CN201362648Y - 透明导电膜玻璃制作系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及透明导电膜玻璃制作系统，包括：用于对进入的厚素玻璃的一面镀以透明导电膜的镀膜装置；对镀透明导电膜玻璃的镀膜面进行化学蚀刻保护的蚀刻保护装置；用于对蚀刻保护装置馈送来的玻璃的另一面进行蚀刻减薄的蚀刻减薄装置，以及用于去除经过蚀刻减薄的玻璃的保护层的保护层去除装置。利用本实用新型提供的制作系统，可以采用目前广泛使用的平板显示器用透明导电膜玻璃真空镀膜生产线，并以价格较低的厚度大于0.4毫米的普通素玻璃作为制造超薄透明导电膜玻璃的原料，具有工艺简单、设备便宜、技术可靠、玻璃不易破裂、良品率高及运行成本低的优点。

Description

透明导电膜玻璃制作系统

技术领域

本实用新型涉及导电玻璃制作系统，更具体地说，涉及一种薄透明导电膜玻璃制作系统。

背景技术

透明导电膜玻璃被大量应用于平板显示器件及新型触摸屏器件中。目前，平板显示行业对显示器件的整体要求不断提高。在继续注重显示性能的同时不断向轻便时尚的方向发展。更轻、更薄成为显示行业技术发展的新热点。在此前提下，作为平板显示器件中一个重要组件的氧化铟锡透明导电膜玻璃，其整体制作的轻薄化即显得尤为重要。同时，作为一种便捷输入方式，电阻式触摸屏的应用越来越广泛。电阻式触摸屏是由一对相距几十微米的透明导电膜及其透明载体构成，这种透明载体可以是平板玻璃或高分子薄膜基板。当笔尖或手指等硬物触摸触摸屏幕时，两层导电层在触摸点位置就有了接触，同时发出相应的电信号。电阻式触摸屏从结构上可划分为薄膜/薄膜、薄膜/玻璃、玻璃/玻璃几大类型。其中玻璃/玻璃型电阻式触摸屏以其优良的稳定性被广泛应用于车载、军用等显示领域。为了保证玻璃/玻璃型触摸屏的外侧玻璃结构能够被外界触摸体轻松地按压变形而发送电信号，外侧透明导电膜玻璃基板必须足够薄。目前，一般采用的是厚度小于0.3毫米的超薄玻璃，业内普遍应用的是0.21毫米的超薄玻璃。

综上所述，当前无论是平板显示器件还是电阻式触摸屏器件，都对作为其重要组件的透明导电膜玻璃基板有了新的轻薄性需求。超薄透明导电膜玻璃的传统的制作系统中，先制作0.21毫米厚度的平板玻璃基板，然后在上述玻璃基板表面镀透明导电膜。然而该系统存在严重的缺点，首先厚度小于0.3毫米素玻璃制造难度极高，其次厚度小于0.3毫米素玻璃真空镀膜难度极高，在目前广泛使用的真空镀膜机上镀膜时如此薄的玻璃破损率很高。特殊的专用镀膜机采用卧式方法在传送胶辊的间隙对薄玻璃下表面镀膜，玻璃传送带及胶辊设计复杂，工艺及温度要求苛刻，利用率低，生产效率低，不易大规模生产，从而镀膜费用也大大高于0.4毫米或以上的玻璃。因此，现有厚度小于0.3毫米的透明导电膜玻璃生产成本十分昂贵。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题在于，针对现有技术中薄透明导电膜玻璃生产成本高昂的缺陷，提供一种低成本、高成品率的透明导电膜玻璃制作系统。

本实用新型这样解决上述技术问题，构造一种透明导电膜玻璃制作系统，包括：用于对进入的厚素玻璃的一面镀以透明导电膜的镀膜装置；对镀透明导电膜玻璃的镀膜面进行化学蚀刻保护的蚀刻保护装置；用于对蚀刻保护装置馈送来的玻璃的另一面进行蚀刻减薄的蚀刻减薄装置，以及用于去除经过蚀刻减薄的玻璃的保护层的保护层去除装置。

在本实用新型所述的透明导电膜玻璃制作系统中，所述蚀刻保护装置(12)为真空吸盘保护装置。

在本实用新型所述的透明导电膜玻璃制作系统中，所述真空吸盘保护装置包括密封并全面覆盖平板玻璃导电膜面并将平板玻璃吸附住的真空吸盘；在真空吸盘内部设有密闭的抽气孔道以及与所述抽气孔道相通的真空缓冲腔体，通过抽气孔道与真空缓冲腔体形成的密闭腔室，在与外接真空泵源断开情况下维持真空吸盘与平板玻璃之间的真空度在整个减薄蚀刻流程中吸附住平板玻璃。

在本实用新型所述的透明导电膜玻璃制作系统中，还包括设置在真空吸盘底部的传输辊和设置在真空吸盘顶部的导向滑轮。

在本实用新型所述的透明导电膜玻璃制作系统中，送入所述镀膜装置中的厚素玻璃是0.4毫米至1.1毫米厚度的玻璃。

在本实用新型所述的透明导电膜玻璃制作系统中，经过所述蚀刻减薄装置的透明导电膜玻璃是减薄至0.10毫米至0.25毫米厚度的玻璃。

在本实用新型所述的透明导电膜玻璃制作系统中，所述厚素玻璃是钠钙玻璃或硼硅玻璃。

在本实用新型所述的透明导电膜玻璃制作系统中，还包括对镀膜装置、蚀刻保护装置、蚀刻减薄装置以及保护层去除装置进行控制的中央处理装置。

实施本实用新型的透明导电膜玻璃制作系统，由于将镀膜前置，以及镀膜后直接减薄，因此具有以下有益效果：

(1)传统超薄素玻璃(0.25毫米以下)加工工艺复杂，价格昂贵，本实用新型采用价格较低的厚玻璃(0.4毫米以上)作为基础进行镀膜加工，再减薄到0.25毫米以下，降低了原料成本；

(2)玻璃基板先镀膜加工再进行化学蚀刻，因此镀膜基板厚度可以达到0.4毫米以上，可以避免镀膜中玻璃破损，提高产品良率；

(3)可直接采用目前广泛使用的平板显示器用透明导电膜玻璃真空镀膜生产线或其设备，设备无须新的投资，或投资较少，也具有技术可靠、良品率高，因而生产成本低。

附图说明

下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明，附图中：

图1是本实用新型透明导电膜玻璃制作系统的方框图；

图2是本实用新型透明导电膜玻璃制作系统中真空吸盘保护装置的结构示意图；

图3是本实用新型透明导电膜玻璃制作系统中喷淋蚀刻装置的减薄示意图；

图4为本实用新型待减薄透明导电膜玻璃的剖面示意图；

图5是本实用新型透明导电膜玻璃制作系统的工作过程示意图。

附图标记统一说明如下：

1-平板玻璃                   2-透明导电膜

3-化学防蚀刻保护层           4-玻璃基板减薄部分

21-真空吸盘                  22-传输辊

23-导向滑轮            24-平板玻璃

25-阀门                26-抽气孔道

具体实施方式

图1是本实用新型透明导电膜玻璃制作系统的方框图。如图1所示，本系统包括：用于对进入的厚素玻璃的一面镀以透明导电膜的镀膜装置11；对镀透明导电膜玻璃的镀膜面进行化学蚀刻保护的蚀刻保护装置12；用于对蚀刻保护装置馈送来的玻璃的另一面进行蚀刻减薄的蚀刻减薄装置13，以及用于去除经过蚀刻减薄的玻璃的保护层的保护层去除装置14，此外，还包括协调控制上述各装置运作的中央控制装置10。

在图示实施例中厚素玻璃进入到镀膜装置11中，在一面上镀以透明导电膜；镀膜后的玻璃随后进入蚀刻保护装置11中对其镀膜面进行蚀刻保护，经保护的玻璃随后进入到蚀刻减薄装置12，在该装置中对该片玻璃的非镀膜面进行蚀刻减薄；最后蚀刻减薄装置将减薄后的玻璃馈送至保护层去除装置14以去除其镀膜面的蚀刻保护层，最终制得所需薄透明导电玻璃。

在本实用新型的具体实施例中，所述蚀刻保护装置12可以采用真空吸盘保护装置，其具体结构如图2和图3所示，包括：真空吸盘21、传输辊22、导向滑轮23、阀门25以及抽气孔道26。除了在真空吸盘21内部设有密闭的抽气孔道26，还设有与所述抽气孔道26相通的真空缓冲腔体27，通过抽气孔道26与真空缓冲腔体27形成的密闭腔室，在与外接真空泵源断开情况下维持真空吸盘21与平板玻璃24之间的真空度在整个减薄蚀刻流程中吸附住平板玻璃24。这样，平板玻璃24可通过真空吸盘21进行吸附，同时该真空吸盘21能够密封地全面覆盖平板玻璃的镀膜面，通过该密封面吸附住平板玻璃，实现对镀膜面的保护。

具体吸附流程如下：将平板玻璃镀膜面贴附于真空吸盘21上，随即开启阀门25并通过抽气孔道26将真空吸盘21内的空气抽出，直至接近真空状态；关闭阀门25并切断真空泵，通过真空吸盘21将平板玻璃24固定在传送装置上进入喷淋蚀刻装置进行减薄；其中，所述传送装置通过设置于真空吸盘保护装置上方以及下方的导向滑轮23和传输辊22使得平板玻璃能够在喷淋蚀刻装置内进行移动。

减薄结束后，玻璃被送入与该真空吸盘保护装置相对应的保护层去除装置中，将阀门开启，恢复真空吸盘内的正常气压，即可将平板玻璃卸下，从而完成该保护层的去除操作。

图3是本实用新型透明导电膜玻璃制作系统中喷淋蚀刻装置的减薄示意图。如图3所示，平板玻璃32位于真空吸盘保护装置31上接受喷淋设备30对其进行的喷淋减薄操作。本实用新型的喷淋蚀刻装置，在实现透明导电膜玻璃镀膜面密闭固定的同时，可借助真空吸盘底部的传输辊22和顶部的导向滑轮23在特定传送装置上稳定传输，此方法使得透明导电膜玻璃的减薄面在运动过程中与喷淋蚀刻装置喷射出的化学药液均匀接触，通过药液的冲刷作用及时清除掉玻璃表面化学反应产生的反应产物，避免产物的附着和堆积，从而提高了透明导电膜玻璃减薄面的表观质量和厚度均匀性。

图4为本实用新型待减薄透明导电膜玻璃的剖面示意图。如图所示，平板玻璃1上镀有透明导电膜2，该平板玻璃需要进行减薄的部分如图中4所示，为了保护镀膜面免受蚀刻液侵蚀，故需要对透明导电膜2进行保护，即为图中所示化学防蚀刻保护层3。在具体实施方式中，该化学防蚀刻保护层3是在蚀刻保护装置中镀上的保护膜，也可以为对透明导电膜2进行固定并保护的真空吸盘保护装置。

图5是本实用新型透明导电膜玻璃制作系统的工作过程示意图。如图5所示，在框501中，采用厚度大于0.3毫米的厚素玻璃在镀膜装置中进行透明导电薄膜镀膜，镀膜方式可采用真空磁控溅射方法；在框502中，在蚀刻保护装置中对制得的透明导电膜玻璃的镀膜面进行化学蚀刻保护，保护方式可以是很多种，在框503中，在蚀刻减薄装置中对透明导电膜玻璃的非镀膜面进行化学蚀刻减薄；在框504中，通过保护层去除装置去除保护层，对透明导电膜玻璃进行清洗后便可制得厚度小于0.3毫米的超薄透明导电膜玻璃。

上面结合附图对本实用新型的实施例进行了描述，但本实用新型并不局限于上述的具体实施方式，上述具体实施方式仅仅是示意性的，而非限制性的，本领域的普通技术人员在本实用新型的启示下，在不脱离本实用新型宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可做出很多形式，这些均属于本实用新型的保护范围。

Claims (8)

1、一种透明导电膜玻璃制作系统，其特征在于，包括：用于对进入的厚素玻璃的一面镀以透明导电膜的镀膜装置(11)；对镀透明导电膜玻璃的镀膜面进行化学蚀刻保护的蚀刻保护装置(12)；用于对蚀刻保护装置馈送来的玻璃的另一面进行蚀刻减薄的蚀刻减薄装置(13)，以及用于去除经过蚀刻减薄的玻璃的保护层的保护层去除装置(14)。

2、根据权利要求1所述的透明导电膜玻璃制作系统，其特征在于，所述蚀刻保护装置(12)为真空吸盘保护装置。

3、根据权利要求2所述的透明导电膜玻璃制作系统，其特征在于，所述真空吸盘保护装置包括密封并全面覆盖平板玻璃(24)导电膜面并将平板玻璃(24)吸附住的真空吸盘(21)；在真空吸盘(21)内部设有密闭的抽气孔道(26)以及与所述抽气孔道(26)相通的真空缓冲腔体(27)，通过抽气孔道(26)与真空缓冲腔体(27)形成的密闭腔室，在与外接真空泵源断开情况下维持真空吸盘(21)与平板玻璃(24)之间的真空度在整个减薄蚀刻流程中吸附住平板玻璃(24)。

4、根据权利要求3所述的透明导电膜玻璃制作系统，其特征在于，还包括设置在真空吸盘(21)底部的传输辊22和设置在真空吸盘(21)顶部的导向滑轮23。

5、根据权利要求1-4中任何一项所述的透明导电膜玻璃制作系统，其特征在于，送入所述镀膜装置(11)中的厚素玻璃是0.4毫米至1.1毫米厚度的玻璃。

6、根据权利要求1-4中任何一项所述的透明导电膜玻璃制作系统，其特征在于，经过所述蚀刻减薄装置(13)的透明导电膜玻璃是减薄至0.10毫米至0.25毫米厚度的玻璃。

7、根据权利要求1-4中任一项所述的透明导电膜玻璃制作系统，其特征在于，所述厚素玻璃是钠钙玻璃或硼硅玻璃。

8、根据权利要求1～4中任一项所述的透明导电膜玻璃制作系统，其特征在于，还包括对镀膜装置(11)、蚀刻保护装置(12)、蚀刻减薄装置(13)以及保护层去除装置(14)进行控制的中央处理装置(10)。

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