CN213958929U - 一种离心清洗花篮 - Google Patents

Abstract

本申请实施例中提供了一种离心清洗花篮，属于硅片清洗装置技术领域，具体用于批量清洗硅片，包括框底，框底上垂直固定有多个沿框底的中心周向分布的定位装置，定位装置包括内定位组件和外定位组件，内定位组件和外定位组件均沿框底的中心周向分布且间隔设置，用于将硅片沿环形定位在内定位组件和外定位组件之间。通过本申请的处理方案，减少硅片干燥后残留在硅片上的化学物质。

Description

一种离心清洗花篮

技术领域

本申请涉及硅片清洗装置的领域，尤其是涉及一种离心清洗花篮。

背景技术

异质结电池包括制绒清洗步骤，硅片通过清洗后需要对硅片表面的残留的水滴和化学试剂进行去除。通常是将硅片放入放置框中进行清洗和晾干，例如主要使用带有密排卡槽的花篮装硅片，硅片在花篮里平行排列。放置框中的硅片排列密集、距离较近，两个硅片之间可能非常接近影响干燥过程，因此会造成硅片表面上残留较多的水珠，导致水珠干燥后有化学成分残留在硅片上，影响以硅片为基底制成的电池片的质量。

实用新型内容

有鉴于此，本申请提供一种离心清洗花篮，解决了现有技术中硅片干燥后残留化学成分较多的问题，提高硅片的干燥效果。

本申请提供的一种离心清洗花篮采用如下的技术方案：

一种离心清洗花篮，用于批量清洗硅片，包括框底，所述框底上垂直固定有多个沿框底的中心周向分布的定位装置，所述定位装置包括内定位组件和外定位组件，所述内定位组件和所述外定位组件均沿框底的中心周向分布且间隔设置，用于将硅片沿环形定位在所述内定位组件和所述外定位组件之间。

通过采用上述技术方案，硅片放置在离心清洗花篮中，且硅片呈环形固定在框底上；将放置有硅片的离心清洗花篮放置在离心机装置上，离心清洗花篮随离心机装置转动，硅片上的水受到离心力迅速的脱离硅片，减少硅片上的残留的水珠，从而减少硅片干燥后残留在硅片上的化学物质。

可选的，所述内定位组件包括内定位槽，所述外定位组件包括与所述内定位槽相对的外定位槽，所述内定位槽和所述外定位槽分别用以与硅片竖直方向的不同侧边形成卡接。

通过采用上述技术方案，内定位槽和外定位槽对硅片竖直方向的侧边形成卡接，从而将硅片稳定在离心清洗花篮中。

可选的，所述内定位组件包括内圆弧墙和内凸起，所述内圆弧墙固定在所述框底上，所述内凸起与所述内圆弧墙的外凸面固定连接形成所述内定位槽；

所述外定位组件包括外圆弧墙和外凸起，所述外圆弧墙和所述内圆弧墙同心设置，且所述外圆弧墙的半径大于所述内圆弧墙的半径，所述外凸起与所述外圆弧墙的内凹面固定连接形成所述外定位槽，所述内凸起和所述外凸起分别用以与硅片相对的侧面抵接。

通过采用上述技术方案，内圆弧墙的外凸面和内凸起之间的区域为内定位槽，外圆弧墙的内凹面和外凸起之间的区域为外定位槽，硅片通过内凸起和外凸起卡在内圆弧墙和外圆弧墙之间，从而使硅片稳定的处于离心清洗花篮中。

可选的，所述内凸起和外凸起分别为垂直于框底的内定位杆和外定位杆，所述内定位杆与内圆弧墙的外凸面连接，所述外定位杆与外圆弧墙的内凹面连接。

通过采用上述技术方案，增大内凸起和外凸起与硅片的接触面积，减少内凸起和外凸起对硅片的压强，减小离心过程中，内凸起和外凸起对硅片造成的划伤。

可选的，所述内定位槽的槽底和所述外定位槽的槽底的连线，与所述内定位槽对应内圆弧墙的半径方向的夹角范围为30-60°。

通过采用上述技术方案，使硅片与内圆弧墙半径方向的夹角在30-60°之间，有利于硅片上的水滴在离心力作用下脱离硅片，提高干燥效果。

可选的，所述内圆弧墙和所述外圆弧墙均为弧形网板，所述弧形网板的底边与所述框底固定连接。

通过采用上述技术方案，内圆弧墙和外圆弧墙的弧形网板形成离心清洗花篮的内、外框，离心清洗花篮在转动过程中，水珠可以从弧形网板的通孔中流出；同时硅片和离心清洗花篮之间存在相互作用力，弧形网板可以提高离心清洗花篮与硅片竖直方向侧边的接触面，减少离心清洗花篮在转动过程中对硅片侧边的压强，减少离心干燥过程中离心清洗花篮对硅片的破坏。

可选的，所述内凸起和所述外凸起在平行于所述框底方向上的截面为圆形。

通过采用上述技术方案，内凸起和外凸起与硅片的接触为线接触，减少离心清洗花篮在转动中，内凸起和外凸起对硅片的磨损。

可选的，所有所述内定位组件的内圆弧墙连续且一体设置形成内圆圈，所有所述外定位组件的外圆弧墙连续且一体设置形成外圆圈。

通过采用上述技术方案，使用较少的材料将每段内圆弧墙和每段外圆弧墙相互连接，完整的内圆圈和外圆圈具有较好的连续性和整体性，提高离心清洗花篮的结构强度。

可选的，相邻两个所述定位装置之间设有连支撑杆，所述支撑杆的一端与任一所述定位装置的内定位组件连接，所述支撑杆另一端与相邻的所述定位装置的外定位组件连接。

通过采用上述技术方案，支撑杆的设置可以稳定内定位组件和外定位组件之间的距离，减少内定位组件和外定位组件对硅片的挤压，减少对硅片的破坏。同时也可以使硅片顺利的放入和取出离心清洗花篮。

可选的，多个所述定位装置沿所述框底的中心周向均匀分布。

通过采用上述技术方案，使离心清洗花篮的重量分布均匀，使离心清洗花篮的转动更加稳定。

综上所述，本申请包括以下有益技术效果：

1、硅片呈环形放置在框底，且位于离心清洗花篮中，将放置有离心清洗花篮放置在离心机装置上，离心清洗花篮随离心机装置转动，硅片上的水受到离心力迅速的脱离硅片，减少硅片上的残留的水珠，从而减少硅片干燥后残留在硅片上的化学物质；

2、内凸起和外凸起将硅片固定在内圆弧墙和外圆弧墙之间，同时减小对硅片表面的伤害。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为本申请实施例的离心清洗花篮的结构示意图。

图2为本申请实施例的离心清洗花篮的俯视图。

附图标记说明：1、内定位组件；11、内圆弧墙；12、内凸起；13、内定位槽；2、外定位组件；21、外圆弧墙；22、外凸起；23、外定位槽；3、弧形网板；4、支撑杆；5、框底；6、硅片。

具体实施方式

下面结合附图对本申请实施例进行详细描述。

以下通过特定的具体实例说明本申请的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本申请的其他优点与功效。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。本申请还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本申请的精神下进行各种修饰或改变。需说明的是，在不冲突的情况下，以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

要说明的是，下文描述在所附权利要求书的范围内的实施例的各种方面。应显而易见，本文中所描述的方面可体现于广泛多种形式中，且本文中所描述的任何特定结构及/或功能仅为说明性的。基于本申请，所属领域的技术人员应了解，本文中所描述的一个方面可与任何其它方面独立地实施，且可以各种方式组合这些方面中的两者或两者以上。举例来说，可使用本文中所阐述的任何数目个方面来实施设备及/或实践方法。另外，可使用除了本文中所阐述的方面中的一或多者之外的其它结构及/或功能性实施此设备及/或实践此方法。

还需要说明的是，以下实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本申请的基本构想，图式中仅显示与本申请中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。

另外，在以下描述中，提供具体细节是为了便于透彻理解实例。然而，所属领域的技术人员将理解，可在没有这些特定细节的情况下实践所述方面。

本申请实施例提供一种离心清洗花篮。

如图1所示，一种离心清洗花篮，用于批量清洗硅片6，包括框底5，框底5上固定连接有多个沿框底5的中心周向分布的定位装置，定位装置包括内定位组件1和外定位组件2，内定位组件1和外定位组件2均沿框底5的中心周向分布且间隔设置，用于将硅片6沿环形定位在内定位组件1和外定位组件2之间。

本实施例中，设有八个定位装置，且沿框底5的中心周向均匀分布。在其他实施方式中，定位装置的数量可以根据离心清洗花篮和硅片6的情况进行适当的增减。

内定位组件1包括内定位槽13，外定位组件2包括与内定位槽13相对的外定位槽23，内定位槽13和外定位槽23分别用以与硅片6竖直方向的不同侧边形成卡接，从而在离心清洗花篮转动过程中，将硅片6进行定位。

内定位组件1包括内圆弧墙11和内凸起12，内圆弧墙11固定在框底5上，内凸起12与内圆弧墙11的外凸面固定连接，内凸起12和内圆弧墙11的外凸面相对侧面之间的夹角区域形成内定位槽13，内圆弧墙11和内凸起12焊接在一起。

外定位组件2包括外圆弧墙21和外凸起22，外圆弧墙21固定在框底5上，外圆弧墙21和内圆弧墙11同心设置，内圆弧墙11和外圆弧墙21的圆心为框底5的中心；且外圆弧墙21的半径大于内圆弧墙11的半径，外凸起22与外圆弧墙21的内凹面固定连接，外凸起22和外圆弧墙21的内凹面相对的侧面之间的夹角区域形成外定位槽23，外圆弧墙21和外凸起22焊接在一起。

如图2所示，内凸起12和外凸起22分别用以与硅片6相对的侧面抵接，同时，内圆弧墙11的外凸面与硅片6的一个竖直侧边抵接，外圆弧墙21的内凹面与硅片6另一竖直侧边抵接，从而对硅6片形成定位。

内凸起12和外凸起22分别为垂直于框底5的内定位杆和外定位杆，以减小内凸起12和外凸起22对硅片5的压强。内凸起12和外凸起22在平行于框底5方向上的截面为圆形。本实施例中，内定位杆和外定位杆均为圆柱杆。

如图2所示，内定位槽13槽底和外定位槽23槽底的连线，与内定位槽13对应内圆弧墙11的半径方向的夹角范围为30-60°；本实施例中，内定位槽13的槽底为内凸起12和内圆弧墙11的接壤线，外定位槽23的槽底为外凸起22和外圆弧墙21的接壤线，两个接壤线的连线与放置在内定位槽13和外定位槽23之间的硅片6重合。本实施例中，夹角为60°；在其他实施方式中，夹角可以为30-60°范围内的其他值。

内圆弧墙11和外圆弧墙21均为弧形网板3，弧形网板3的底边与框底5焊接在一起。弧形网板3上设有多个通孔(图中未示出通孔)，便于水可以脱离离心清洗花篮。

所有内定位组件1的内圆弧墙11连续且一体设置形成内圆圈，所有外定位组件2的外圆弧墙21连续且一体设置形成外圆圈。

相邻两个定位装置之间设有支撑杆4，支撑杆4的一端与任一定位装置的内定位组件1焊接，支撑杆4另一端与相邻的定位装置的外定位组件2焊接。本实施例中，支撑杆4的一端与一个定位装置的内圆弧墙11固定连接，另一端与相邻的定位装置的外圆弧墙21固定连接；支撑杆4位于在相邻的定位装置之间，支撑杆4不与内定位槽13槽底和外定位槽23槽底的连线交叉，使支撑杆4不妨碍硅片6放入离心清洗花篮中和从离心清洗花篮中取出。本实施例中，离心清洗花篮的底部和顶部各设有四根支撑杆4。

本实施例提供的一种离心清洗花篮的实施原理为:将硅片6放置在同一定位装置的内凸起12和外凸起22之间，内凸起12和外凸起22分别与硅片6相对的侧面抵接，同时，内圆弧墙11的外凸面与硅片6的一个竖直侧边抵接，外圆弧墙21的内凹面与硅片6另一竖直侧边抵接，从而对硅6片形成定位，使得硅片6位于内圆弧墙11形成的内圆圈和外圆弧墙21形成的外圆圈之间，硅片6的底边被框底5支撑，硅片6稳定的置于离心清洗花篮中。将放置有离心清洗花篮放置在离心机装置上，离心清洗花篮随离心机装置转动，硅片6上的水受到离心力迅速的脱离硅片6，减少硅片6上的残留的水珠，从而减少硅片6干燥后残留在硅片6上的化学物质。

以上所述，仅为本申请的具体实施方式，但本申请的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此，本申请的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种离心清洗花篮，用于批量清洗硅片，其特征在于：包括框底，所述框底上垂直固定有多个沿所述框底的中心周向分布的定位装置，所述定位装置包括内定位组件和外定位组件，所述内定位组件和所述外定位组件均沿所述框底的中心周向分布且间隔设置，用于将硅片沿环形定位在所述内定位组件和所述外定位组件之间。

2.根据权利要求1所述的离心清洗花篮，其特征在于，所述内定位组件包括内定位槽，所述外定位组件包括与所述内定位槽相对的外定位槽，所述内定位槽和所述外定位槽分别用以与硅片竖直方向的不同侧边形成卡接。

3.根据权利要求2所述的离心清洗花篮，其特征在于，所述内定位组件包括内圆弧墙和内凸起，所述内凸起与所述内圆弧墙的外凸面固定连接形成所述内定位槽；

所述外定位组件包括外圆弧墙和外凸起，所述外圆弧墙和所述内圆弧墙同心设置，且所述外圆弧墙的半径大于所述内圆弧墙的半径，所述外凸起与所述外圆弧墙的内凹面固定连接形成所述外定位槽，所述内凸起和所述外凸起分别用以与硅片相对的侧面抵接。

4.根据权利要求3所述的离心清洗花篮，其特征在于，所述内凸起和外凸起分别为垂直于框底的内定位杆和外定位杆，所述内定位杆与所述内圆弧墙的外凸面连接，所述外定位杆与所述外圆弧墙的内凹面连接。

5.根据权利要求3所述的离心清洗花篮，其特征在于，所述内定位槽的槽底和所述外定位槽的槽底的连线，与所述内定位槽对应内圆弧墙的半径方向的夹角范围为30-60°。

6.根据权利要求4所述的离心清洗花篮，其特征在于，所述内圆弧墙和所述外圆弧墙均为弧形网板，所述弧形网板的底边与所述框底固定连接。

7.根据权利要求4所述的离心清洗花篮，其特征在于，所述内凸起和所述外凸起在平行于所述框底方向上的截面为圆形。

8.根据权利要求4所述的离心清洗花篮，其特征在于，所有所述内定位组件的所述内圆弧墙连续且一体设置形成内圆圈，所有所述外定位组件的所述外圆弧墙连续且一体设置形成外圆圈。

9.根据权利要求1-8任一项所述的离心清洗花篮，其特征在于，相邻两个所述定位装置之间设有支撑杆，所述支撑杆的一端与任一所述定位装置的内定位组件连接，所述支撑杆另一端与相邻的所述定位装置的外定位组件连接。

10.根据权利要求1-8中任一项所述的离心清洗花篮，其特征在于，多个所述定位装置沿所述框底的中心周向均匀分布。

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