CN213858724U - 一种双面研磨机 - Google Patents

Abstract

本申请涉及一种双面研磨机，涉及研磨设备的领域，包括底座台、第一研磨组件和第二研磨组件；底座台水平放置在地面上，底座台内部设置有空腔；第一研磨组件包括承托板、若干支撑杆、气缸、固定板、下压板、若干滑杆和第一研磨片；第二研磨组件包括容纳仓、第二研磨片、电机、驱动齿轮和行星轮。在使用本申请对晶体片的研磨过程中，仅需操控气缸和电机，减轻了工作人员的工作负担，方便了工作人员的使用。

Description

一种双面研磨机

技术领域

本申请涉及研磨设备的领域，尤其是涉及一种双面研磨机。

背景技术

在光学晶片的生产过程中，研磨工艺是十分重要的一个环节。其中，双面研磨机主要用于对两面平行的晶体零件进行双面研磨，其中采用行星轮对晶体片进行夹持。

如授权公告号为CN107584408A的中国专利，其公开了一种双面研磨机，包括：底座台、上压台和行星轮，底座台顶部设置有研磨腔，研磨腔外圈设置有内齿齿轮，研磨腔底部设置有底部研磨片，研磨腔中心设置有驱动齿轮，上压台包括中心驱动盘、驱动电机和上研磨片，行星轮包括同心设置的基体齿盘和定位盘，基体齿盘外圈设置有齿，当需要对晶体片进行研磨时，将晶体片安装在行星轮中，并将上压台安装在底座台上，使上研磨片和下研磨片分别与晶体片的上下面抵接，然后启动驱动电机，晶体片在行星轮的带动下在上研磨片和底部研磨片之间相对运动，从而起到打磨的效果。

针对上述中的相关技术，发明人认为上压台需要手动安装，较为费力。

实用新型内容

为了减轻工作人员的工作负担，本申请提供一种双面研磨机。

本申请提供的一种双面研磨机采用如下的技术方案：

一种双面研磨机，包括底座台、第一研磨组件和第二研磨组件；

所述底座台水平放置在地面上，底座台内部设置有空腔；

所述第一研磨组件包括承托板、若干支撑杆、气缸、固定板、下压板、若干滑杆和第一研磨片；

所述承托板位于底座台上方并相对于地面平行布设；若干所述支撑杆位于底座台和承托板之间并相对于地面垂直布设，支撑杆的上端部与承托板的下端面固定连接，支撑杆的下端部与底座台固定连接；所述气缸位于承托板上方且气缸的缸体与承托板上端面固定连接，气缸活塞杆的伸缩方向相对于地面垂直布设；所述固定板位于气缸上方并相对于地面平行布设，固定板的下端面与气缸活塞杆固定连接；所述下压板位于承托板下方并相对于地面平行布设；若干所述滑杆滑动穿设在承托板上，滑杆位于固定板和下压板之间并相对于地面垂直布设，滑杆的上端部与固定板的下端面固定连接，滑杆的下端部与下压板的上端面固定连接；第一研磨片位于下压板下方并相对于地面平行布设，第一研磨片与下压板固定连接；

所述第二研磨组件包括容纳仓、第二研磨片、电机、驱动齿轮和行星轮；

所述容纳仓水平放置在底座台上并与底座台固定连接，容纳仓的内侧壁上设置有内齿齿轮；所述第二研磨片相对于地面水平布设并与容纳仓固定连接，第二研磨片位于第一研磨片正下方；所述电机位于固定在底座台内，电机的输出轴相对于地面垂直布设；所述驱动齿轮位于第二研磨片上方且驱动齿轮的轴线与第二研磨片的轴线同轴设置，电机的输出轴穿过底座台、容纳仓和第二研磨片并与驱动齿轮同轴固接；所述行星轮水平放置在第二研磨片上，行星轮外圈设置有外齿齿轮，行星轮通过外齿齿轮与容纳仓内齿齿轮、驱动齿轮相啮合。

通过采用上述技术方案，首先，工作人员需要打磨晶体片时，正向启动气缸，气缸带动固定板向上移动，滑杆向上滑动，带动下压板和第一研磨片向上移动，然后将晶体片安装在行星轮上，最后逆向启动气缸，带动第一研磨片向下移动，直至第一研磨片与行星轮抵接，此时，启动电机，电机带动驱动齿轮转动，进而带动绕电机输出轴行星轮转动，在此过程中，晶体片在行星轮的带动下在上研磨片和底部研磨片之间相对运动，完成打磨过程，整个过程仅需操控气缸和电机，减轻了工作人员的工作负担，方便了工作人员的使用；

其次，多个滑杆的设置起到了导向作用和限位作用，加强了第一研磨片运动过程的稳定性，改善了第一研磨片向下移动后出现倾斜的情况。

可选的，所述滑杆的侧壁上设置有若干限位条，所述承托板上开设有供限位条上下滑动的滑槽。

通过采用上述技术方案，进一步加强了滑杆的导向作用和限位作用。

可选的，所述气缸设置为三个，三个气缸以第一研磨片轴线为轴心呈正三角形分布。

通过采用上述技术方案，一方面，降低了单个气缸所承受的过大载荷，有利于延长气缸的使用寿命，另一方面，三个气缸以第一研磨片轴线为轴心呈正三角形分布，加强了固定板移动过程的稳定性，进而增强了第一研磨片的运动稳定性。

可选的，所述滑杆为空心管，所述固定板和下压板上对应滑杆的位置开设有与滑杆内部相连通的通孔，所述固定板上设置有用于向滑杆中加水的进水组件。

通过采用上述技术方案，研磨机使用过程中，使用加水组件向滑杆中加水，水流沿滑杆内部孔道经下压板上的通孔流到第一研磨片上，能够对第一研磨片起到一定的降温作用，改善了温度过高影响研磨机使用寿命，甚至是发生危险的情况。

可选的，所述进水组件包括进水管、水泵、分流器和若干支水管；

所述进水管的一端与水源相连，进水管的另一端与分流器相连；所述水泵与进水管相连并用于驱动进水管抽水；若干所述支水管与若干滑杆一一对应，支水管的一端与分流器相连，支水管远离分流器的一端通过固定板通孔并插接在滑杆上端口处；

所述底座台上设置有用于将容纳仓中的水流导出去的引流管。

通过采用上述技术方案，需要使用进水组件时，启动水泵，水流经进水管、分流器进入各支水管中，然后沿滑杆内部孔道经下压板上的通孔流到第一研磨片上，最终流到容纳仓中经引流管排出，方便了工作人员的使用。

可选的，所述第一研磨片上开设有便于水流从第一研磨片上方流到第一研磨片和第二研磨片之间的引流孔。

通过采用上述技术方案，水流到达第一研磨片上之后，部分水流能够透过引流孔流到第一研磨片和第二研磨片之间，不仅能够对晶体片进行降温，还能及时带走研磨过程中产生的废料，进而增强了研磨机的研磨效果。

可选的，所述第二研磨片的上侧面开设有便于水流从第二研磨片上流到容纳仓内的引流槽。

通过采用上述技术方案，方便了携带着研磨废料的水流从第二研磨片上流到容纳仓中。

可选的，地面上放置有收集槽，所述引流管远离容纳仓的一端放置在收集槽中。

通过采用上述技术方案，收集槽能够收集研磨过程中产生的废料和废水，便于工作人员的后续处理，改善了废水、废料直接排放对环境造成污染的情况。

综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：

1.工作人员需要打磨晶体片时，正向启动气缸，气缸带动固定板向上移动，滑杆向上滑动，带动下压板和第一研磨片向上移动，然后将晶体片安装在行星轮上，最后逆向启动气缸，带动第一研磨片向下移动，直至第一研磨片与行星轮抵接，此时，启动电机，电机带动驱动齿轮转动，进而带动绕电机输出轴行星轮转动，在此过程中，晶体片在行星轮的带动下在上研磨片和底部研磨片之间相对运动，完成打磨过程，整个过程仅需操控气缸和电机，减轻了工作人员的工作负担，方便了工作人员的使用；

2.通过设置进水组件和引流管，研磨机使用过程中，使用加水组件向滑杆中加水，水流沿滑杆内部孔道经下压板上的通孔流到第一研磨片上，能够对第一研磨片起到一定的降温作用，改善了温度过高影响研磨机使用寿命，甚至是发生危险的情况；

3.通过设置引流孔和引流槽，水流到达第一研磨片上之后，部分水流能够透过引流孔流到第一研磨片和第二研磨片之间，不仅能够对晶体片进行降温，还能及时带走研磨过程中产生的废料。

附图说明

图1是本申请实施例的主体结构示意图。

图2是本申请中为体现第一研磨组件的示意图。

图3是本申请实施例中为体现滑杆的示意图。

图4是本申请实施例中为体现第一研磨片的示意图。

图5是本申请实施例中为体现第二研磨组件的局部剖视图。

附图标记说明：1、底座台；2、第一研磨组件；21、承托板；22、支撑杆；23、气缸；24、固定板；25、下压板；26、滑杆；261、限位条；27、第一研磨片；271、引流孔；3、第二研磨组件；31、容纳仓；32、第二研磨片；321、引流槽；33、电机；34、驱动齿轮；35、行星轮；4、进水组件；41、进水管；42、水泵；43、分流器；44、支水管；5、引流管；6、收集槽。

具体实施方式

以下结合附图1-5对本申请作进一步详细说明。

本申请实施例公开一种双面研磨机。参照图1，一种双面研磨机包括底座台1、第一研磨组件2和第二研磨组件3。

参照图1，底座台1水平放置在地面上，底座台1内部设置有空腔。

参照图1和图2，第一研磨组件2包括圆形承托板21、三根支撑杆22、三个气缸23、圆形固定板24、圆形下压板25、六根滑杆26和圆形第一研磨片27。

承托板21位于底座台1上方并相对于地面平行布设；三根支撑杆22位于底座台1和承托板21之间并相对于地面垂直布设，支撑杆22的上端部与承托板21的下端面边缘固定连接，支撑杆22的下端部与底座台1固定连接；

三个气缸23均位于承托板21上方，气缸23的缸体与承托板21上端面固定连接，气缸23活塞杆的伸缩方向相对于地面垂直布设；固定板24位于气缸23上方并相对于地面平行布设，固定板24的下端面与气缸23活塞杆固定连接，同时，为了加强固定板24运动过程的稳定性，三个气缸23以固定板24轴线为轴心呈正三角形分布；下压板25位于承托板21下方并相对于地面平行布设；

参照2和图3，六根滑杆26滑动穿设在承托板21上，滑杆26位于固定板24和下压板25之间并相对于地面垂直布设，滑杆26的上端部与固定板24的下端面边缘部固定连接，滑杆26的下端部与下压板25的上端面边缘部固定连接，六根滑杆26以下压板25轴线为轴心呈圆周阵列分布，在使用气缸23控制固定板24的升降过程中，滑杆26起到了导向作用和限位作用，为了进一步加强滑杆26的导向作用，在每根滑杆26的侧壁上均固定有三块限位条261，承托板21上开设有供限位条261上下滑动的滑槽。

第一研磨片27位于下压板25下方并相对于地面平行布设，第一研磨片27与下压板25固定连接。

参照图1和图5，第二研磨组件3包括容纳仓31、第二研磨片32、电机33、驱动齿轮34和行星轮35。

容纳仓31水平放置在底座台1上并与底座台1固定连接，容纳仓31的内侧壁上设置有内齿齿轮；第二研磨片32相对于地面水平布设并与容纳仓31固定连接，第二研磨片32位于第一研磨片27正下方；电机33位于固定在底座台1内，电机33的输出轴相对于地面垂直布设；驱动齿轮34位于第二研磨片32上方且驱动齿轮34的轴线与第二研磨片32的轴线同轴设置，电机33的输出轴穿过底座台1、容纳仓31和第二研磨片32并与驱动齿轮34同轴固接；行星轮35水平放置在第二研磨片32上，行星轮35外圈设置有外齿齿轮，行星轮35通过外齿齿轮与容纳仓31内齿齿轮、驱动齿轮34相啮合，关于晶体片如何安装在行星轮35上属于现有技术，并且被该领域内的技术人员所熟知，故而不再赘述。

工作人员需要打磨晶体片时，正向启动气缸23，气缸23带动固定板24向上移动，滑杆26向上滑动，带动下压板25和第一研磨片27向上移动，然后将晶体片安装在行星轮35上，最后逆向启动气缸23，带动第一研磨片27向下移动，直至第一研磨片27与行星轮35抵接，此时，启动电机33，电机33带动驱动齿轮34转动，进而带动绕电机33输出轴行星轮35转动，在此过程中，晶体片在行星轮35的带动下在上研磨片和底部研磨片之间相对运动，完成打磨过程。

参照图1和图3，在晶体片打磨过程中，第一研磨片27和第二研磨片32产生的热量不容易散失，很容易发生危险，因此进行以下布设：设置滑杆26为空心管，并且在固定板24和下压板25上对应滑杆26的位置开设有与滑杆26内部相连通的通孔，在固定板24上设置了用于向滑杆26中加水的进水组件4，底座台1上设置有用于将容纳仓31中的水流导出去的引流管5。

进水组件4包括进水管41、水泵42、分流器43和六根支水管44。

进水管41的一端与水源相连，进水管41的另一端与分流器43相连；水泵42与进水管41相连并用于驱动进水管41抽水；支水管44与滑杆26一一对应，支水管44的一端与分流器43相连，支水管44远离分流器43的一端通过固定板24通孔并插接在滑杆26上端口处。

这样一来，研磨机使用过程中，使用加水组件向滑杆26中加水，水流沿滑杆26内部孔道经下压板25上的通孔流到第一研磨片27上，能够对第一研磨片27起到一定的降温作用，第一研磨片27上的水流最终流到容纳仓31中并由引流管5排出。

参照图4和图5，为了改善水流不易进入第一研磨片27和第二研磨片32之间的情况，在第一研磨片27上开设有便于水流从第一研磨片27上方流到第一研磨片27和第二研磨片32之间的引流孔271，在第二研磨片32的上侧面开设有便于水流从第二研磨片32上流到容纳仓31内的引流槽321，这样一来，水流到达第一研磨片27上之后，部分水流能够透过引流孔271流到第一研磨片27和第二研磨片32之间，不仅能够对晶体片进行降温，还能及时带走研磨过程中产生的废料。

最后，为了便于工作人员对废水、废料的后续处理，在地面上放置有收集槽6，引流管5远离容纳仓31的一端放置在收集槽6中。

本申请实施例一种双面研磨机的实施原理为：需要对晶体片进行研磨时，先启动气缸23控制第一研磨片27上升，然后将晶体片安装在行星轮35上，然后逆向启动气缸23直至第一研磨片27与晶体片抵接，启动电机33，电机33带动驱动齿轮34转动，进而带动绕电机33输出轴行星轮35转动，在此过程中，晶体片在游星轮的带动下在上研磨片和底部研磨片之间相对运动，完成打磨过程；

与此同时，需要对第一研磨片27和第二研磨片32进行降温时，使用进水组件4向滑杆26中加水，水流沿滑杆26内部孔道经下压板25上的通孔流到第一研磨片27上，然后经引流孔271流到第一研磨片27和第二研磨片32之间，不仅能够对晶体片进行降温，还能及时带走研磨过程中产生的废料，携带着研磨废料的水流从第二研磨片32上流到容纳仓31中并经引流管5排入收集槽6中。

以上均为本申请的较佳实施例，并非依此限制本申请的保护范围，故：凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本申请的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种双面研磨机，其特征在于：包括底座台(1)、第一研磨组件(2)和第二研磨组件(3)；

所述底座台(1)水平放置在地面上，底座台(1)内部设置有空腔；

所述第一研磨组件(2)包括承托板(21)、若干支撑杆(22)、气缸(23)、固定板(24)、下压板(25)、若干滑杆(26)和第一研磨片(27)；

所述承托板(21)位于底座台(1)上方并相对于地面平行布设；若干所述支撑杆(22)位于底座台(1)和承托板(21)之间并相对于地面垂直布设，支撑杆(22)的上端部与承托板(21)的下端面固定连接，支撑杆(22)的下端部与底座台(1)固定连接；所述气缸(23)位于承托板(21)上方且气缸(23)的缸体与承托板(21)上端面固定连接，气缸(23)活塞杆的伸缩方向相对于地面垂直布设；所述固定板(24)位于气缸(23)上方并相对于地面平行布设，固定板(24)的下端面与气缸(23)活塞杆固定连接；所述下压板(25)位于承托板(21)下方并相对于地面平行布设；若干所述滑杆(26)滑动穿设在承托板(21)上，滑杆(26)位于固定板(24)和下压板(25)之间并相对于地面垂直布设，滑杆(26)的上端部与固定板(24)的下端面固定连接，滑杆(26)的下端部与下压板(25)的上端面固定连接；第一研磨片(27)位于下压板(25)下方并相对于地面平行布设，第一研磨片(27)与下压板(25)固定连接；

所述第二研磨组件(3)包括容纳仓(31)、第二研磨片(32)、电机(33)、驱动齿轮(34)和行星轮(35)；

所述容纳仓(31)水平放置在底座台(1)上并与底座台(1)固定连接，容纳仓(31)的内侧壁上设置有内齿齿轮；所述第二研磨片(32)相对于地面水平布设并与容纳仓(31)固定连接，第二研磨片(32)位于第一研磨片(27)正下方；所述电机(33)位于固定在底座台(1)内，电机(33)的输出轴相对于地面垂直布设；所述驱动齿轮(34)位于第二研磨片(32)上方且驱动齿轮(34)的轴线与第二研磨片(32)的轴线同轴设置，电机(33)的输出轴穿过底座台(1)、容纳仓(31)和第二研磨片(32)并与驱动齿轮(34)同轴固接；所述行星轮(35)水平放置在第二研磨片(32)上，行星轮(35)外圈设置有外齿齿轮，行星轮(35)通过外齿齿轮与容纳仓(31)内齿齿轮、驱动齿轮(34)相啮合。

2.根据权利要求1所述的一种双面研磨机，其特征在于：所述滑杆(26)的侧壁上设置有若干限位条(261)，所述承托板(21)上开设有供限位条(261)上下滑动的滑槽。

3.根据权利要求1所述的一种双面研磨机，其特征在于：所述气缸(23)设置为三个，三个气缸(23)以第一研磨片(27)轴线为轴心呈正三角形分布。

4.根据权利要求1所述的一种双面研磨机，其特征在于：所述滑杆(26)为空心管，所述固定板(24)和下压板(25)上对应滑杆(26)的位置开设有与滑杆(26)内部相连通的通孔，所述固定板(24)上设置有用于向滑杆(26)中加水的进水组件(4)。

5.根据权利要求4所述的一种双面研磨机，其特征在于：所述进水组件(4)包括进水管(41)、水泵(42)、分流器(43)和若干支水管(44)；

所述进水管(41)的一端与水源相连，进水管(41)的另一端与分流器(43)相连；所述水泵(42)与进水管(41)相连并用于驱动进水管(41)抽水；若干所述支水管(44)与若干滑杆(26)一一对应，支水管(44)的一端与分流器(43)相连，支水管(44)远离分流器(43)的一端通过固定板(24)通孔并插接在滑杆(26)上端口处；

所述底座台(1)上设置有用于将容纳仓(31)中的水流导出去的引流管(5)。

6.根据权利要求1所述的一种双面研磨机，其特征在于：所述第一研磨片(27)上开设有便于水流从第一研磨片(27)上方流到第一研磨片(27)和第二研磨片(32)之间的引流孔(271)。

7.根据权利要求1所述的一种双面研磨机，其特征在于：所述第二研磨片(32)的上侧面开设有便于水流从第二研磨片(32)上流到容纳仓(31)内的引流槽(321)。

8.根据权利要求5所述的一种双面研磨机，其特征在于：地面上放置有收集槽(6)，所述引流管(5)远离容纳仓(31)的一端放置在收集槽(6)中。

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