CN214043709U

CN214043709U - 一种显示面板及显示装置

Info

Publication number: CN214043709U
Application number: CN202120285204.XU
Authority: CN
Inventors: 冯峰; 郝力强
Original assignee: Suzhou Qingyue Optoelectronics Technology Co Ltd
Current assignee: Suzhou Qingyue Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date: 2021-02-01
Filing date: 2021-02-01
Publication date: 2021-08-24
Anticipated expiration: 2031-02-01

Abstract

本实用新型提供一种显示面板及显示装置，显示面板包括：基板；位于所述基板上的像素限定层，所述像素限定层为第一硅氧化物，所述像素限定层中具有像素开口；位于所述像素开口中的有机功能层。所述像素限定层为第一硅氧化物，能够有效的防止水汽和氧气侵入像素限定层，从而降低显示面板中的有机功能层与水汽和氧气发生反应几率，减缓器件老化，延长使用寿命。

Description

一种显示面板及显示装置

技术领域

本实用新型涉及显示器件领域，具体涉及一种显示面板及显示装置。

背景技术

OLED显示器件的发光材料为有机材料，这些有机材料对于水汽和氧气十分敏感，容易与水汽和氧气发生反应而分解变性，从而引起像素收缩的问题。现有技术中，通过对OLED显示器件进行封装，可以有效的防止水汽和氧气的入侵，从而减缓器件老化，延长使用寿命。

目前，OLED显示器件通常采用封装片结合封装胶进行封装，并在OLED显示器件中设置干燥片阻隔水汽，但是OLED显示器件防止水汽和氧气入侵有机材料的能力有待提高。

实用新型内容

因此，本实用新型要解决的技术问题在于克服现有技术中OLED显示器件防止水汽和氧气入侵有机材料的能力有待提高的缺陷，从而提供一种显示面板及显示装置。

本实用新型提供一种显示面板，包括：基板；位于所述基板上的像素限定层，所述像素限定层为第一硅氧化物，所述像素限定层中具有像素开口；位于所述像素开口中的有机功能层。

可选的，所述第一硅氧化物包括SiO₂。

可选的，所述像素开口侧部的像素限定层的厚度为100nm～300nm。

可选的，所述基板包括器件区和位于所述器件区周围的边缘区；所述像素限定层位于所述器件区上；所述显示面板还包括：位于所述边缘区的表面的阻隔层，所述阻隔层与所述像素限定层位于所述基板的同一侧，所述阻隔层环绕所述器件区，所述阻隔层为第二硅氧化物；封装件，所述封装件包括封装板主体和位于所述封装板主体的侧部且与所述封装板主体连接的封装侧板，所述封装板主体位于所述有机功能层背向所述基板的一侧，所述封装侧板背离所述封装板主体的一侧表面与所述阻隔层粘合在一起。

可选的，所述第二硅氧化物包括SiO₂；所述第二硅氧化物的厚度为100nm～300nm。

可选的，还包括：位于所述有机功能层顶部的阴极层；所述封装板主体位于所述阴极层背向所述基板的一侧，且所述封装板主体与所述阴极层间隔。

可选的，所述阴极层的数量为若干个，若干个阴极层间隔排布；所述显示面板还包括：位于所述像素限定层背向所述基板一侧表面的隔离柱，且所述隔离柱位于相邻的阴极层之间。

可选的，还包括：干燥片，位于所述封装板主体朝向所述阴极层一侧的表面，所述干燥片与所述阴极层间隔。

可选的，还包括：位于所述基板上且位于所述有机功能层底部的阳极层；辅助电极，位于所述阳极层和所述有机功能层之间，所述辅助电极的电阻小于所述阳极层的电阻。

本实用新型还提供一种显示装置，包括本实用新型提供的显示面板。

本实用新型的技术方案具有以下有益效果：

1.本实用新型提供的显示面板，包括：基板；位于所述基板上的像素限定层，所述像素限定层为第一硅氧化物，所述像素限定层中具有像素开口；位于所述像素开口中的有机功能层。像素限定层为第一硅氧化物，因此像素限定层具有致密度高的性质，能够有效的防止外界的水汽和氧气侵入像素限定层，从而降低显示面板中的有机功能层与水汽和氧气发生反应几率，降低显示面板的像素收缩比例，从而减缓器件老化，延长使用寿命。

2.进一步，第一硅氧化物包括SiO₂，SiO₂具有材料来源广泛、制备工艺容易的优点，能够较好的应用在显示面板中。

3.进一步，像素开口侧部的像素限定层的厚度为100nm～300nm，使用镀膜工艺形成的像素限定层厚度较薄，能够有效的减薄显示面板的厚度，实现显示面板的轻薄化。

4.进一步，显示面板还包括位于所述边缘区的表面的阻隔层，阻隔层为第二硅氧化物，一方面，使得阻隔层具有致密度高的性质，能够有效的防止水汽和氧气侵入阻隔层，另一方面，阻隔层表面的粗糙度得到提高，阻隔层与封装件之间的结合力提高，从而提高封装件与基板之间的附着力。

5.进一步，显示面板还包括干燥片，干燥片能够吸收水汽和氧气，降低显示面板中水汽和氧气的含量，从而降低有机功能层与水汽和氧气发生反应几率。

6.进一步，显示面板还包括辅助电极，辅助电极的电阻小于阳极层的电阻，辅助电极能够降低阳极层的电阻，提高阳极层的导电能力，从而提高显示面板的发光效率。

7.本实用新型提供的显示装置，包括上述的显示面板，因为显示面板像素收缩比例较低，发光效果好，因此显示装置具有较好的使用寿命。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型一实施例提供的显示面板的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，还可以是两个元件内部的连通，可以是无线连接，也可以是有线连接。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

此外，下面所描述的本实用新型不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。

本实施例提供一种显示面板，请参考图1，包括：基板4；位于所述基板4上的像素限定层1，所述像素限定层1为第一硅氧化物，所述像素限定层1中具有像素开口；位于所述像素开口中的有机功能层8。

本实施例中，所述显示面板为PMOLED(被动矩阵有机电激发光二极管)显示面板，所述基板4包括透明基板，优选玻璃基板。

像素限定层1为第一硅氧化物，使得像素限定层1具有致密度高的性质，能够有效的防止水汽和氧气侵入像素限定层1，从而降低显示面板中的有机功能层8与水汽和氧气发生反应几率，降低显示面板的像素收缩比例，从而减缓器件老化，延长使用寿命。

第一硅氧化物包括SiO₂。

SiO₂具有材料来源广泛、制备工艺容易的优点，能够较好的应用在显示面板中。

有机功能层8包括发光层。在一个实施例中，有机功能层8包括依次层叠的空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层。

像素开口侧部的像素限定层1的厚度为100nm～300nm。例如，可以是100nm、200nm或300nm。

现有技术中的像素限定层1通常通过光刻工艺并采用聚酰亚胺类材料制备而成，但是因聚酰亚胺材料性质以及光刻设备的限制，此类像素限定层1的厚度较厚，一般为1μm～3μm，本实施例提供的显示面板可使用镀膜工艺形成像素限定层1，像素限定层1的厚度较薄，能够有效的减薄显示面板的厚度，实现显示面板的轻薄化。

基板4包括器件区和位于器件区周围的边缘区；像素限定层1位于器件区上；显示面板还包括：位于边缘区的表面的阻隔层2，阻隔层2与像素限定层1位于基板1的同一侧，阻隔层2环绕器件区，阻隔层2为第二硅氧化物。

第二硅氧化物包括SiO₂；第二硅氧化物的厚度为为100nm～300nm，例如，可以是100nm、200nm或300nm。优选的，第二硅氧化物的厚度与第一硅氧化物的厚度相同，可以在同一道工艺中同时形成。需要说明的是，在其他实施例中，第二硅氧化物的厚度与第一硅氧化物的厚度不同。

在一个实施例中，像素限定层1和阻隔层2同时制备，例如，通过镀膜工艺、光刻工艺和刻蚀工艺同时形成像素限定层1和阻隔层2。

本实施例中，所述显示面板为PMOLED(被动矩阵有机电激发光二极管)显示面板，显示面板还包括封装件11，封装件11包括封装板主体112和位于封装板主体112的侧部且与封装板主体112连接的封装侧板111，封装板主体112位于有机功能层8背向基板4的一侧，封装侧板111背离封装板主体112的一侧表面通过密封胶10与阻隔层2粘合在一起。

阻隔层2为第二硅氧化物，一方面，使得阻隔层2具有致密度高的性质，能够有效的防止水汽和氧气侵入阻隔层2，另一方面，阻隔层2表面的粗糙度得到提高，阻隔层2与封装件11之间的结合力提高，从而提高封装件11与基板1之间的附着力。

显示面板还包括：位于有机功能层8顶部的阴极层3；封装板主体112位于阴极层3背向基板4的一侧，且封装板主体112与阴极层3间隔。

本实施例中，所述显示面板为PMOLED(被动矩阵有机电激发光二极管)显示面板，阴极层3呈条状结构，阴极层3的数量为若干个，若干个阴极层3间隔排布。

阴极层3包括Cu阴极或Ag阴极。

本实施例中，显示面板还包括：位于像素限定层1背向基板4一侧表面的隔离柱9，且隔离柱9位于相邻的阴极层3之间。

显示面板还包括：位于基板4上且位于有机功能层底部的阳极层7。阳极层7包括ITO阳极。

本实施例中，阳极层7为条状结构，阳极层7的数量为若干个，若干个阳极层7间隔排布。本实施例中，阳极层7的延伸方向垂直于阴极层3的延伸方向。

显示面板还包括：辅助电极6，位于阳极层7和有机功能层之间，辅助电极6的电阻小于阳极层7的电阻。

在一个实施例中，辅助电极6的电阻为0.05Ω～0.15Ω，例如，0.05Ω、0.1Ω或0.15Ω，阳极层7的电阻为8Ω～12Ω，例如，8Ω、10Ω或12Ω。

辅助电极6的电阻小于阳极层7的电阻，辅助电极6能够降低阳极层7的电阻，提高阳极层7的导电能力，从而提高显示面板的发光效率。

显示面板还包括：干燥片5，位于封装板主体112朝向阴极层3一侧的表面，干燥片5与阴极层3间隔。

干燥片5能够吸收水汽和氧气，降低显示面板中水汽和氧气的含量，从而降低有机功能层8与水汽和氧气发生反应几率。在其他实施例中，所述显示面板为AMOLED(主动矩阵有机发光二极管)显示面板，阴极层为整面结构，阳极层阵列排布，阴极层背向基板的一侧表面上具有封装薄膜层，而没有封装件。

下表为现有技术显示面板拉拔力测试数据与本实施例提供的显示面板拉拔力测试数据的对比表，本实施例提供的显示面板因为采用了阻隔层2，阻隔层2为第二硅氧化物，拉拔力比现有技术平均提升50％。

需要说明的是，表中现有技术显示面板样品1～样品10均采用的是相同的结构，因为制备工艺精度和测试精度原因导致测试数据存在微小差别并不影响对比结果，同理，表中本方案显示面板样品1～样品10均采用的是相同的结构，因为制备工艺精度和测试精度原因导致测试数据存在微小差别并不影响对比结果。拉拔力测试为：封装件11和基板4封装完后，通过粘附力测试仪器使用外力分离封装件11和基板4。

下表为现有技术显示面板水煮测试数据与本实施例提供的显示面板水煮测试数据的对比表，本实施例提供的显示面板因为采用的像素限定层1为第一硅氧化物，像素收缩比例比现有技术平均降低了35％。

需要说明的是，表中现有技术显示面板样品1～样品5均采用的是相同的结构，因为制备工艺精度和测试精度原因导致测试数据存在微小差别并不影响对比结果，同理，表中本方案显示面板样品1～样品5均采用的是相同的结构，因为制备工艺精度和测试精度原因导致测试数据存在微小差别并不影响对比结果。水煮测试为：封装件11和基板4封装完后，把显示面板放进水煮测试仪器中，达到测试时间后，测量有机功能层8单边相较于测试前收缩的尺寸。

本实施例还提供一种显示装置，包括本实施例提供的显示面板，显示装置可以是手机、平板电脑、电视机、笔记本电脑、数码相机、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件，本公开对此不进行特殊限定。

因为显示面板像素收缩比例较低，发光效果好，因此显示装置具有较好的使用寿命。

显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本实用新型创造的保护范围之中。

Claims

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

基板；

位于所述基板上的像素限定层，所述像素限定层为第一硅氧化物，所述像素限定层中具有像素开口；

位于所述像素开口中的有机功能层。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一硅氧化物包括SiO₂。

3.根据权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，所述像素开口侧部的像素限定层的厚度为100nm～300nm。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述基板包括器件区和位于所述器件区周围的边缘区；所述像素限定层位于所述器件区上；

所述显示面板还包括：位于所述边缘区的表面的阻隔层，所述阻隔层与所述像素限定层位于所述基板的同一侧，所述阻隔层环绕所述器件区，所述阻隔层为第二硅氧化物；封装件，所述封装件包括封装板主体和位于所述封装板主体的侧部且与所述封装板主体连接的封装侧板，所述封装板主体位于所述有机功能层背向所述基板的一侧，所述封装侧板背离所述封装板主体的一侧表面与所述阻隔层粘合在一起。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述第二硅氧化物包括SiO₂；所述第二硅氧化物的厚度为100nm～300nm。

6.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，还包括：位于所述有机功能层顶部的阴极层；所述封装板主体位于所述阴极层背向所述基板的一侧，且所述封装板主体与所述阴极层间隔。

7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述阴极层的数量为若干个，若干个阴极层间隔排布；

所述显示面板还包括：位于所述像素限定层背向所述基板一侧表面的隔离柱，且所述隔离柱位于相邻的阴极层之间。

8.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，还包括：干燥片，位于所述封装板主体朝向所述阴极层一侧的表面，所述干燥片与所述阴极层间隔。

9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括：位于所述基板上且位于所述有机功能层底部的阳极层；辅助电极，位于所述阳极层和所述有机功能层之间，所述辅助电极的电阻小于所述阳极层的电阻。

10.一种显示装置，包括权利要求1至9任意一项所述的显示面板。