CN213958926U - 一种半导体生产用晶圆清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种半导体生产用晶圆清洗装置，涉及晶圆加工技术领域，包括水箱，所述水箱底部设有安装框，所述安装框底部两侧设有套筒，所述套筒内设有弹簧，所述弹簧一侧设有移动板，所述移动板与所述套筒滑动相连，所述移动板顶部设有移动框，所述移动框两侧壁设有锯齿，所述锯齿一侧设有齿轮，所述齿轮上设有部分锯齿，所述齿轮一侧设有第二螺纹块，所述第二螺纹块一侧设有第一螺纹块，所述第一螺纹块与所述安装框转动相连。本实用新型结构稳定，实用性高。
Description
技术领域
本实用新型属于晶圆加工技术领域，具体涉及一种半导体生产用晶圆清洗装置。
背景技术
晶圆于在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构，是常用见的半导体结构，在半导体的生产过程中，需使用清洗装置对晶圆进行处理，清洗装置的应用广泛。传统的清洗装置在使用时，不能多个晶圆进行多方位的同时进行清洗，且晶圆固定不便，载重体承载晶圆时稳定性不佳，清洗效率低，效果差，影响了清洗装置的使用。
实用新型内容
为解决上述技术问题，本实用新型的目的是提供一种半导体生产用晶圆清洗装置。
本实用新型提供了如下的技术方案：
一种半导体生产用晶圆清洗装置，包括水箱，所述水箱底部设有安装框，所述安装框底部两侧设有套筒，所述套筒内设有弹簧，所述弹簧一侧设有移动板，所述移动板与所述套筒滑动相连，所述移动板顶部设有移动框，所述移动框两侧壁设有锯齿，所述锯齿一侧设有齿轮，所述齿轮上设有部分锯齿，所述齿轮一侧设有第二螺纹块，所述第二螺纹块一侧设有第一螺纹块，所述第一螺纹块与所述安装框转动相连；所述移动板底部两侧转动设有电动杆，所述电动杆两侧设有至少一个横杆，所述横杆一侧设有圆筒框，所述圆筒框表面设有至少一个圆孔，所述圆筒框底部设有底孔，所述水箱底部设有水管，所述水管穿过所述移动板与所述圆筒框相连，所述圆筒框下方设有底框，所述底框内设有置物台，所述置物台顶部设有至少一个夹块，所述底框底部设有第一齿轮盘，所述第一齿轮盘底部设有底转杆，所述底转杆底部设有储水框，所述第一齿轮盘之间设有第二齿轮盘，所述第二齿轮盘与所述储水框转动相连。
优选地，所述安装框两侧设有支架。
优选地，所述水箱顶部设有注水口。
优选地，所述移动板两侧设有侧杆，所述侧杆与所述套筒相连。
优选地，所述底框两侧设有排水管。
优选地，所述置物台与所述底框之间设有空隙。
优选地，所述储水框底部两侧设有清理口。
本实用新型的有益效果是：本实用新型设计结构合理，通过第一螺纹块带动第二螺纹块，第二螺纹块带动齿轮在移动框之间移动，齿轮上设有部分锯齿，当其带动移动框一侧转动，当转动到齿轮没有锯齿部分时，带动移动框反向运动，移动框带动移动板在套筒内进行来回移动；移动板来回移动带动圆筒框在底框内进行来回移动，这样便可对底框内各个位置的晶圆进行清洗，同时电动杆带动圆筒框转动，由于圆筒框侧面设有多个圆孔，水会从圆孔甩出，便于到达多个晶圆上，还有部分水从底孔流出，增加了清洗的面积与清洗效果，第一齿轮盘带动其两侧第二齿轮盘转动，带动底框转动，底框转动加快其内部水流动，提高了清洗效率。
附图说明
附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：
图1是本实用新型结构示意图。
图中标记为：1.注水口，2.水箱，3.安装框，4.套筒，5.移动板，6.侧杆，7.弹簧，8.第一螺纹块，9.第二螺纹块，10.齿轮，11.锯齿，12.移动框，13.水管，14.电动杆，15.横杆，16.圆筒框，17.圆孔，18.底孔，19.置物台，20.夹块，21.排水管，22.底框，23.第一齿轮盘，24.第二齿轮盘，25.底转杆，26.储水框，27.清理口，28.支架。
具体实施方式
如图1所示，为本实用新型一种半导体生产用晶圆清洗装置，包括水箱2，所述水箱2底部设有安装框3，所述安装框3底部两侧设有套筒4，所述套筒4内设有弹簧7，所述弹簧7一侧设有移动板5，所述移动板5与所述套筒4滑动相连，所述移动板5顶部设有移动框12，所述移动框12两侧壁设有锯齿11，所述锯齿11一侧设有齿轮10，所述齿轮10上设有部分锯齿11，所述齿轮10一侧设有第二螺纹块9，所述第二螺纹块9一侧设有第一螺纹块8，所述第一螺纹块8与所述安装框3转动相连；所述移动板5底部两侧转动设有电动杆14，所述电动杆14两侧设有至少一个横杆15，所述横杆15一侧设有圆筒框16，所述圆筒框16表面设有至少一个圆孔17，所述圆筒框16底部设有底孔18，所述水箱2底部设有水管13，所述水管13穿过所述移动板5与所述圆筒框16相连，所述圆筒框16下方设有底框22，所述底框22内设有置物台19，所述置物台19顶部设有至少一个夹块20，所述底框22底部设有第一齿轮盘23，所述第一齿轮盘23底部设有底转杆25，所述底转杆25底部设有储水框26，所述第一齿轮盘23之间设有第二齿轮盘24，所述第二齿轮盘24与所述储水框26转动相连。
具体的，如图1所示，本实用新型包括水箱2，水箱2底部设有安装框3，安装框3底部两侧设有套筒4，套筒4内设有弹簧7，弹簧7一侧设有移动板5，移动板5与套筒4滑动相连，移动板5顶部设有移动框12，移动框12两侧壁设有锯齿11，锯齿11一侧设有齿轮10，齿轮10上设有部分锯齿11，齿轮10一侧设有第二螺纹块9，第二螺纹块9一侧设有第一螺纹块8，第一螺纹块8与安装框3转动相连。第一螺纹块8带动第二螺纹块9转动，第二螺纹块9带动齿轮10在移动框12之间移动，齿轮10上设有部分锯齿11，当其带动移动框12一侧转动时，当转动到齿轮10没有锯齿11部分时，继续转动，则带动移动框12反向运动，移动框12带动移动板5在套筒4内进行来回移动；移动板5底部两侧转动设有电动杆14，电动杆14两侧设有至少一个横杆15，横杆15一侧设有圆筒框16，圆筒框16表面设有至少一个圆孔17，圆筒框16底部设有底孔18，水箱2底部设有水管13，水管13穿过移动板5与圆筒框16相连，圆筒框16下方设有底框22，底框22内设有置物台19，置物台19顶部设有至少一个夹块20，底框22底部设有第一齿轮盘23，第一齿轮盘23底部设有底转杆25，底转杆25底部设有储水框26，第一齿轮盘23之间设有第二齿轮盘24，第二齿轮盘24与储水框26转动相连。移动板5来回移动带动圆筒框16在底框22内进行来回移动，这样便可对底框22内各个位置的晶圆进行清洗，同时电动杆14带动圆筒框16转动，由于圆筒框16侧面设有多个圆孔17，水会从圆孔17甩出，便于到达多个晶圆上，还有部分水从底孔18流出，增加了清洗的面积与清洗效果，第一齿轮盘23带动其两侧第二齿轮盘24转动，带动底框22转动，底框22转动加快其内部水流动，提高了清洗效率。
具体的，如图1所示，安装框3两侧设有支架28，支架28便于支撑安装框3。水箱2顶部设有注水口1，注水口1便于水的注入。移动板5两侧设有侧杆6，侧杆6与套筒4相连，侧杆6防止移动板5移出套筒4。底框22两侧设有排水管21，排水管21便于排水。置物台19与底框22之间设有空隙，空隙便于清洗水的排出。储水框26底部两侧设有清理口27，清理口27便于清理清洗后的水。
本实用新型的工作原理是：本实用新型包括水箱2，水箱2底部设有安装框3，安装框3底部两侧设有套筒4，套筒4内设有弹簧7，弹簧7一侧设有移动板5，移动板5与套筒4滑动相连，移动板5顶部设有移动框12，移动框12两侧壁设有锯齿11，锯齿11一侧设有齿轮10，齿轮10上设有部分锯齿11，齿轮10一侧设有第二螺纹块9，第二螺纹块9一侧设有第一螺纹块8，第一螺纹块8与安装框3转动相连。第一螺纹块8带动第二螺纹块9转动，第二螺纹块9带动齿轮10在移动框12之间移动，齿轮10上设有部分锯齿11，当其带动移动框12一侧转动时，当转动到齿轮10没有锯齿11部分时，继续转动，则带动移动框12反向运动，移动框12带动移动板5在套筒4内进行来回移动；移动板5底部两侧转动设有电动杆14，电动杆14两侧设有至少一个横杆15，横杆15一侧设有圆筒框16，圆筒框16表面设有至少一个圆孔17，圆筒框16底部设有底孔18，水箱2底部设有水管13，水管13穿过移动板5与圆筒框16相连，圆筒框16下方设有底框22，底框22内设有置物台19，置物台19顶部设有至少一个夹块20，底框22底部设有第一齿轮盘23，第一齿轮盘23底部设有底转杆25，底转杆25底部设有储水框26，第一齿轮盘23之间设有第二齿轮盘24，第二齿轮盘24与储水框26转动相连。移动板5来回移动带动圆筒框16在底框22内进行来回移动，这样便可对底框22内各个位置的晶圆进行清洗，同时电动杆14带动圆筒框16转动，由于圆筒框16侧面设有多个圆孔17，水会从圆孔17甩出，便于到达多个晶圆上，还有部分水从底孔18流出，增加了清洗的面积与清洗效果，第一齿轮盘23带动其两侧第二齿轮盘24转动，带动底框22转动，底框22转动加快其内部水流动，提高了清洗效率。
综上所述，本实用新型设计结构合理，通过第一螺纹块带动第二螺纹块，第二螺纹块带动齿轮在移动框之间移动，齿轮上设有部分锯齿，当其带动移动框一侧转动，当转动到齿轮没有锯齿部分时，带动移动框反向运动，移动框带动移动板在套筒内进行来回移动；移动板来回移动带动圆筒框在底框内进行来回移动，这样便可对底框内各个位置的晶圆进行清洗，同时电动杆带动圆筒框转动，由于圆筒框侧面设有多个圆孔，水会从圆孔甩出，便于到达多个晶圆上，还有部分水从底孔流出，增加了清洗的面积与清洗效果，第一齿轮盘带动其两侧第二齿轮盘转动，带动底框转动，底框转动加快其内部水流动，提高了清洗效率。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种半导体生产用晶圆清洗装置，其特征在于：包括水箱，所述水箱底部设有安装框，所述安装框底部两侧设有套筒，所述套筒内设有弹簧，所述弹簧一侧设有移动板，所述移动板与所述套筒滑动相连，所述移动板顶部设有移动框，所述移动框两侧壁设有锯齿，所述锯齿一侧设有齿轮，所述齿轮上设有部分锯齿，所述齿轮一侧设有第二螺纹块，所述第二螺纹块一侧设有第一螺纹块，所述第一螺纹块与所述安装框转动相连；所述移动板底部两侧转动设有电动杆，所述电动杆两侧设有至少一个横杆，所述横杆一侧设有圆筒框，所述圆筒框表面设有至少一个圆孔，所述圆筒框底部设有底孔，所述水箱底部设有水管，所述水管穿过所述移动板与所述圆筒框相连，所述圆筒框下方设有底框，所述底框内设有置物台，所述置物台顶部设有至少一个夹块，所述底框底部设有第一齿轮盘，所述第一齿轮盘底部设有底转杆，所述底转杆底部设有储水框，所述第一齿轮盘之间设有第二齿轮盘，所述第二齿轮盘与所述储水框转动相连。
2.根据权利要求1所述的一种半导体生产用晶圆清洗装置，其特征在于：所述安装框两侧设有支架。
3.根据权利要求1所述的一种半导体生产用晶圆清洗装置，其特征在于：所述水箱顶部设有注水口。
4.根据权利要求1所述的一种半导体生产用晶圆清洗装置，其特征在于：所述移动板两侧设有侧杆，所述侧杆与所述套筒相连。
5.根据权利要求1所述的一种半导体生产用晶圆清洗装置，其特征在于：所述底框两侧设有排水管。
6.根据权利要求1所述的一种半导体生产用晶圆清洗装置，其特征在于：所述置物台与所述底框之间设有空隙。
7.根据权利要求1所述的一种半导体生产用晶圆清洗装置，其特征在于：所述储水框底部两侧设有清理口。
Priority Applications (1)
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Applications Claiming Priority (1)
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| CN202120154559.5U CN213958926U (zh) | 2021-01-20 | 2021-01-20 | 一种半导体生产用晶圆清洗装置 |
Publications (1)
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