10的所述工作腔100和所述辅助腔体20的所述辅助腔200的真空度。所述抽真空装置 50包括至少一抽气单元51，其中所述抽气单元51的数目可以是一个，并且通过同一个所述抽气单元51可以分别控制所述工作腔体10的所述工作腔100和所述辅助腔体20的所述辅助腔200的真空度。所述抽气单元51的数目可以是两个或者是更多，一个所述抽气单元51可以控制所述工作腔体10的所述工作腔100的真空度，其他的所述抽气单元51可以控制所述辅助腔体20的所述辅助腔200的真空度。可以理解的是，当所述辅助腔体20的所述辅助腔200的数目是两个或者是更多的，可以通过一个所述抽气单元51同时进行控制或者是每一个所述辅助腔体20的所述辅助腔200可以被设置有一个所述抽气单元51。

进一步地，所述抽气单元51还可以包括一初级抽气模块511和一次级抽气模块512，其中所述初级抽气模块511可以包括大抽速的机械泵、罗茨泵、气缸以及电磁阀控制的前级阀组成，所述次级抽气模块512可以包括至少一个高真空抽气泵。在对于所述工作腔体10的所述工作腔100或者所述辅助腔体20的所述辅助腔200进行真空度的控制时，可以启动所述初级抽气模块511进行抽气，至真空度达到预设数值，然后启动次级抽气模块512进行抽气，直到达到所需要的真空度。所述工作腔体10的所述工作腔100或者是所述辅助腔体20的所述辅助腔200的恢复过程就是启动设备上装配的控制阀，从而通入空气或者是保护气以使得所述工作腔100或者是所述辅助腔200的气压上升。

进一步地，所述连续镀膜设备1还包括一装载装置60，其中所述装载装置 60能够被安装于所述工作腔体10并且用于承载待镀膜样品，以使得待镀膜样品保持在一定的位置。

所述装载装置60被可相对于所述工作腔体10转动地安装于所述工作腔体10，在所述装载装置60移动时，位于所述装载装置60的待镀膜样品也跟随所述装载装置60相对于所述工作腔体10移动。详细地说，当原料通过所述进料装置30 进入到所述工作腔体10的所述工作腔100之后，基于各种原因在所述工作腔100 内的分布并不均匀，这可能导致最后的镀膜效果较差，在所述装载装置60的不同位置的待镀膜样品表面形成的膜层的厚度可能是不同的，也就是说，同一批次的待镀膜样品表面的膜层厚度难以保证。如果所述装载装置60转动并且带动待镀膜样品一同移动，一方面所述工作腔体10的所述工作腔100内的原料浓度可以被分布的较为均匀，另一方面待镀膜样品也可以和多个位置的原料相互接触以有利于均匀度。

在本实施例中，所述装载装置60可以包括一转架61和至少一个载台62，其中所述转架61被可拆卸地安装于所述工作腔体10并且被可驱动以转动地安装于所述工作腔体10。所述载台62被安装于所述转架61并且用于承载待镀膜样品。值得一提的是，所述载台62可以是被可转动地安装于所述转架61，并且所述载台62可以是可自转地安装于所述转架61。也就是说，所述载台62不仅可以自转，还可以绕所述转架61的转动轴线公转，从而有利于获得镀膜均匀的产品。

进一步地，所述装载装置60的至少部分被可替换地安装于所述工作腔体10，以使得当前一批次的待镀膜样品镀膜完毕之后，后一批次的待镀膜样品可以被快速地放置在预期的位置。可选的方式有，所述装载装置60的所述载台62被可替换地安装于所述转架61，以使得当前批次的完成镀膜的样品可以被快速地替换为装载有下一批次的待镀膜样品的所述载台62，或者是整个所述装载装置60被可替换地安装于所述转架61，以使得当前批次的完成镀膜的样品可以被快速地替换为装载有下一批次的待镀膜样品的所述装载装置60。

在本实施例中，以整个所述装载装置60被可替换为例进行说明，本领域技术人员可以理解的是，前一批次和后一批次的样品的更换方式并不限制于此。

所述装载装置60进一步可以包括一移动单元63，其中所述移动单元63被安装于所述转架61的底端，所述移动单元63可带动所述转架61或者所述载台62 移动。所述移动单元63可以是一滚轮、一履带或者是一机械腿。

所述连续镀膜设备1还可以包括一导轨90，所述导轨90可以延伸于所述辅助腔体20和所述工作腔体10之间，以引导所述装载装置60在所述辅助腔体20 和所述工作腔体10之间移动。

所述装载装置60可以是主动地在所述辅助腔体20和所述工作腔体10之间移动，也可以是被动地在所述辅助腔体20和所述工作腔体10之间移动。举例说明，操作人员可以操控所述装载装置60的移动路径，也可以是所述装载装置60 自动基于周围环境进行移动。

当所述连续镀膜设备1中被承载于所述装载装置60的样品已经被镀膜完毕之后，借由所述移动单元63，位于所述工作腔体10的所述装载装置60可以移动至所述辅助腔体20，所述辅助腔体20和所述工作腔体10的真空度类似，比如说两者的气压相同，或者所述辅助腔体20内的气压小于所述工作腔体10内的气压，以使得所述辅助腔体20内的气体不会进入到所述工作腔体10内，以避免对于所述工作腔体10造成影响。而另一个装载有待镀膜样品的所述装载装置60 可以通过另一个所述辅助腔200进入到所述工作腔体10的所述工作腔100，以进行下一批次的镀膜。

换句话说，在本实施例中，所述辅助腔体20的数目是两个，一个所述辅助腔体20为前置腔体，另一个所述辅助腔体20为后置腔体，所述装载装置60先进入到前置的所述辅助腔体20，前置的所述辅助腔体20抽真空至预设数值，然后前置的所述辅助前置连通于所述工作腔体10，由于前置的所述辅助腔体20和所述工作腔体10的气压相近或者是前置的所述辅助腔体20的气压小于所述工作腔体10的气压，因此前置的所述辅助腔体20连通于所述工作腔体10并不会对于所述工作腔体10造成过多的影响，所述装载装置60可以自前置的所述辅助腔体20的所述辅助腔200移动至所述工作腔体10的所述工作腔100。

可以理解的是，所述装载装置60可以被自动地自所述辅助腔体20进入到所述工作腔体10，也可以是被动地自所述辅助腔体20进入到所述工作腔体10。所述装载装置60可以是一电动小车，沿着预设的路径自所述辅助腔体20进入到所述工作腔体10，也可以是所述装载装置60被相关人员操作以自所述辅助腔体20 进入到所述工作腔体10。当然，所述装载装置60也可以采用其他的方式移动，比如说所述装载装置60可以是一机械运动装置，其可以被其他机械装置驱动，以在所述辅助腔体20和所述工作腔体10之间移动。本领域技术人员应当理解的是，所述装载装置60在所述辅助腔体20和所述工作腔体10之间的转移方式可以是多样的，并不限制于上述的举例说明。

进一步地，来自于前置的所述辅助腔体20的所述装载装置60被移动至所述工作腔体10并且移动至所述工作腔体10的适宜位置之后，所述装载装置60可以被驱动以绕固定轴线转动，比如说所述转架61可以自转。所述进料装置30、所述抽真空装置50以及所述放电装置40可以相互配合工作以在所述工作腔体 10的所述工作腔100提供合适的等离子镀膜环境，从而在所述装载装置60的待镀膜样品表面形成合适厚度的膜层。在这个过程中，前置的所述辅助腔体20和所述工作腔体10之间保持封闭，前置的所述辅助腔体20的所述辅助腔200重新成为了独立的部分。

在所述工作腔体10的镀膜结束之后，原本和所述工作腔体10保持独立的后置的所述辅助腔体20和所述工作腔体10的所述工作腔100连通，以使得装载有镀膜完毕的样品的所述装载装置60能够从所述工作腔100移动至后置的所述辅助腔体20的所述辅助腔200。在所述装载装置60完全进入到所述辅助腔体20 之后，后置的所述辅助腔体20和所述工作腔体10重新保持封闭。在这个过程中，载有待镀膜样品的另一个所述装载装置60可以进入到所述工作腔体10的所述工作腔100。

值得一提的是，对于所述工作腔体10而言，原本其需要花较长的时间于抽真空至需要的数值，由于被设置有前置的所述辅助腔体20和后置的所述辅助腔体20，因此在样品进出所述工作腔体10的过程中，所述工作腔体10不需要花较多时间于抽真空。

当所述工作腔体10内的样品需要被取出后，并且被重新放入新的待镀膜样品后，由于所述工作腔体10的真空度和前置的所述辅助腔体20或者是后置的所述辅助腔体20的真空度相近，因此所述工作腔体10的所述工作腔100的真空度的波动较小，可以不进行再次调整或者是进行轻微调整即可。

而对于所述辅助腔体20而言，不论是前置的所述辅助腔体20或者是后置的所述辅助腔体20，当样品进入到前置的所述辅助腔体20后或者是将要进入到后置的所述辅助腔体20之前，所述辅助腔体20需要被抽真空以在和所述工作腔体 10连通时不对于所述工作腔体10造成过多的影响。

换句话说，每一所述辅助腔体20和所述工作腔体10之间具有一封闭状态和一连通状态并且被可操作地在所述封闭状态和所述连通状态之间变换，在所述连通状态，所述辅助腔体20和所述工作腔体10之间能够进行样品转移并且保持和外界封闭，在所述封闭状态，所述辅助腔体20和所述工作腔体10之间保持独立，其中在所述封闭状态，至少一个被放置有未镀膜样品的所述辅助腔体20被提前抽真空以为连通于所述工作腔体10以转移待镀膜样品做好准备，至少一个所述辅助腔体20被提前抽真空以为连通于所述工作腔体10以承接来自于所述工作腔体10的样品做好准备，以使得所述工作腔体10在所述封闭状态和所述连通状态之间变换时真空度能够被控制在预设范围内，从而所述工作腔体10能够连续作业。

在本实施例中，两个所述辅助腔体20可以被分别设置于所述工作腔体10的同侧，也可以分别设置于所述工作腔体10的两侧，所述工作腔体10的形状可以是一个立方体，也可以是一圆柱状结构，以使得当所述装载装置60的所述转架 61的形状为圆柱状时，被布置于所述工作腔体10的中轴线位置的所述装载装置 60周围的气体可以分布的更加均匀。

所述工作腔体10可以形成至少一个开口，比如说两个所述开口，一个所述开口用于连通所述工作腔体10和前置的所述辅助腔体20，另一个所述开口用于连通所述工作腔体10和后置的所述辅助腔体20。两个所述开口可以被分别封闭或者是打开，以使得所述工作腔体10和所述辅助腔体20相互独立或者相互连通。换句话说，所述工作腔体10可以形成有一个入口101和一个出口102，所述入口101和所述出口102可以是不同的开口。

值得注意的是，所述辅助腔体20的数目是可以两个，也可以是一个，同一个所述辅助腔体20既可以作为前置的所述辅助腔体20，以用于转移待镀膜样品至所述工作腔体10，也可以作为后置的所述辅助腔体20，以用于转移来自于所述工作腔体10的镀膜完毕的样品。

举例说明，所述工作腔体10内被放置入新的待镀膜样品，然后开始镀膜，在这个过程中，所述辅助腔体20的所述辅助腔200和外部连通，以使得外部的新的待镀膜样品被转移至所述辅助腔体20的所述辅助腔200，然后对于所述辅助腔体20的所述辅助腔200进行抽真空处理。在所述工作腔体10内的镀膜过程结束后，已经镀膜完毕的样品可以被转移至所述辅助腔体20，然后所述辅助腔体20内的新的待镀膜样品可以被转移至所述工作腔体10。换句话说，所述辅助腔体20的所述辅助腔200可以被设置为可容纳至少两批次的待镀膜样品。

参考附图3至附图4C所示，根据本实用新型的另一较佳实施例的所述连续镀膜设备1被示意。

在本实施例中，所述连续镀膜设备1包括所述工作腔体10、两个所述辅助腔体20、所述进料装置30、所述放电装置40、所述抽真空装置50以及所述装载装置60，其中所述装载装置60被可驱动以转动地安装于所述工作腔体10。

所述辅助腔体20被可相对于所述工作腔体10移动地设置，详细地说，两个所述辅助腔体20的位置可以互换。

两个所述辅助腔体20分别被称为第一辅助腔体20A和第二辅助腔体20B，其中所述第一辅助腔体20A和所述第二辅助腔体20B被分别可导通地连接于所述工作腔体10。

当所述工作腔体10的所述工作腔100被抽至期望的真空状态的过程中，所述第一辅助腔体20A可以被转移入待镀膜样品并且也被抽真空至期望的数值。当所述工作腔体10的所述工作腔100和所述第一辅助腔体20A的所述辅助腔200 的真空度分别达到要求时，所述工作腔体10的所述工作腔100可以连通于所述第一辅助腔体20A，以使得所述第一辅助腔体20A内的待镀膜样品可以转移至所述工作腔100。在这个过程当中，所述第二辅助腔体20B可以被放入新的待镀膜样品，并且被抽真空，以使得在所述工作腔体10完成对于第一批次的样品的镀膜之后，第二批次的样品可以被转移至所述工作腔体10。

被取走第一批次样品而空置的所述第一辅助腔体20A可以被移动至所述工作腔体10的取出开口位置，以用于承接来自于所述工作腔体10的镀膜完毕的第一批次的样品。

当第一批次样品自所述工作腔体10被转移至所述第一辅助腔体20A，那么所述第二辅助腔体20B内的第二批次样品可以被转移至所述工作腔体10，并且空置的所述第二辅助腔体20B可以移动至所述工作腔体10的取出开口位置，以用于承接来自于所述工作腔体10的镀膜完毕的第二批次的样品。而所述第一辅助腔体20A内的第一批次样品自所述第一辅助腔体20A被取出然后被转移至预设位置之后，所述第一辅助腔体20A可以重新被放置入新的待镀膜样品。然后重复上述步骤。

本实施例和上述实施例的不同之处在于所述第一辅助腔体20A和所述第二辅助腔体20B的位置是可以互换的。这种方式有着其独特的优势。详细地说，在所述连续镀膜设备1的工作过程中，比较耗时的过程主要在于将所述第一辅助腔体20A、所述第二辅助腔体20B或者所述工作腔体10和常压环境连通之后需要抽真空至预设数值的时间。

如果所述第一辅助腔体20A、所述工作腔体10以及所述第二辅助腔体20B 被固定布置，即，所述第一辅助腔体20A对应于所述工作腔体10的所述入口101，所述第二辅助腔体20B对准于所述工作腔体10的所述出口102，那么在所述第一辅助腔体20A中的待镀膜样品被取走之后才可以重新装载新的待镀膜样品。如果所述工作腔体10的镀膜时间较短，那么所述工作腔体10可能需要等待一段时间才能够被重新放入新的待镀膜样品。而在本实施例中，由于所述第一辅助腔体20A、所述第二辅助腔体20B以及所述工作腔体10被可移动布置，因此所述工作腔体10用于等待重新放入新的待镀膜样品的时间能够被节约。

在本实施例中，所述辅助腔体20的数目是两个，可以理解的是，所述辅助腔体20的数目也可以是多个，以三个为例进行举例说明，所述第一辅助腔体20A、所述第二辅助腔体20B以及第三辅助腔体20，当所述第一辅助腔体20A和所述工作腔体10连通以转移新的待镀膜样品至所述工作腔体10时，所述第二辅助腔体20B可以用于放置新的待镀膜样品，以在下一次镀膜开始前将新的待镀膜样品转移至所述工作腔体10内。所述第三辅助腔体20可以作为后置的所述辅助腔体20使用。所述第一辅助腔体20A、所述第二辅助腔体20B以及所述第三辅助腔体20可以相互作为所述工作腔体10的所述前置腔体或者所述后置腔体使用。

参考附图5至附图6C所示，是根据本实用新型的另一较佳实施例的所述连续镀膜设备1被示意。

在本实施例中，所述连续镀膜设备1可以包括所述工作腔体10、至少一所述辅助腔体20、所述进料装置30、所述放电装置40以及所述抽真空装置50。所述工作腔体10的数目是一个，所述辅助腔体20的数目是两个。

所述辅助腔体20被设置为大小可变的，以通过控制所述辅助腔体20的大小来辅助改变所述辅助腔体20的真空度。

详细地说，所述连续镀膜设备1可以包括一镀膜腔体70，其中所述镀膜腔体 70包括至少两个可移动隔板71和一镀膜围壁72，其中所述工作腔体10的所述工作腔100形成于所述可移动隔板71之间，所述辅助腔体20的所述辅助腔200 可以形成于所述可移动隔板71和所述镀膜围壁72之间。

借由所述可移动隔板71和所述镀膜围壁72之间的位置变化可以形成所述辅助腔体20的所述辅助腔200。所述镀膜腔体70可以具有至少两种状态，一种状态是所述镀膜腔体70作为所述工作腔体10使用，所述镀膜腔体70就是所述工作腔体10，一种状态是所述镀膜腔体70分别作为所述工作腔体10和所述辅助腔体20使用，位于所述可移动隔板71之间的为所述工作腔100，位于所述可移动隔板71和所述镀膜围壁72之间的为所述辅助腔200。所述辅助腔200的数目是两个，可以分别形成于所述工作腔体10的两侧。

当待镀膜样品需要被运输至所述镀膜腔体70进行镀膜时，所述镀膜腔体70 的所述入口打开，所述待镀膜样品被运输至所述辅助腔体20，至所述辅助腔体 20内的真空度被控制至预设范围，然后连通所述辅助腔体20和所述工作腔体10，以使得所述辅助腔体20内的所述待镀膜样品被运输至所述工作腔体10。

当已经镀膜完毕的样品需要被传输以离开所述镀膜腔体70时，另一个所述辅助腔体20被预先抽真空至预设范围，然后连通所述辅助腔体20和所述工作腔体10，以使得已经镀膜完毕的样品被运输至所述辅助腔体20，所述辅助腔体20 的所述辅助腔200被可连通地连接于所述镀膜腔体70的所述出口，从而已经镀膜完毕的样品可以通过所述镀膜腔体70的所述出口离开所述镀膜腔体70。

值得注意的是，当待镀膜样品位于所述工作腔体10后，借由所述可移动隔板71的移动，所述工作腔100的大小能够变化，一方面使得让操作者可以对于所述待镀膜样品和所述工作腔体10之间的距离做出调整，以控制原料的分布，一方面可以为所述装载装置60的移动留出足够的空间。

参考附图6A至附图6C所示，当需要镀膜的样品被运输到所述工作腔100 位置，所述辅助腔200可以和所述工作腔100连通，以使得整个所述镀膜腔700 提供一个镀膜环境。当样品即将镀膜完毕，所述辅助腔200可以重新变为封闭状态，在新的样品进入到所述辅助腔200后可以被重新抽真空以在后续步骤中连通于所述工作腔100。

参考附图7至附图8B所示，是根据本实用新型的另一较佳实施例的所述连续镀膜设备1被示意。

所述连续镀膜设备1可以包括所述工作腔体10、至少一所述辅助腔体20、所述进料装置30、所述放电装置40、所述抽真空装置50以及所述装载装置60。

在本实施例中，所述连续镀膜设备1进一步包括一缓冲腔体80，其中所述缓冲腔体80具有一缓冲腔800，所述工作腔体10可以被容纳于所述缓冲腔800。

所述缓冲腔体80具有一入口和一出口，所述缓冲腔体80的所述入口和所述出口可以是同一个开口，也可以是不同的开口。在本实施例中，所述缓冲腔体 80的所述入口和所述出口是不同的开口。

当一个批次的待镀膜样品被放置在所述工作腔体10进行镀膜时，下一个批次的待镀膜样品可以被转移至一个所述辅助腔体20。装载有所述待镀膜样品的所述辅助腔体20可以被抽真空，然后被连通于所述缓冲腔体80的所述缓冲腔 800，以使得所述待镀膜样品被运输至所述工作腔100外。

等待所述工作腔体10内的所述待镀膜样品镀膜完毕之后，就可以传输所述工作腔体10外的所述待镀膜样品至所述工作腔体10内，以替换上一次批次的样品。

值得注意的是，所述进料装置30还可以为所述缓冲腔体80的所述缓冲腔800 供料，以使得当所述工作腔100被打开然后重新封闭之后，不需要过久地等待原料浓度达到一定的数值。换句话说，由于所述缓冲腔体80的存在，所述工作腔体10内外的原料浓度可以被维持在一定的范围，以方便在所述待镀膜样品表面进行镀膜。

进一步地，原本位于所述工作腔体10内的已经镀膜完毕的样品可以通过所述工作腔体10的一出口被运输以离开所述工作腔体10，经过所述缓冲腔体80 的中转后可以被运输至外界。

值得一提的是，所述缓冲腔体80不仅可以对于镀膜原料起到缓冲的作用，还可以在提供真空环境上提供一个缓冲作用。来自于所述辅助腔体20的所述装载装置60可以被运输至所述缓冲腔体80，然后所述缓冲腔体80重新恢复到封闭状态，空置的所述辅助腔体20可以重新进行上样和抽真空的步骤以运输新的样品至所述缓冲腔体80。当所述工作腔体10对样品镀膜完毕之后，所述工作腔体10可以在所述缓冲腔体80提供的真空环境下变换为打开状态，以使得待镀膜样品进行到所述工作腔体10内，以进行镀膜。当然，可以理解的是，样品也可以不在所述缓冲腔体80位置停留，直接进入到已经打开的所述工作腔体10内。

参考附图9至附图10B所示，是根据本实用新型的另一较佳实施例的所述连续镀膜设备1被示意。

所述连续镀膜设备1可以包括所述工作腔体10、至少一所述辅助腔体20、所述进料装置30、所述放电装置40、所述抽真空装置50以及所述装载装置60。

在本实施例中，所述装载装置60的数目是多个，被分别安装于所述工作腔体10的所述工作腔100的各个位置。所述装载装置60被设置为相互独立的，并且可以是不同类型的，以供放置不同批次或者是不同类型的样品。

多个所述装载装置60中的一个所述装载装置60上设置的样品被镀膜完毕之后，就可以被转移至一个所述辅助腔体20，同时新的样品可以被移动至所述工作腔体10内。

详细地说，所述工作腔体10内可以被设置有三个所述装载装置60A，60B， 60C。当所述装载装置60A上的样品完成镀膜之后，所述工作腔100室打开，以使得所述装载装置60A带着已经镀膜完毕的样品移动至一个所述辅助腔体20A，在这个过程中，所述工作腔体10保持对于所述装载装置60B和所述装载装置60C 的镀膜。另外，另一个所述辅助腔体20可以将新的待镀膜样品传递至所述工作腔体10。

如果是所述工作腔体10内的所述装载装置60B和60C上的样品同时完成镀膜，可以借由两个所述辅助腔体20B和20C来分别转移样品。

可以理解的是，上一个实施例中的所述缓冲腔体80可以被设置在所述工作腔体10之前，以减少所述工作腔体10的开合对于镀膜环境造成的影响，从而有利于整个镀膜流程的连续性。

值得注意的是，虽然所述装载装置60A、60B以及60C一同被放置在所述工作腔体10内，但是所述装载装置60A、60B以及60C之间保持相互独立，并且在所述工作腔体10连通于所述辅助腔体20时，通过所述进料装置30对于进料的控制，所述工作腔体10内原料的分布可以保持均一和稳定，因此不需要转移的所述装载装置60B和60C在所述装载装置60A被转移的过程中还是可以保持对于样品的转动以使得样品被继续镀膜。当然可以理解的是，操作人员也可以选择暂时停止进料或者是放电，以在所述工作腔体10重新恢复到封闭状态之后，再开始镀膜。

根据本实用新型的另一方面，本实用新型提供了一连续镀膜方法，其中所述连续镀膜方法包括如下步骤：

运输样品至所述工作腔体10内镀膜；

在样品镀膜完毕之前对装载有待镀膜样品的所述辅助腔体20预抽真空；以及

连通所述辅助腔体20和所述工作腔100室以转移所述待镀膜样品。

根据本实用新型的另一方面，本实用新型提供了一连续镀膜方法，其中所述连续镀膜方法包括如下步骤：

在所述工作腔体10内的样品进行镀膜；

在样品镀膜完毕之前对于装载有待镀膜样品的所述辅助腔体20预抽真空；以及

连通所述辅助腔体20和所述工作腔体10以转移下一批次的样品至所述工作腔体10，从而所述工作腔体10能够连续进行镀膜。

根据本实用新型的一个实施例，在所述预抽真空步骤中，对于一空置的所述辅助腔体20进行预抽真空，以在后续步骤中供转移来自于所述工作腔体10的已经镀膜完毕的样品。

根据本实用新型的一个实施例，在所述连通步骤中，来自于所述工作腔体10 的已经镀膜完毕的样品被转移至原先装载有样品的所述辅助腔体20。

根据本实用新型的一个实施例，在上述方法中，所述辅助腔体20的数目是两个，一个用于装载新的样品，另一个用于承接来自于所述工作腔体10的已经镀膜完毕的样品。

根据本实用新型的一个实施例，进一步包括如下步骤：连通另一个所述辅助腔体20于所述工作腔体10的所述出口以转移来自于所述工作腔体10的已经镀膜完毕的样品。

根据本实用新型的一个实施例，其中在上述方法中，在连通所述辅助腔体10 和所述工作腔体20之前，先连通所述辅助腔体10于所述缓冲腔体80，其中所述工作腔体10被容纳于所述缓冲腔体80。

根据本实用新型的一个实施例，其中在上述方法中，借由所述镀膜腔体70 的所述可移动隔板71相对于所述镀膜围壁72的移动以形成所述辅助腔200。

根据本实用新型的一个实施例，其中在上述方法中，多个装载有样品的所述装载装置60被容纳于所述工作腔体20，并且被可独立地自所述工作腔体20被取出并且不对于其他的所述装载装置60造成干扰。

本领域的技术人员应理解，上述描述及附图中所示的本实用新型的实施例只作为举例而并不限制本实用新型。本实用新型的目的已经完整并有效地实现。本实用新型的功能及结构原理已在实施例中展示和说明，在没有背离所述原理下，本实用新型的实施方式可以有任何变形或修改。

Claims (10)

1.一种连续镀膜设备，适于为待镀膜样品镀膜，其特征在于，包括：

一放电装置；

一进料装置；

一抽真空装置；

一工作腔体，其中所述工作腔体具有一工作腔；以及

至少一辅助腔体，其中所述辅助腔体能够形成有一个辅助腔，所述辅助腔用于转移样品，其中所述放电装置用于向所述工作腔体的所述工作腔放电，其中所述进料装置用于向所述工作腔体的所述工作腔进料，所述工作腔体和所述辅助腔体被真空度可控地连接于所述抽真空装置，其中每一所述辅助腔体和所述工作腔体之间具有一封闭状态和一连通状态并且被可操作地在所述封闭状态和所述连通状态之间变换，在所述连通状态，所述辅助腔体和所述工作腔体之间能够进行样品转移并且保持和外界封闭，在所述封闭状态，所述辅助腔体和所述工作腔体之间保持独立，其中在所述封闭状态，至少一个被放置有该待镀膜样品的所述辅助腔体被提前抽真空以为连通于所述工作腔体以转移该待镀膜样品做好准备，至少一个所述辅助腔体被提前抽真空以为连通于所述工作腔体以承接来自于所述工作腔体的样品做好准备，以使得所述工作腔体在所述封闭状态和所述连通状态之间变换时真空度能够被控制在预设范围内，从而所述工作腔体能够连续作业。

2.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其中所述工作腔体具有一入口和一出口，其中所述辅助腔体的数目是两个，一个所述辅助腔体被设置于所述工作腔体的所述入口的位置，另一个所述辅助腔体被设置于所述工作腔体的所述出口的位置，在所述工作腔体内的该样品完成镀膜之前，设置于所述工作腔体的所述入口的位置的被装载有该待镀膜样品的所述辅助腔体和设置于所述工作腔体的所述出口的位置的所述辅助腔体被分别抽真空至预设范围，在所述工作腔体内的该样品完成镀膜之后，两个所述辅助腔体分别变换为所述连通状态，以使得所述工作腔体内的该样品被转移至位于所述出口的位置的所述辅助腔体，位于所述入口的位置的所述辅助腔体内的该样品被转移至所述工作腔体，以连续地进行镀膜。

3.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其中所述工作腔体具有一入口和一出口，其中所述辅助腔体的数目是两个并且分别被实施为第一辅助腔体和第二辅助腔体，其中所述第一辅助腔体具有一第一辅助腔并且被可连通地连接于所述工作腔体的所述工作腔，所述第二辅助腔体具有一第二辅助腔并且被可连通地连接于所述工作腔体的所述工作腔，其中所述第一辅助腔体被可在通过连通所述工作腔体的所述入口以连通于所述工作腔和通过连通于所述工作腔体的所述出口以连通于所述工作腔之间变换，所述第二辅助腔体被可在通过连通所述工作腔体的所述入口以连通于所述工作腔和通过连通于所述工作腔体的所述出口以连通于所述工作腔之间变换。

4.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其中所述连续镀膜设备进一步包括一镀膜腔体，其中所述镀膜腔体包括至少两个可移动隔板和一镀膜围壁，其中所述工作腔形成于所述可移动隔板之间，所述辅助腔体形成于所述移动隔板和所述镀膜围壁之间。

5.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其中所述连续镀膜设备进一步包括一缓冲腔体，其中所述缓冲腔体具有一缓冲腔，所述工作腔体被设置于所述缓冲腔体的所述缓冲腔，所述辅助腔体被可连通地连接于所述缓冲腔体。

6.根据权利要求5所述的连续镀膜设备，其中所述连续镀膜设备进一步包括一装载装置，其中所述装载装置适于装载该待镀膜样品，所述辅助腔体连通于所述缓冲腔体，所述装载装置适于自所述辅助腔体的所述辅助腔移动至所述缓冲腔体的所述缓冲腔，然后所述装载装置适于自所述缓冲腔体的所述缓冲腔被移动至所述工作腔体的所述工作腔。

7.根据权利要求6所述的连续镀膜设备，其中所述缓冲腔体被可连通地连接于所述进料装置，所述进料装置适于所述缓冲腔体供料以使得所述工作腔内外皆能够获得原料供应。

8.根据权利要求1至4任一所述的连续镀膜设备，其中所述连续镀膜设备进一步包括至少一个装载装置，其中所述装载装置包括一移动单元和一转架，其中所述转架被可带动以移动地支撑于所述移动单元，其中所述样品适于被安装于所述转架并且跟随所述转架一同运动。

9.根据权利要求8所述的连续镀膜设备，其中所述连续镀膜设备进一步包括一导轨，其中所述导轨被设置在所述辅助腔体和所述工作腔体之间，以引导所述装载装置在所述辅助腔体和所述工作腔体之间移动。

10.根据权利要求8所述的连续镀膜设备，其中所述装载装置的数目是至少两个，其中所述装载装置的所述转架被可转动地独立容纳于所述工作腔体的所述工作腔，任意一个所述转架上被设置的该样品被镀膜完毕后能够被转移至所述辅助腔体，其中所述连续镀膜设备进一步包括一缓冲腔体，其中所述缓冲腔体具有一缓冲腔，所述工作腔体被设置于所述缓冲腔体的所述缓冲腔，所述辅助腔体被可连通地连接于所述缓冲腔体，所述辅助腔体能够被暂存于所述缓冲腔，然后被运输至所述工作腔，其中所述缓冲腔被可连通地连接于所述进料装置，以使得所述工作腔体的原料维持均衡。

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