CN214115719U - 一种ald设备的喷淋装置 - Google Patents
一种ald设备的喷淋装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN214115719U CN214115719U CN202021172322.1U CN202021172322U CN214115719U CN 214115719 U CN214115719 U CN 214115719U CN 202021172322 U CN202021172322 U CN 202021172322U CN 214115719 U CN214115719 U CN 214115719U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- flow
- plate
- airflow
- flow equalizing
- equalizing plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000007921 spray Substances 0.000 title claims abstract description 25
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 22
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 20
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 18
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 4
- 239000003595 mist Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 4
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000000306 component Substances 0.000 description 1
- 239000008358 core component Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Formation Of Insulating Films (AREA)
Abstract
本实用新型提供了一种ALD设备的喷淋装置，包括喷淋板和匀流板；所述匀流板上设置有若干匀流片，所述匀流片相互平行等间距布置，所述匀流片与匀流片之间的间隙形成气流的通道；所述匀流板的两侧包括气流流入侧和气流流出侧，所述喷淋板设置于所述匀流板的气流流入侧，并朝匀流板方向喷射处于无序状态的气流，气流经过所述匀流板后由紊流状态变为层流状态。本喷淋装置结构简单，可有效改善真空腔体内喷淋板喷出气流的状态，可以解决现有技术中喷淋装置无法使臭氧与氮气混合均匀导致迎气流边EL发黑的技术问题，它能够保证流经喷淋装置的喷出的混合气体在流经硅片前均匀混合，提升镀膜质量，消除迎气流边EL发黑，提高产品良率。
Description
技术领域
本实用新型主要涉及太阳能电池片薄膜沉积设备技术领域，具体涉及一种ALD设备的喷淋装置。
背景技术
在太阳能光伏领域，设备产能要求很高，为了保证大产能并且得到沉积均匀的薄膜，需要使用高浓度臭氧(氮气作为载气)，在不改变喷淋装置与硅片的间距条件下，很难保证臭氧和氮气的混合均匀。喷淋装置是ALD设备中的关键组成部分，是ALD设备进行薄膜沉积工艺的核心部件。工艺过程中，硅片的温度一般在420-520K之间，喷淋装置与硅片的间距通常为160mm，在气体流过此间距过程中，工艺气体(如臭氧)与载气(如氮气)进行混合。
臭氧和氮气的混合不均会造成局部臭氧浓度过高，直接影响薄膜层的质量，导致电池片 EL迎气流边局部发黑造成降级。EL测试仪全称为电致发光(英文Flectroluminescent)测试仪，是一种太阳能电池或电池组件的内部缺陷检测设备。
实用新型内容
为了解决现有技术中喷淋装置无法使臭氧与氮气混合均匀导致迎气流边EL发黑的技术问题，本实用新型提供一种ALD设备的喷淋装置，该喷淋装置为一种匀流装置，使臭氧和氮气混合均匀，从而改善迎气流边的镀膜质量。
本实用新型是通过以下技术方案实现的：
一种ALD设备的喷淋装置，包括喷淋板和匀流板；所述匀流板上设置有若干匀流片，所述匀流片相互平行等间距布置，所述匀流片与匀流片之间的间隙形成气流的通道；所述匀流板的两侧包括气流流入侧和气流流出侧，所述喷淋板设置于所述匀流板的气流流入侧，并朝匀流板方向喷射处于无序状态的气流，气流经过所述匀流板后由紊流状态变为层流状态。
进一步的，还包括硅片舟，所述硅片舟设置于匀流板的气流流出侧，气流经过匀流板后，由紊流状态变为层流状态到达硅片舟。
进一步的，所述匀流板包括左固定架、右固定架、上齿杆、下齿杆和若干匀流片，所述左固定架、右固定架平行设置，所述上齿杆、下齿杆分别设置在所述左固定架和右固定架的两端，所述匀流片沿上齿杆和下齿杆的长度方向均匀分布。
进一步的，所述匀流片为矩形薄片。
进一步的，所述上齿杆和下齿杆上分别设置对应的卡槽，所述匀流片固定在卡槽内。
进一步的，所述喷淋板到匀流板距离为5-90mm。
进一步的，所述匀流板到硅片舟距离为25-130mm。
本实用新型的有益效果为：
本实用新型本采用了一种ALD设备的喷淋装置，其结构简单，可有效改善真空腔体内喷淋板喷出气流的状态，可以解决现有技术中喷淋装置无法使臭氧与氮气混合均匀导致迎气流边EL发黑的技术问题，它能够保证流经喷淋装置的喷出的混合气体在流经硅片前均匀混合，提升镀膜质量，消除迎气流边EL发黑，提高产品良率。
附图说明
图1为本实用新型的匀流板的立体图；
图2为本实用新型的匀流板的主视图；
图3为本实用新型的匀流板的右视图；
图4为本实用新型的匀流板的俯视图；
图5为本实用新型的喷淋装置(省略硅片舟)的气流效果图；
图6为本实用新型的喷淋装置的气流效果图；
其中：1、匀流板；1-1、左固定架；1-2、右固定架；1-3、上齿杆；1-4；下齿杆；1-5、匀流片；2、喷淋板；3、硅片舟。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型的优选的机构和运动实现的方法做进一步的说明。
本实施例的ALD设备的喷淋装置如图5-6所示，包括喷淋板2、匀流板1和硅片舟3；匀流板1设置在镀膜工艺腔中，匀流板1的两侧分别为气流流入侧和气流流出侧，喷淋板2设置于所述匀流板1的气流流入侧，硅片舟3设置于匀流板1的气流流出侧；喷淋板2朝匀流板1方向喷射处于无序状态的气流，气流经过匀流板1后由紊流状态变为层流状态到达硅片舟3
其中，匀流板1的结构如图1-4所示，包括左固定架1-1、右固定架1-2、上齿杆1-3、下齿杆1-4和匀流片1-5，左固定架1-1和右固定架1-2竖直平行设置，上齿杆1-3设置在左固定架1-1和右固定架1-2的顶部，下齿杆1-4设置在左固定架1-1和右固定架1-2的底部，左固定架1-1、右固定架1-2、上齿杆1-3、下齿杆1-4组成匀流板1的外框；上齿杆1-3 和下齿杆1-4上分别设置卡槽，且卡槽上下对应，用于安装固定匀流片1-5；匀流片1-5为若干矩形的薄片，沿上齿杆1-3和下齿杆1-4的长度方向均匀分布，固定在下对应的卡槽内，匀流片1-5与匀流片1-5之间的间隙形成气流的通道。
该匀流板1的大小以及匀流片1-5的片数可根据实际生产的需要量身定做。优选的，喷淋板到匀流板的距离为5-90mm，匀流板到硅片舟的距离为25-130mm。
匀流板1作用主要是改变从喷淋板2中喷出的气流的状态，如5图所示，将气流由紊流状态更改为层流状态，从而有助于提高镀膜的均匀性。
如图5所示，喷淋板2喷出工艺气体(如臭氧)与载气(如氮气)，存在紊流，气流状态处于无序状态，工艺气体(如臭氧)与载气(如氮气)混合不均。
当混合气体经过匀流板1后，混合气流由紊流状态为变为层流状态到达硅片舟3，即混合气流均匀后再流经硅片从而有助于提高镀膜的均匀性。
现有的喷淋装置中气流流经硅片舟3之前，由于臭氧和氮气的混合不均匀，造成局部臭氧浓度过高，直接影响薄膜层的质量，导致电池片EL迎气流边局部发黑造成降级，EL发黑比例为25％。
通过本实施例的喷淋装置中增加匀流板，可以使臭氧和氮气混合均匀后再流经硅片，从而有效的改善迎气流边的镀膜质量，EL发黑0％，极大提升太阳能电池片良率。
最后应说明的是：以上仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，但是凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种ALD设备的喷淋装置，其特征在于，包括喷淋板和匀流板；所述匀流板上设置有若干匀流片，所述匀流片相互平行等间距布置，所述匀流片与匀流片之间的间隙形成气流的通道；所述匀流板的两侧包括气流流入侧和气流流出侧，所述喷淋板设置于所述匀流板的气流流入侧，并朝匀流板方向喷射处于无序状态的气流，气流经过所述匀流板后由紊流状态变为层流状态。
2.根据权利要求1所述的ALD设备的喷淋装置，其特征在于，还包括硅片舟，所述硅片舟设置于匀流板的气流流出侧，气流经过匀流板后，由紊流状态变为层流状态到达硅片舟。
3.根据权利要求1或2所述的ALD设备的喷淋装置，其特征在于，所述匀流板包括左固定架、右固定架、上齿杆、下齿杆和若干匀流片，所述左固定架、右固定架平行设置，所述上齿杆、下齿杆分别设置在所述左固定架和右固定架的两端，所述匀流片沿上齿杆和下齿杆的长度方向均匀分布。
4.根据权利要求3所述的ALD设备的喷淋装置，其特征在于，所述匀流片为矩形薄片。
5.根据权利要求4所述的ALD设备的喷淋装置，其特征在于，所述上齿杆和下齿杆上分别设置对应的卡槽，所述匀流片固定在卡槽内。
6.根据权利要求1或2所述的ALD设备的喷淋装置，其特征在于，所述喷淋板到匀流板距离为5-90mm。
7.根据权利要求2所述的ALD设备的喷淋装置，其特征在于，所述匀流板到硅片舟距离为25-130mm。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202021172322.1U CN214115719U (zh) | 2020-06-22 | 2020-06-22 | 一种ald设备的喷淋装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202021172322.1U CN214115719U (zh) | 2020-06-22 | 2020-06-22 | 一种ald设备的喷淋装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN214115719U true CN214115719U (zh) | 2021-09-03 |
Family
ID=77483403
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202021172322.1U Active CN214115719U (zh) | 2020-06-22 | 2020-06-22 | 一种ald设备的喷淋装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN214115719U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116516317A (zh) * | 2023-04-12 | 2023-08-01 | 江苏微导纳米科技股份有限公司 | 一种载体舟、处理设备以及载体舟内压降控制方法 |
-
2020
- 2020-06-22 CN CN202021172322.1U patent/CN214115719U/zh active Active
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116516317A (zh) * | 2023-04-12 | 2023-08-01 | 江苏微导纳米科技股份有限公司 | 一种载体舟、处理设备以及载体舟内压降控制方法 |
| CN116516317B (zh) * | 2023-04-12 | 2023-12-15 | 江苏微导纳米科技股份有限公司 | 一种载体舟、处理设备以及载体舟内压降控制方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101613406B1 (ko) | 기판상의 수직방향 갈바닉 금속 성막을 위한 디바이스 | |
| CN214115719U (zh) | 一种ald设备的喷淋装置 | |
| KR20110030408A (ko) | 기판의 전기 도금 방법 및 장치 | |
| TW202340545A (zh) | 電鍍設備 | |
| CN106917132B (zh) | 一种电镀装置 | |
| US10227705B2 (en) | Apparatus and method for plating and/or polishing wafer | |
| CN214782231U (zh) | 一种分段式导电辊 | |
| CN109023458B (zh) | 一种pcb电路板的电镀装置和方法 | |
| CN110846698B (zh) | 待电镀的面板、使用其的电镀制作工艺及以其制造的晶片 | |
| CN109477236A (zh) | 用于衬底上的垂直电流金属沉积的装置 | |
| US20120175248A1 (en) | Roll-to-roll electroplating photovoltaic films | |
| CN207031582U (zh) | 一种电镀装置 | |
| CN203007458U (zh) | 一种阴极可移动的pcb电镀槽 | |
| JP4759834B2 (ja) | フィルムキャリア用電気めっき装置 | |
| CN214004779U (zh) | 一种防止pecvd镀膜边缘发红的石墨框装置 | |
| JPH07228992A (ja) | メッキ方法およびその装置 | |
| JP2014129591A (ja) | 電解メッキ装置 | |
| CN109317355B (zh) | 淋幕式涂布装置及淋幕式涂布系统 | |
| JP2690851B2 (ja) | 浸漬型基板処理装置 | |
| CN203187752U (zh) | 一种喷淋板及包含该喷淋板的等离子箱 | |
| JP7111386B2 (ja) | 無電解めっき装置 | |
| CN220952132U (zh) | 水电镀设备 | |
| CN116516317B (zh) | 一种载体舟、处理设备以及载体舟内压降控制方法 | |
| CN217499476U (zh) | 一种链式电镀设备 | |
| KR20030077013A (ko) | 내부의 열 스프레더를 도금하는 방법 및 장치 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CP03 | Change of name, title or address |
Address after: No. 27 Changjiang South Road, Xinwu District, Wuxi City, Jiangsu Province, China Patentee after: Jiangsu micro nano technology Co.,Ltd. Country or region after: China Address before: No.11 Lijiang Road, Xinwu District, Wuxi City, Jiangsu Province Patentee before: Jiangsu micro nano technology Co.,Ltd. Country or region before: China |
|
| CP03 | Change of name, title or address |