CN213507174U - 一种膜层沉积腔室及磁控溅射设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种膜层沉积腔室及磁控溅射设备，属于物理气相沉积设备技术领域，其中膜层沉积腔室，包括：壳体，壳体上设置有观察窗，观察窗提供用于观察壳体内的载板的窗口；遮挡板，可移动的设置在壳体的内部，遮挡板相对于观察窗具有遮挡位置和打开位置，遮挡板在遮挡位置用于遮挡观察窗对壳体内的观察；遮挡板在打开位置移开对观察窗的遮挡，以便于通过观察窗对壳体内进行观察。本实用新型的膜层沉积腔室，通过遮挡板使腔室在用于进行磁控溅射时，靶材材料、灰尘及其他杂质不容易落在观察窗上，当需要通过观察窗对腔室内部进行观察时，通过移动遮挡板，能够看到壳体内部的载板，从而改善了观察窗容易被污染的问题。

Description

一种膜层沉积腔室及磁控溅射设备

技术领域

本实用新型涉及物理气相沉积设备技术领域，具体涉及一种膜层沉积腔室及磁控溅射设备。

背景技术

磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)的一种，磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程，入射粒子在靶中经历复杂的散射过程，和靶原子碰撞，把部分动量传给靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成级联过程，在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量，离开靶被溅射出来。

现有技术的磁控溅射设备中，往往设置观察窗观测磁控溅射的腔室内的工作状态。但是，此时观察窗为壳体挖孔填充玻璃并与周边密封的一部分，同样会被靶原子污染，观察窗被污染后，控制系统无法检测腔室内有无载板，可能导致堵料或两个载板撞击的严重生产事故，因此需要经常清洁观察窗。

而且，清洁或更换观察窗时需要停止工艺，将真空腔室充大气，更换观察窗重新密封后，再将真空腔室恢复至真空状态。导致清洁或更换观察窗的维护时间很长，而且充气容易污染腔室环境，对恢复工艺环境具有一定影响。

实用新型内容

因此，本实用新型要解决的技术问题在于克服现有技术中的用于磁控溅射的腔室的观察窗容易被污染的缺陷，从而提供一种膜层沉积腔室以及具有上述膜层沉积腔室的磁控溅射设备。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种膜层沉积腔室，内部适于通过载板并对载板上的工件进行成膜，包括：

壳体，所述壳体上设置有观察窗，所述观察窗提供用于观察所述壳体内的载板的窗口；

遮挡板，可移动的设置在所述壳体的内部，所述遮挡板相对于所述观察窗具有遮挡位置和打开位置，所述遮挡板在遮挡位置用于遮挡所述观察窗对所述壳体内的观察；所述遮挡板在打开位置移开对所述观察窗的遮挡，以便于通过观察窗对所述壳体内进行观察。

可选地，所述遮挡板相对于所述观察窗的透明片为倾斜设置。

可选地，所述壳体内设置有：滑轨，所述滑轨设置在所述壳体内表面，所述遮挡板设置于所述滑轨上，且所述滑轨的路径至少覆盖对应所述观察窗的前方。

驱动装置，固定设置在所述壳体的内表面上，所述驱动装置的驱动端与所述遮挡板固定连接，所述遮挡板通过所述驱动装置的驱动在所述遮挡位置和所述打开位置之间移动。

可选地，还包括：清洁器，相对于所述观察窗固定设置在所述壳体内，所述清洁器具有中空结构的管道以及位于所述管道终端的清洁部，用于对所述观察窗的表面进行吹扫。

可选地，所述清洁部朝向所述观察窗，并通过所述管道与位于所述壳体外部的吹扫气体连通。可选地，所述清洁部上具有至少一个朝向所述观察窗的出气孔，所述出气孔的内径沿朝向所述观察窗的方向为逐渐变小。

可选地，所述管道的位于所述壳体外的部分设置有阀门，所述阀门用于控制通过所述管道进入所述壳体内的吹扫气体的通断。

可选地，所述阀门为电磁阀，所述电磁阀通过电信号与控制器连接，所述电磁阀用于控制通过所述管道进入所述壳体内的吹扫气体的通断。

可选地，所述观察窗上的透明片相对于所述壳体的外表面为倾斜设置或平行设置。

本实用新型还提供一种磁控溅射设备，包括上述方案中任一项所述的膜层沉积腔室。

本实用新型技术方案，具有如下优点：

1.本实用新型提供的膜层沉积腔室，在壳体上设置有观察窗，在观察窗的内侧设置有遮挡板，通过遮挡板的遮挡，使腔室在用于进行磁控溅射时，靶材材料、灰尘及其他杂质不容易落在观察窗上，当需要通过观察窗对腔室内部进行观察时，通过移动所述遮挡板，能够看到壳体内部的载板，从而改善了观察窗容易被污染的问题。

2.本实用新型提供的膜层沉积腔室，在壳体内具有清洁器，该清洁器通过与工艺吹扫气连通，采用气体吹扫的方式可对观察窗的内表面进行清洁，从而进一步的改善观察窗容易被污染的问题。

3.本实用新型提供的磁控溅射设备，由于具有上述任一项方案所述的膜层沉积腔室，因此具有上述任一项所述的优点。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例1中膜层沉积腔室的主剖视图。

图2为图1中的腔室在壳体内部设置的用于使遮挡板移动的结构的俯视图。

图3为本实用新型实施例2中膜层沉积腔室的主剖视图。

附图标记说明：

1、壳体；2、载板；3、观察窗；4、遮挡板；5、激光传感器；6、清洁部；7、管道；8、电磁阀；9、驱动装置；10、滑轨；11、透明片。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

此外，下面所描述的本实用新型不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。

实施例1

本实施例提供一种膜层沉积腔室的具体实施方式，如图1所示，腔室包括：壳体1，所述壳体1内用于通过载板2，所述壳体1的底部设有观察窗3，观察窗3设置有透明片11。透明片11相对于所述壳体1的外表面平行设置，且与壳体1密封连接，从而，可通过所述观察窗3的透明片11观察所述壳体1内的载板2。

所述壳体1内可移动的设置有遮挡板4，通过遮挡板4用于遮挡在观察窗3的内侧，通过遮挡板4的遮挡，使腔室在用于进行磁控溅射时，靶材材料、灰尘及其他杂质不容易落在观察窗上，当需要通过观察窗对腔室内部进行观察时，通过移动所述遮挡板4，能够看到壳体内部的载板2，从而改善了观察窗的透明片11容易被污染的问题，保证从观察窗3能够清楚的看到壳体1内的载板2。

所述遮挡板4相对于所述观察窗3的透明片为倾斜设置，其作用为，可使灰尘或其他杂质在遮挡板4的上方进行自然向下沉降，避免灰尘在遮挡板4的上方堆积，避免遮挡板4上方的灰尘对观察窗3产生二次污染。

在腔室的外部，通过激光传感器5对壳体1内是否具有载板2进行检测，激光传感器5固定在壳体1外，激光传感器5的检测端垂直朝向观察窗3，激光传感器5通过观察窗3直接朝向壳体1内的载板2，通过检测壳体1内载板2与检测点之间的距离判断壳体1内是否具有载板2；激光传感器5通过电信号与控制器连接，控制器根据激光传感器5反馈的信号进行判断，在腔室内是否具有载板2，以避免后续需要进入腔室内的载板2与前面的载板2产生碰撞。

如图2所示，在壳体1内设置有滑轨10，所述滑轨10用于支撑在遮挡板4的下方，从而使遮挡板4可沿着滑轨10在壳体1内进行移动。在壳体1的内表面上还固定设置有驱动装置9，所述驱动装置9的驱动端与所述遮挡板4固定连接，通过所述驱动装置9用于驱动所述遮挡板4沿着所述滑轨10在所述遮挡位置和打开位置之间移动。所述驱动装置9通过控制器控制驱动，所述驱动装置9可以采用电动推杆、气缸等驱动方式。

在该膜层沉积腔室中，当需要朝向腔室的壳体1内进入载板2时，首先需检测壳体1内是否存在载板2，具体的，采用驱动装置9将遮挡板4移动至打开位置，使激光传感器5通过观察窗3对壳体1的内部是否具有载板2进行检测，并将检测信号反馈至控制器，控制器接收到激光传感器5的信号后，对壳体1内是否存在载板2进行判断。当判断为壳体1内不存在载板2时，允许后续载板2的进入，并控制驱动装置9将遮挡板4重新移动至遮挡位置，将观察窗3的内侧进行遮挡，避免在进行磁控溅射时，靶材材料、灰尘及其他杂质落在观察窗3上。

实施例2

本实施例提供一种膜层沉积腔室的具体实施方式，与实施例1的结构大体相同，不同之处在于：如图3所示，本实施例的膜层沉积腔室，在壳体1内还设置有清洁器，所述清洁器为固定设置在壳体1的内表面上，清洁器具有中空结构的管道以及位于所述管道终端的清洁部6，所述清洁部6朝向观察窗3的透明片11的内侧，用于对观察窗3的透明片11的内侧表面进行吹扫；所述观察窗3的透明片11相对于壳体1的外表面为倾斜设置，当所述清洁器对透明片11的内侧表面进行吹扫时，透明片11的倾斜结构可以便于杂质的滑落，从而进一步地提高对观察窗3的清洁效果。

所述清洁部6通过管道7与位于所述壳体1外部的工艺吹扫气连通，所述清洁部6上具有多个朝向所述观察窗3的出气孔，通过所述出气孔对所述观察窗3的透明片11进行吹扫。所述出气孔的内径沿朝向所述观察窗3的方向为逐渐变小，通过所述出气孔的气体在逐渐缩小的出气孔进行加速，从而进一步提高对观察窗3的透明片11清洁效果。

在所述管道7的位于所述壳体1外的部分设置有阀门，所述阀门为电磁阀8，所述电磁阀8通过电信号与控制器连接，通过所述电磁阀8用于控制通过所述管道7进入所述壳体1内的气体的通断。

本实施例采用气体吹扫的方式对观察窗3的内表面能够进行适当的清洁，从而进一步的改善观察窗3容易被污染的问题。

在该膜层沉积腔室中，当需要对观察窗3的内侧进行清洁时，首先通过驱动装置9将遮挡板4移动至打开位置，然后控制电磁阀8打开，使工艺吹扫气通过管道7从清洁器朝向观察窗3的内侧壁喷出，以到达对观察窗3的内侧进行清洁的目的。清洁完成后，关闭电磁阀8，最后通过驱动装置9将重新移动至遮挡位置。

实施例3

本实施例提供一种磁控溅射设备，包括实施例1或实施例2中所述的膜层沉积腔室，该膜层沉积腔室用于通过载板2并对载板2上的工件进行成膜，从而在该腔室内通过磁控溅射完成成膜。

显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本实用新型的保护范围之中。

Claims (10)

1.一种膜层沉积腔室，内部适于通过载板(2)并对载板(2)上的工件进行成膜，其特征在于，包括：

壳体(1)，所述壳体(1)上设置有观察窗(3)，所述观察窗(3)提供用于观察所述壳体(1)内的载板(2)的窗口；

遮挡板(4)，可移动的设置在所述壳体(1)的内部，所述遮挡板(4)相对于所述观察窗(3)具有遮挡位置和打开位置，所述遮挡板(4)在遮挡位置用于遮挡所述观察窗(3)对所述壳体(1)内的观察；所述遮挡板(4)在打开位置移开对所述观察窗(3)的遮挡，以便于通过观察窗(3)对所述壳体(1)内进行观察。

2.根据权利要求1所述膜层沉积腔室，其特征在于，所述遮挡板(4)相对于所述观察窗(3)的透明片(11)为倾斜设置。

3.根据权利要求1所述膜层沉积腔室，其特征在于，所述壳体内设置有：

滑轨(10)，所述滑轨(10)设置在所述壳体(1)内表面，所述遮挡板设置于所述滑轨(10)上，且所述滑轨(10)的路径至少覆盖对应所述观察窗(3)的前方；

驱动装置(9)，固定设置在所述壳体的内表面上，所述驱动装置(9)的驱动端与所述遮挡板固定连接，所述遮挡板通过所述驱动装置(9)的驱动在所述遮挡位置和所述打开位置之间移动。

4.根据权利要求1-3中任一项所述膜层沉积腔室，其特征在于，还包括：

清洁器，相对于所述观察窗(3)固定设置在所述壳体(1)内，所述清洁器具有中空结构的管道以及位于所述管道终端的清洁部(6)，用于对所述观察窗(3)的表面进行吹扫。

5.根据权利要求4所述膜层沉积腔室，其特征在于，所述清洁部(6)朝向所述观察窗(3)，并通过所述管道(7)与位于所述壳体(1)外部的吹扫气体连通。

6.根据权利要求4所述膜层沉积腔室，其特征在于，所述清洁部(6)具有至少一个朝向所述观察窗(3)的出气孔，所述出气孔的内径沿朝向所述观察窗(3)的方向为逐渐变小。

7.根据权利要求4所述膜层沉积腔室，其特征在于，所述管道(7)的位于所述壳体(1)外的部分设置有阀门，所述阀门用于控制通过所述管道(7)进入所述壳体(1)内的吹扫气体的通断。

8.根据权利要求7所述膜层沉积腔室，其特征在于，所述阀门为电磁阀(8)，所述电磁阀(8)通过电信号与控制器连接，所述电磁阀(8)用于控制通过所述管道(7)进入所述壳体(1)内的吹扫气体的通断。

9.根据权利要求1-3中任一项所述膜层沉积腔室，其特征在于，所述观察窗(3)上的透明片(11)相对于所述壳体(1)的外表面为倾斜设置或平行设置。

10.一种磁控溅射设备，其特征在于，包括权利要求1-9中任一项所述的膜层沉积腔室。

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