CN213700094U - 一种用于光触媒溶液生产的原料研磨装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及新型催化剂制备及应用技术领域,特别涉及一种用于光触媒溶液生产的原料研磨装置,通过两台电机带动各自的磨盘做异向转动,上磨盘的加料口加入物料,物料在上磨盘和下磨盘之间研磨后,通过溜槽滑至上磨盘外缘,由于罩板在料釜内部,且在挡板外部,研磨后的颗粒受罩板的遮挡下落至料釜中,活板折页向下翻开后为排料口可将研磨好的物料排出。本实用新型的研磨装置研磨效果好,物料转移时不会激起粉尘,安全高效。
Description
技术领域
本实用新型涉及新型催化剂制备及应用技术领域,特别涉及一种用于光触媒溶液生产的原料研磨装置
背景技术
光触媒溶液具有原料配伍合理,制备成本低,使用方便,清洁效果好等特点,该空气清洁剂可以喷洒在居室内或涂抹在家具上面,可自然挥发且不留痕迹,只需微弱的紫外线照射就可以激发纳米二氧化钛产生杀菌,抗菌,分解有害气体的作用。
光触媒溶液涂覆在织物表面,对于舒适度有一定要求,所以在光触媒溶液生产过程中,固体原料需要进行精细的筛分和研磨,但是如何更细致地研磨是一个问题,另一方面,研磨之后,用工具盛出时容易激起粉尘,遇明火有爆炸的危险。
实用新型内容
为了解决上述技术问题,本实用新型公开了一种用于光触媒溶液生产的原料研磨装置。
具体技术方案如下:
一种用于光触媒溶液生产的原料研磨装置,包括料釜、斗状上磨盘和下磨盘,料釜底部中心有环形挡板,挡板中央安装电机,电机的输出轴连接转轴,下磨盘中心开孔通过轴承安装在转轴上,上磨盘中心开孔通过轴承安装在另一电机的输出轴上,上磨盘上开设有一个加料口,两台电机带动各自的磨盘做异向转动;下磨盘的外壁和上磨盘的内壁为摩擦研磨面,所述上磨盘的内壁和下磨盘的外壁加工成辐射状的溜槽;料釜的底面是活底,通过四对折页安装四块可翻折的活板,活板向下翻开后为排料口。
所述上磨盘的外缘安装一周竖直向下的罩板。
所述上磨盘和下磨盘之间的缝隙大小可调,从而调节研磨颗粒的细度。
所述罩板在料釜内部,且在挡板外部。
与现有技术相比,本实用新型具有如下有益技术效果:
本实用新型两台电机带动各自的磨盘做异向转动,通过上磨盘的加料口加入物料,物料在上磨盘和下磨盘之间研磨后,通过溜槽滑至上磨盘外缘,由于罩板在料釜内部,且在挡板外部,研磨后的颗粒受罩板的遮挡下落至料釜中,活板折页向下翻开后为排料口可将研磨好的物料排出。本实用新型的研磨装置研磨效果好,物料转移时不会激起粉尘,安全高效。
附图说明
图1为本实用新型研磨装置的结构示意图;
图2为本实用新型上磨盘的仰视图;
图3为本实用新型排料口结构示意图;
图中,1—料釜;2—挡板;3—电机;4—转轴;5—下磨盘;6—轴承;7—上磨盘;8—加料口;9—排料口;10—溜槽;11—罩板;12—折页。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型进行进一步说明,但本实用新型的保护范围不仅限于附图。
图1为本实用新型研磨装置的结构示意图,图2为本实用新型上磨盘的仰视图,图3为本实用新型排料口结构示意图,如图所示:本实用新型用于光触媒溶液生产的原料研磨装置,包括料釜1、斗状上磨盘7和下磨盘5,料釜1底部中心有环形挡板2,挡板中央安装电机3,电机3的输出轴连接转轴4,下磨盘5中心开孔通过轴承6安装在转轴4上,上磨盘7中心开孔通过轴承安装在另一电机的输出轴上,上磨盘7上开设有一个加料口8,两台电机带动各自的磨盘做异向转动;下磨盘5的外壁和上磨盘7的内壁为摩擦研磨面,所述上磨盘7的内壁和下磨盘的外壁加工成辐射状的溜槽10;料釜1的底面是活底,通过四对折页12安装四块可翻折的活板,活板向下翻开后为排料口9。所述上磨盘7的外缘安装一周竖直向下的罩板11,罩板11在料釜1内部,且在挡板2外部。所述上磨盘7和下磨盘5之间的缝隙大小可调,从而调节研磨颗粒的细度。
工作时,调整上磨盘7和下磨盘5之间的缝隙后,开启两个电机,两台电机带动各自的磨盘做异向转动,通过上磨盘7的加料口8加入物料,物料在上磨盘7和下磨盘5之间研磨后,通过溜槽10滑至上磨盘7外缘,由于罩板11在料釜1内部,且在挡板2外部,研磨后的颗粒受罩板11的遮挡下落至料釜中,活板折页12向下翻开后为排料口9可将研磨好的物料排出。
Claims (4)
1.一种用于光触媒溶液生产的原料研磨装置,其特征在于:包括料釜、斗状上磨盘和下磨盘,料釜底部中心有环形挡板,挡板中央安装电机,电机的输出轴连接转轴,下磨盘中心开孔通过轴承安装在转轴上,上磨盘中心开孔通过轴承安装在另一电机的输出轴上,上磨盘上开设有一个加料口,两台电机带动各自的磨盘做异向转动;下磨盘的外壁和上磨盘的内壁为摩擦研磨面,所述上磨盘的内壁和下磨盘的外壁加工成辐射状的溜槽;料釜的底面是活底,通过四对折页安装四块可翻折的活板,活板向下翻开后为排料口。
2.根据权利要求1所述的用于光触媒溶液生产的原料研磨装置,其特征在于:所述上磨盘的外缘安装一周竖直向下的罩板。
3.根据权利要求1所述的用于光触媒溶液生产的原料研磨装置,其特征在于:所述上磨盘和下磨盘之间的缝隙大小可调,从而调节研磨颗粒的细度。
4.根据权利要求2所述的用于光触媒溶液生产的原料研磨装置,其特征在于:所述罩板在料釜内部,且在挡板外部。
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CN202022785144.6U CN213700094U (zh) | 2020-11-27 | 2020-11-27 | 一种用于光触媒溶液生产的原料研磨装置 |
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Publications (1)
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CN202022785144.6U Active CN213700094U (zh) | 2020-11-27 | 2020-11-27 | 一种用于光触媒溶液生产的原料研磨装置 |
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2020
- 2020-11-27 CN CN202022785144.6U patent/CN213700094U/zh active Active
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