CN214060672U - 一种用于对管状镀件内壁电镀铜膜的设备 - Google Patents

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王小霞
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Abstract

本实用新型提供一种用于对管状镀件内壁电镀铜膜的设备,包括:施镀槽(1),其中设有镀液喷淋装置(13)和镀件旋转装置(11),镀液喷淋装置(13)贯穿镀件(12)内壁,镀件旋转装置(11)设于镀件(12)上方并带动其旋转;储液槽(6),设于施镀槽的下方,用于储存镀液;管路(3),其上设有机械泵(5)、过滤滤芯(2),机械泵(5)用于将镀液抽到施镀槽(1)内,过滤滤芯(2)对镀液进行过滤。本实用新型提供的设备制造简单,易操作,设备参数可控。

Description

一种用于对管状镀件内壁电镀铜膜的设备
技术领域
本实用新型涉及电镀技术领域,具体涉及一种用于对管状镀件内壁电镀铜膜的设备。
背景技术
在微波电真空领域中,高功率输入耦合器(简称耦合器)是大科学工程装置加速器的重要组成部分,主要功能是连接功率源与超导腔,为超导腔提供微波功率,在腔内建立加速电场,并将能量传递给束流。高功率输入耦合器组件中的波纹管材料为316L不锈钢,导热性差,损耗高。为了弥补这些缺点,可以采用波纹管内表面镀铜进行处理,增加材料的导热性和减少高频损耗。而且需要对耦合器的波纹管进行拉伸或者压缩来调节输送的微波功,所以对镀层的厚度均匀性和结合力有特殊要求。
目前没有针对耦合器的波纹管内壁镀铜设备的文献报道。
陈旭对工作在325MHz、镀铜厚度分别为10,20,30微米的耦合器外导体进行高功率测试,但是没有对镀铜工艺和设备说明;M.Fouaidy对耦合器的镀铜膜进行RRR值测试,耦合器的铜膜使用温度在4.2~300K,铜膜要求剩余电阻率值(Residual Resistivity Ratio,RRR)在30以上,镀铜厚度为20~40微米。
在电镀铜时,由于只对耦合器波纹管的内壁镀铜,而且耦合器波纹管本身为波纹状,有深槽和凸起位置,电镀铜时波纹管内的溶液交换不及时,甚至深槽内的溶液不能够进行交换,导致电镀同时波纹管内的溶液铜离子含量下降,铜膜出现厚度不均匀、漏镀、镀层变色等问题。采用常规的阴极移动或空气搅拌的电镀设备,并不能够解决上述问题,而且空气搅拌会造成波纹管凹槽沉积气泡,镀膜出现“圆形”漏镀缺陷。
实用新型内容
(一)要解决的技术问题
针对上述问题,本实用新型提供了一种用于对管状镀件内壁电镀铜膜的设备,用于至少部分解决传统电镀设备电镀的铜膜厚度不均匀、漏镀、镀层变色等技术问题。
(二)技术方案
本实用新型提供了一种用于对管状镀件内壁电镀铜膜的设备,包括:施镀槽1,其中设有镀液喷淋装置13和镀件旋转装置11,镀液喷淋装置 13贯穿镀件12内壁,镀件旋转装置11设于镀件12上方并带动其旋转;储液槽6,设于施镀槽的下方,用于储存镀液;管路3,其上设有机械泵5、过滤滤芯2,机械泵5用于将镀液抽到施镀槽1内,过滤滤芯2对镀液进行过滤。
进一步地,施镀槽1边缘设有溢流口,使多余镀液通过溢流口流到储液槽6,实现镀液的连续循环和过滤。
进一步地,镀液喷淋装置13为一喷淋管,其下端与过滤滤芯2通过管道相连接,其上端贯穿镀件12内壁。
进一步地,镀液喷淋装置13为单侧打孔的纯钛管。
进一步地,镀件旋转装置1l包括旋转电机8,皮带9,导电环10和圆形板,旋转电机8与导电环10通过皮带9连接,导电环10与圆形板连接,镀件12安装在圆形板上。
进一步地,导电环10上端不发生转动的导线与电源连接,其下端的导线与镀件12连接,随着镀件12进行转动。
进一步地,储液槽6内还设有加热器7,施镀槽内还设有温度传感器 14。
进一步地,管路3上还设有阀门开关4,用于调节流量大小。
进一步地,过滤滤芯2的滤芯精度为1~3μm。
进一步地,管状镀件为耦合器波纹管。
(三)有益效果
本实用新型实施例提供的一种用于对管状镀件内壁电镀铜膜的设备,通过在线实时过滤镀铜槽内溶液,可降低电镀铜膜的铜颗粒等缺陷的产生;储液槽和施镀槽存放电镀铜液体,通过机械泵进行镀铜液的交换,确保施镀槽内镀液没其他杂质;利用管道阀门可调节过滤施镀槽镀液流量和喷淋管内镀液的流量;通过可控的旋转电机系统,带动耦合器波纹管转动,提高波纹管内壁镀铜膜均匀性。利用喷淋管对波纹管内壁进行镀液喷淋,波纹管深槽内不会出现起泡缺陷,并能确保波纹管内部的镀液及时进行交换,提供充足的铜离子,进一步提高波纹管内壁镀铜膜的均匀性。
附图说明
图1示意性示出了根据本实用新型实施例用于对管状镀件内壁电镀铜膜设备的结构示意图。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明白,以下结合具体实施例,并参照附图,对本实用新型进一步详细说明。
本公开的实施例提供了一种用于对管状镀件内壁电镀铜膜的设备,请参见图1,包括:施镀槽1,其中设有镀液喷淋装置13和镀件旋转装置11,镀液喷淋装置13贯穿镀件12内壁,镀件旋转装置11设于镀件12上方并带动其旋转;储液槽6,设于施镀槽的下方,用于储存镀液;管路3,其上设有机械泵5、过滤滤芯2,机械泵5用于将镀液抽到施镀槽1内,过滤滤芯2对镀液进行过滤。
镀槽采用上下两个PP槽体,便于定期对实施电镀铜的槽体清洗,而且能够确保电镀铜时的溶液更加干净,没有铜粉或其他杂质。上槽体为施镀槽1,长宽高为300*300*500mm,下槽体为储液槽6,长宽高为 500*600*300mm,通过耐腐蚀机械泵把储液槽的镀液抽到施镀槽内,流量 110~125L/min,直径25mm的管道中间使用过滤装置对镀液进行过滤,滤芯精度1~3μm,距离上槽体边缘10cm处有溢流口,使镀液可通过管道溢流到下槽体,镀液连续循环过滤,确保镀膜过程中施镀槽内没有杂物和铜粉出现,避免镀层出现变色和沉积铜颗粒现象。
该设备柜体采用厚度15mm的PP板焊接而成,尺寸长宽高为 1000*900*1200mm,施镀槽1和储液槽6设于其中。
在上述实施例的基础上,施镀槽1边缘设有溢流口,使多余镀液通过溢流口流到储液槽6,实现镀液的连续循环和过滤。
溢流口可为凹槽型,当施镀槽1中的镀液装满后多余的镀液即从溢流口直接下落到连接储液槽6上表面,储液槽6上表面设有回收管路,镀液通过回收管路流入储液槽6中,实现镀液的持续循环。
在上述实施例的基础上,镀液喷淋装置13为一喷淋管,其下端与过滤滤芯2通过管道相连接,其上端贯穿镀件12内壁。
为了避免镀铜膜时出现漏镀、黑点等缺陷,同时提高镀层的均匀性,对镀槽设备设计了镀液喷淋和镀件的旋转装置。施镀槽底部装有喷淋管,喷淋管是由纯钛管壁单侧打孔制作而成,喷淋管的下端与过滤装置通过管道相连接,可以通过阀门开关调节流量大小,开启机械泵后镀液从喷淋管喷出,溅射到波纹管内壁,提高波纹管的镀层均匀性。
在上述实施例的基础上,镀液喷淋装置13为单侧打孔的纯钛管。
纯钛管在镀铜溶液中不会发生溶解和腐蚀,而且具有强度高、易加工的优点,不会对电镀铜膜工艺产生不良的影响;在纯钛管单侧打孔可使镀液单向射出,喷射到镀件表面,尤其是波纹管凹槽微小缝隙处,可以维持金属铜离子的浓度。
在上述实施例的基础上,镀件旋转装置11包括旋转电机8,皮带9,导电环10和圆形板,旋转电机8与导电环10通过皮带9连接,导电环10 与圆形板连接,镀件12安装在圆形板上。
请参见图1,施镀槽配有旋转装置,采用旋转电机,设计转速0~60r/min,皮带带动导电环进行转动。镀件装在连接导电环的圆形板上,随着导电环转动,能够提高整体镀层的均匀性。
在上述实施例的基础上,导电环10上端不发生转动的导线与电源连接,其下端的导线与镀件12连接,随着镀件12进行转动。
导电环10上端引出的不发生转动的导线可连接电源的阴极和阳极,而下端引出的导线连接镀件12,可以随着镀件进行转动;导电环10与皮带9、旋转电机8、圆形板共同组成了该电镀铜膜设备的镀件旋转装置,利用此专用镀槽可获得致密、均匀性高、结合力良好适用于高功率输入耦合器的铜膜。
在上述实施例的基础上,储液槽6内还设有加热器7,施镀槽内还设有温度传感器14。
储液槽内有聚四氟乙烯的3KW加热器,施镀槽内装有PTl00的温度传感器,随时检测镀液温度。在储液槽内对镀液进行加热,可以使施镀槽内的镀液温度更加均匀。
在上述实施例的基础上,管路3上还设有阀门开关4,用于调节流量大小。
用管道阀门可调节过滤施镀槽镀液流量和喷淋管内镀液的流量,以保证镀铜膜的均匀性。
在上述实施例的基础上,过滤滤芯2的滤芯精度为1~3μm。
镀液内铜粉或其他杂质的颗粒大小通常在1~8μm,滤芯精度为1~3μm,可以很好地去除杂质。
在上述实施例的基础上,管状镀件为耦合器波纹管。
耦合器波纹管本身为波纹状,有深槽和凸起位置,铜膜易出现厚度不均匀、漏镀、镀层变色等问题,通过本实用新型的电镀铜膜的设备,利用喷淋管对波纹管内壁进行镀液喷淋,波纹管深槽内不会出现起泡缺陷,并能确保波纹管内部的镀液及时进行交换,提供充足的铜离子,提高波纹管内壁镀铜膜的均匀性。
以上所述的具体实施例,对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本实用新型的具体实施例而已,并不用于限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种用于对管状镀件内壁电镀铜膜的设备,其特征在于,包括:
施镀槽(1),其中设有镀液喷淋装置(13)和镀件旋转装置(11),所述镀液喷淋装置(13)贯穿所述镀件(12)内壁,所述镀件旋转装置(11)设于所述镀件(12)上方并带动其旋转;
储液槽(6),设于所述施镀槽的下方,用于储存镀液;
管路(3),其上设有机械泵(5)、过滤滤芯(2),所述机械泵(5)用于将所述镀液抽到所述施镀槽(1)内,所述过滤滤芯(2)对所述镀液进行过滤。
2.根据权利要求1所述的用于对管状镀件内壁电镀铜膜的设备,其特征在于,所述施镀槽(1)边缘设有溢流口,使多余镀液通过所述溢流口流到所述储液槽(6),实现镀液的连续循环和过滤。
3.根据权利要求1所述的用于对管状镀件内壁电镀铜膜的设备,其特征在于,所述镀液喷淋装置(13)为一喷淋管,其下端与过滤滤芯(2)通过管道相连接,其上端贯穿所述镀件(12)内壁。
4.根据权利要求3所述的用于对管状镀件内壁电镀铜膜的设备,其特征在于,所述镀液喷淋装置(13)为单侧打孔的纯钛管。
5.根据权利要求1所述的用于对管状镀件内壁电镀铜膜的设备,其特征在于,所述镀件旋转装置(11)包括旋转电机(8),皮带(9),导电环(10)和圆形板,所述旋转电机(8)与导电环(10)通过皮带(9)连接,所述导电环(10)与圆形板连接,所述镀件(12)安装在所述圆形板上。
6.根据权利要求5所述的用于对管状镀件内壁电镀铜膜的设备,其特征在于,所述导电环(10)上端不发生转动的导线与电源连接,其下端的导线与所述镀件(12)连接,随着所述镀件(12)进行转动。
7.根据权利要求1所述的用于对管状镀件内壁电镀铜膜的设备,其特征在于,所述储液槽(6)内还设有加热器(7),所述施镀槽内还设有温度传感器(14)。
8.根据权利要求1所述的用于对管状镀件内壁电镀铜膜的设备,其特征在于,所述管路(3)上还设有阀门开关(4),用于调节流量大小。
9.根据权利要求1所述的用于对管状镀件内壁电镀铜膜的设备,其特征在于,所述过滤滤芯(2)的滤芯精度为1~3μm。
10.根据权利要求1~9任一所述的用于对管状镀件内壁电镀铜膜的设备,其特征在于,所述管状镀件为耦合器波纹管。
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