CN213680867U - 一种移动弧源电弧离子沉积设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及电弧离子沉积技术领域，尤其是涉及一种移动弧源电弧离子沉积设备。移动弧源电弧离子沉积设备包括真空室、移动平台和弧源；所述移动平台设置在真空室内，所述弧源设置在移动平台上。通过将弧源设置在移动平台上，能够实现弧源的移动，通过一个弧源能够实现工件不同位置的离子沉积，相对于现有多个弧源的方案，减少了弧源的使用，降低了生成成本。

Description

一种移动弧源电弧离子沉积设备

技术领域

本实用新型涉及电弧离子沉积技术领域，尤其是涉及一种移动弧源电弧离子沉积设备。

背景技术

通常的电弧离子沉积设备采用的是固定弧源,在沉积大体积的零部件时用多弧源方案。即在真空室四壁上密排着很多弧源头以达到快速沉积的目的。

这就带来了靶材的极大浪费,并且还存在多个对向弧源相互干扰的问题。使得生产中需要将对向的弧源关闭并用遮挡板挡住。

对于沉积稀贵金属,上述的传统技术方案就显得不能满足降低生产成本, 提高产品质量的要求。

实用新型内容

本实用新型的第一目的在于提供一种移动弧源电弧离子沉积设备，该沉积设备能够解决现有技术中存在生产成本高的问题；

本实用新型提供一种移动弧源电弧离子沉积设备，其包括真空室、移动平台和弧源；

所述移动平台设置在真空室内，所述弧源设置在移动平台上。

优选的，所述移动平台能够带动弧源沿真空室的轴向移动。

优选的，所述真空室包括移动平台安装腔和工件放置腔；

所述移动平台安装腔的开口端和工件放置腔的开口端相互密封连接。

优选的，所述移动平台包括电机、减速器、丝杠、螺母和滑块；

所述电机通过减速器带动丝杠转动，丝杠与移动平台安装腔转动连接，丝杠与移动平台安装腔轴向固定；

所述螺母固定在移动平台安装腔内，丝杠与螺母转动连接，滑块与螺母固定连接，且滑块在螺母的带动下沿丝杠的轴向移动。

优选的，所述丝杠与减速器之间设置有磁流体密封装置。

优选的，所述移动平台安装腔内设置有导轨，所述滑块与导轨滑动连接。

优选的，所述弧源与滑块固定连接。

优选的，所述移动平台安装腔上设置有冷却水接口和控制线接口。

优选的，所述工件放置腔内设置有工件旋转装置。

优选的，所述移动平台安装腔和工件放置腔之间设置有密封圈。

有益效果：

通过将弧源设置在移动平台上，能够实现弧源的移动，通过一个弧源能够实现工件不同位置的离子沉积，相对于现有多个弧源的方案，减少了弧源的使用，降低了生成成本。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型具体实施方式提供的移动弧源电弧离子沉积设备的结构示意图；

图2为本实用新型具体实施方式提供的移动平台与移动平台安装室配合的结构示意图；

图3为图2“A-A向”剖视图；

图4为图2右视图。

附图标记说明：

1：真空室；2：移动平台；3：弧源；

21：电机；22：减速器；23：丝杠；24：螺母；25：滑块；26：磁流体密封装置；27：导轨。

具体实施方式

下面将结合实施例对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语"中心"、"纵向"、"横向"、 "长度"、"宽度"、"厚度"、"上"、"下"、"前"、"后"、"左"、"右"、"竖直"、" 水平"、"顶"、"底"、"内"、"外"、"顺时针"、"逆时针"等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语"第一"、"第二"仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有"第一"、 "第二"的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本实用新型的描述中，"多个"的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。此外，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

如图1至图4所示，本实施方式提供了一种移动弧源电弧离子沉积设备，其包括真空室1、移动平台2和弧源3。移动平台2设置在真空室1内，弧源3设置在移动平台2上。

通过将弧源3设置在移动平台2上，能够实现弧源3的移动，通过一个弧源3能够实现工件不同位置的离子沉积，相对于现有多个弧源3的方案，减少了弧源3的使用，降低了生成成本。

移动平台2能够带动弧源3沿真空室1的轴向移动。也就是说移动平台2能够调整弧源3在竖直方向上的位置。

需要说明的是，在有些必要的情况下，移动平台2也能够带动弧源3 在真空室径向或者周向移动。

真空室1包括移动平台安装腔和工件放置腔，移动平台安装腔的开口端和工件放置腔的开口端相互密封连接。

具体的，移动平台包括电机21、减速器22、丝杠23、螺母24和滑块 25。

电机21通过减速器22带动丝杠23转动，丝杠23与移动平台安装腔转动连接，丝杠23与移动平台安装腔轴向固定。

螺母24固定在移动平台安装腔内，丝杠23与螺母24转动连接，滑块 25与螺母24固定连接，且滑块25在螺母24的带动下沿丝杠23的轴向移动。

采用丝杠螺母的方式带动弧源3的移动，能够提高弧源3运行的稳定性。

丝杠23与减速器22之间设置有磁流体密封装置26。采用此装置具有良好的密封效果。磁流体密封原理：磁流体密封技术就是利用磁流体对磁场的良好响应特性而实现的。当把磁流体注入到由高性能的永久磁铁，导磁良好的极靴与旋转轴所构成的磁回路间隙中，在磁场的作用下，磁流体在间隙中形成数个液态的“O”形圈，从而起到密封作用。

移动平台安装腔内设置有导轨27，滑块25与导轨27滑动连接。通过导轨27将滑块25设置在移动平台安装腔内能够进一步的提高移动平台运行的稳定性。

弧源3与滑块25固定连接。

移动平台安装腔上设置有冷却水接口和控制线接口。

工件放置腔内设置有工件旋转装置。工件旋转装置能够带动工件在工件安装腔内旋转。工件的旋转配合弧源的移动能够实现一个弧源3对工件的上下周向进行沉积。

移动平台安装腔和工件放置腔之间设置有密封圈。

移动弧源应用高功率脉冲引弧电路将脉冲电压提高至30000V左右,使引弧不再是难题,在高真空环境下可以产生高纯度的沉积膜层。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种移动弧源电弧离子沉积设备，其特征在于，包括真空室、移动平台和弧源；

所述移动平台设置在真空室内，所述弧源设置在移动平台上。

2.根据权利要求1所述的移动弧源电弧离子沉积设备，其特征在于，所述移动平台能够带动弧源沿真空室的轴向移动。

3.根据权利要求1所述的移动弧源电弧离子沉积设备，其特征在于，所述真空室包括移动平台安装腔和工件放置腔；

所述移动平台安装腔的开口端和工件放置腔的开口端相互密封连接。

4.根据权利要求3所述的移动弧源电弧离子沉积设备，其特征在于，所述移动平台包括电机、减速器、丝杠、螺母和滑块；

所述电机通过减速器带动丝杠转动，丝杠与移动平台安装腔转动连接，丝杠与移动平台安装腔轴向固定；

所述螺母固定在移动平台安装腔内，丝杠与螺母转动连接，滑块与螺母固定连接，且滑块在螺母的带动下沿丝杠的轴向移动。

5.根据权利要求4所述的移动弧源电弧离子沉积设备，其特征在于，所述丝杠与减速器之间设置有磁流体密封装置。

6.根据权利要求4所述的移动弧源电弧离子沉积设备，其特征在于，所述移动平台安装腔内设置有导轨，所述滑块与导轨滑动连接。

7.根据权利要求4所述的移动弧源电弧离子沉积设备，其特征在于，所述弧源与滑块固定连接。

8.根据权利要求3所述的移动弧源电弧离子沉积设备，其特征在于，所述移动平台安装腔上设置有冷却水接口和控制线接口。

9.根据权利要求3所述的移动弧源电弧离子沉积设备，其特征在于，所述工件放置腔内设置有工件旋转装置。

10.根据权利要求3所述的移动弧源电弧离子沉积设备，其特征在于，所述移动平台安装腔和工件放置腔之间设置有密封圈。

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