CN214147429U - 一种增加真空度的装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种增加真空度的装置，包括装置系统主体，所述装置系统主体内设有真空泵系统盘面，所述真空泵系统盘面上安装有原气动阀组件，所述原气动阀组件包括原气动阀件AV、原气动阀件CV和原气动阀件VG，所述原气动阀组件的一侧安装有新增气动阀组件，所述新增气动阀组件包括新增气动阀件AV、新增气动阀件AV和新增气动阀件AV，在原本盘面上只有普通的真空发生器装置以及原气动阀组件的部分，换钢瓶前会进行盘面抽真空吹扫，这时候只会有真空发生器动作，达到盘面抽真空的目的，但实际情况并不能满足制程工艺的真空度，故而增加一套真空泵系统，有效的解决了原先真空度不足，对盘面管路吹扫的洁净度到不到制程要求的问题。

Description

一种增加真空度的装置

技术领域

本实用新型涉及高新产业特种气体供应技术领域，尤其涉及一种增加真空度的装置。

背景技术

特气柜是特种气体供应系统里主要设备,特种气体是光电子、微电子等领域，特别是超大规模集成电路、液晶显示器件、非晶硅薄膜太阳能电池、半导体发光器件和半导体材料制造过程不可缺少的基硅性支撑源材料，在半导体工业中，用到的气体种类繁多,但有些气体在吹扫过程中对真空发生器要求比较苛刻，一般的真空发生器在更换钢瓶前和更换钢瓶后，对盘面管路吹扫的洁净度到不到制程要求，进而会影响产品的良率，因此，为解决该问题特别增加了一套真空泵系统来增加管路吹扫的真空度的措施，显得尤为重要。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的缺陷，提供了一种增加真空度的装置，具有能够有效解决真空度不足的问题，对盘面管路吹扫洁净度高的优点。

实现上述目的的技术方案是：

本实用新型提供了一种增加真空度的装置，包括装置系统主体，所述装置系统主体内设有真空泵系统盘面，所述真空泵系统盘面上安装有原气动阀组件，所述原气动阀组件包括原气动阀件 AV11、原气动阀件CV和原气动阀件VG，所述原气动阀组件的一侧安装有新增气动阀组件，所述新增气动阀组件包括新增气动阀件AV10、新增气动阀件AV6和新增气动阀件AV12，所述新增气动阀组件的上、下两侧分别安装有新增压力传感器PT和真空泵体。

优选的，所述新增气动阀件AV10、所述新增气动阀件AV6、所述新增气动阀件AV12、所述新增压力传感器PT和所述真空泵体均设置有一个。为了解决盘面管路抽真空的问题，使得盘面管路洁净度高。

优选的，所述真空泵体上设有泵口。为了使得真空泵体能够正常的连接工作。

优选的，所述原气动阀组件、所述新增气动阀组件、所述新增压力传感器PT和所述真空泵体之间连接有真空泵系统管路。为了使得原气动阀组件、新增气动阀组件、新增压力传感器PT 和真空泵体之间能够正常稳定的连接运作。

优选的，所述真空泵体与外设电源电性连接。为了保证真空泵体正常的运作。

本实用新型的有益效果是：本实用新型在使用的过程中，增加真空度的装置包括真空泵体、新增气动阀组件和新增压力传感器PT，新增气动阀组件包括新增气动阀件AV10、新增气动阀件 AV6和新增气动阀件AV12，通过增加本实用新型装置能有效的解决盘面管路抽真空的问题，在原本盘面上只有普通的真空发生器装置以及原气动阀组件的部分，原气动阀组件包括原气动阀件 AV11、原气动阀件CV和原气动阀件VG，换钢瓶前会进行盘面抽真空吹扫，这时候只会有真空发生器动作，达到盘面抽真空的目的，但实际情况并不能满足制程工艺的真空度，故而增加一套真空泵系统，有效的解决了原先真空度不足，对盘面管路吹扫的洁净度到不到制程要求，进而会影响产品良率的问题，保证吹扫过程正常有序的进行。

附图说明

图1为本实用新型中真空泵系统盘面内的结构示意图；

附图标记说明：

1、装置系统主体；2、真空泵系统盘面；3、真空泵系统管路；4、原气动阀组件；41、原气动阀件AV11；42、原气动阀件 CV；43、原气动阀件VG；5、新增气动阀组件；51、新增气动阀件AV10；52、新增气动阀件AV6；53、新增气动阀件AV12；6、新增压力传感器PT；7、真空泵体。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明。

参阅图1所示，本实用新型提供一种增加真空度的装置，包括装置系统主体1，装置系统主体1内设有真空泵系统盘面2，真空泵系统盘面2上安装有原气动阀组件4，原气动阀组件4包括原气动阀件AV1141、原气动阀件CV42和原气动阀件VG43，原气动阀组件4的一侧安装有新增气动阀组件5，新增气动阀组件 5包括新增气动阀件AV1051、新增气动阀件AV652和新增气动阀件AV1253，新增气动阀组件5的上、下两侧分别安装有新增压力传感器PT6和真空泵体7，增加真空度的装置包括真空泵体7、新增气动阀组件5和新增压力传感器PT6，新增气动阀组件5包括新增气动阀件AV1051、新增气动阀件AV652和新增气动阀件AV1253，在原本盘面上只有普通的真空发生器装置以及原气动阀组件4的部分，原气动阀组件4包括原气动阀件AV1141、原气动阀件CV42和原气动阀件VG43，原结构特气盘面吹扫抽真空仅有原气动阀件AV1141和原气动阀件VG43作动，目前在硬件上新增加三个气动阀和一个压力传感器，也就是新增了上述的新增气动阀件AV1051、新增气动阀件AV652、新增气动阀件AV1253 和新增压力传感器PT6，当特气钢瓶用完需要更换新瓶时，会做特气盘面吹扫动作，原结构盘面抽真空，实际状况达到的真空度很难满足制程需求，此时新增的系统会介入帮助原结构盘面抽真空，以达到制程所需求的真空度，有效的解决了原先真空度不足，对盘面管路吹扫的洁净度到不到制程要求，进而会影响产品良率的问题，保证吹扫过程正常有序的进行。本实用新型根据附图对该装置作进一步说明。

进一步的，如图1所示，新增气动阀件AV1051、新增气动阀件AV652、新增气动阀件AV1253、新增压力传感器PT6和真空泵体7均设置有一个，单个新增气动阀件AV1051、新增气动阀件AV652、新增气动阀件AV1253、新增压力传感器PT6和真空泵体7的增设，能有效的解决盘面管路抽真空的问题，使得盘面管路洁净度高。

进一步的，如图1所示，真空泵体7上设有泵口，泵口的设置，便于对真空泵体7进行相应的连接，保证真空泵体7能够正常稳定的运行工作。

进一步的，如图1所示，原气动阀组件4、新增气动阀组件 5、新增压力传感器PT6和真空泵体7之间连接有真空泵系统管路3，真空泵系统管路3的设置，使得原气动阀组件4、新增气动阀组件5、新增压力传感器PT6和真空泵体7之间能够正常稳定的连接运作。

进一步的，如图1所示，真空泵体7与外设电源电性连接，真空泵体7的设置，会介入帮助原结构盘面抽真空，以达到制程所需求的真空度，有效的解决了原先真空度不足，对盘面管路吹扫的洁净度到不到制程要求。

本实用新型的工作原理是：本实用新型在使用的过程中，增加真空度的装置包括真空泵体7、新增气动阀组件5和新增压力传感器PT6，新增气动阀组件5包括新增气动阀件AV1051、新增气动阀件AV652和新增气动阀件AV1253，在原本盘面上只有普通的真空发生器装置以及原气动阀组件4的部分，原气动阀组件 4包括原气动阀件AV1141、原气动阀件CV42和原气动阀件VG43，原结构特气盘面吹扫抽真空仅有原气动阀件AV1141和原气动阀件VG43作动，目前在硬件上新增加三个气动阀和一个压力传感器，也就是新增了上述的新增气动阀件AV1051、新增气动阀件 AV652、新增气动阀件AV1253和新增压力传感器PT6，当特气钢瓶用完需要更换新瓶时，会做特气盘面吹扫动作，原结构盘面抽真空，实际状况达到的真空度很难满足制程需求，此时新增的系统会介入帮助原结构盘面抽真空，以达到制程所需求的真空度，有效的解决了原先真空度不足，对盘面管路吹扫的洁净度到不到制程要求，进而会影响产品良率的问题，保证吹扫过程正常有序的进行。

以上结合附图实施例对本实用新型进行了详细说明，本领域中普通技术人员可根据上述说明对本实用新型做出种种变化例。因而，实施例中的某些细节不应构成对本实用新型的限定，本实用新型将以所附权利要求书界定的范围作为本实用新型的保护范围。

Claims (5)

1.一种增加真空度的装置，包括装置系统主体，其特征在于，所述装置系统主体内设有真空泵系统盘面，所述真空泵系统盘面上安装有原气动阀组件，所述原气动阀组件包括原气动阀件AV11、原气动阀件CV和原气动阀件VG，所述原气动阀组件的一侧安装有新增气动阀组件，所述新增气动阀组件包括新增气动阀件AV10、新增气动阀件AV6和新增气动阀件AV12，所述新增气动阀组件的上、下两侧分别安装有新增压力传感器PT和真空泵体。

2.根据权利要求1所述一种增加真空度的装置，其特征在于，所述新增气动阀件AV10、所述新增气动阀件AV6、所述新增气动阀件AV12、所述新增压力传感器PT和所述真空泵体均设置有一个。

3.根据权利要求1所述一种增加真空度的装置，其特征在于，所述真空泵体上设有泵口。

4.根据权利要求1所述一种增加真空度的装置，其特征在于，所述原气动阀组件、所述新增气动阀组件、所述新增压力传感器PT和所述真空泵体之间连接有真空泵系统管路。

5.根据权利要求1所述一种增加真空度的装置，其特征在于，所述真空泵体与外设电源电性连接。

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