CN213106328U - 一种测量打磨抛光轮半径动态变化装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种测量打磨抛光轮半径动态变化装置，包括从动辊、位移检测结构、驱动件，从动辊与驱动件固定连接，驱动件与位移检测结构固定连接，使位移检测结构的检测端随驱动件运动而运动。该测量打磨抛光轮半径动态变化装置与打磨抛光装置结合能调整控制打磨抛光轮与打磨抛光产品的打磨抛光深度，使打磨抛光轮与打磨抛光产品始终保持适当相对位置，得到品质稳定的打磨抛光产品，在保证打磨抛光质量的前提下提高打磨抛光效率；该测量打磨抛光轮半径动态变化装置结构简单、整体体积小，便于生产安装。

Description

一种测量打磨抛光轮半径动态变化装置

技术领域

本实用新型属于打磨抛光装置技术领域，特别涉及一种测量打磨抛光轮半径动态变化装置。

背景技术

打磨抛光轮代替人工进行打磨抛光作业，主要用于工件的表面打磨抛光、抛光，广泛应用于汽车行业、卫浴五金行业等行业。在使用机器进行自动打磨抛光的过程中，机器控制打磨抛光轮与待打磨抛光产品保持在适当的相对位置，使打磨抛光轮能对待打磨抛光产品实现预定精度打磨抛光。但长期打磨抛光后，打磨抛光轮由于长期打磨抛光会出现磨损，打磨抛光轮半径发生变化。磨损后的打磨抛光轮的边界与待打磨抛光产品相对位置出现变化，不能对产品进行预定程度的打磨抛光，影响打磨抛光产品品质。因此，亟需本领域技术人员解决这一问题，即如何使打磨抛光轮在长期打磨抛光过程中避免磨损带来的影响而始终保持稳定的打磨抛光品质。

发明内容

为解决上述问题，本实用新型的目的在于提供一种能实时测量打磨抛光轮半径变化量的测量打磨抛光轮半径动态变化装置。

本实用新型的另一个目的在于提供一种结构简单、易于生产安装的测量打磨抛光轮半径动态变化装置。

为实现上述目的，本实用新型的技术方案如下：

本实用新型提供一种测量打磨抛光轮半径动态变化装置，包括从动辊、位移检测结构、驱动件，从动辊与驱动件固定连接，驱动件与位移检测结构固定连接，使位移检测结构的检测端随驱动件运动而运动。测量打磨抛光轮半径动态变化装置需要与打磨抛光装置配合工作，当测量打磨抛光轮半径动态变化装置工作时，从动辊与打磨抛光轮始终保持齿合状态。打磨抛光轮工作一段时间半径发生变化时，驱动件带动从动辊移动相应的变化量从而使从动辊保持与打磨抛光轮的齿合状态。此时位移检测结构测出变化量的数值，位移检测结构可将该变化量发送给打磨抛光装置，打磨抛光装置根据变化量调整打磨抛光产品的位置，从而使打磨抛光轮与打磨抛光产品始终保持适当相对位置，保障打磨抛光路径连续平滑。该测量打磨抛光轮半径动态变化装置与打磨抛光装置结合能调整控制打磨抛光轮与打磨抛光产品的打磨抛光深度，使打磨抛光轮与打磨抛光产品始终保持适当相对位置，得到品质稳定的打磨抛光产品，在保证打磨抛光质量的前提下提高打磨抛光效率。该测量打磨抛光轮半径动态变化装置结构简单、整体体积小，便于生产安装。

进一步地，位移检测结构为拉杆式位移传感器，驱动件为气缸。如此设置使该测量打磨抛光轮半径动态变化装置结构简单、整体体积小，便于生产安装。

进一步地，还包括连接部，位移检测结构的检测端、驱动件的驱动端均与连接部固定连接，从动辊固定设置在连接部上。当打磨抛光轮半径发生变化时，驱动件驱动连接部移动，连接部带动位移检测结构的检测端同步移动，连接部带动从动辊移动相应的变化量从而使从动辊保持与打磨抛光轮的齿合状态。此时位移检测结构测出移动变化量的数值。设置连接部使检测数据更精准。

进一步地，还包括底板，连接部与底板滑动连接，位移检测结构、驱动件固定设置在底板上。当该测量打磨抛光轮半径动态变化装置与打磨抛光装置配合工作时，只需将底板安装在打磨抛光装置相应位置即可，底板使该测量打磨抛光轮半径动态变化装置结构稳定，便于安装。

进一步地，底板前部固定设置有导轨，连接部底端固定设置有滑块，滑块滑动连接在导轨上。设置导轨与滑块保证连接块、从动辊在驱动件的驱动下沿预定直线轨道移动，保障位移检测结构检测到的位移量准确代表打磨抛光轮半径的变化量。

进一步地，还包括防尘罩，防尘罩罩在导轨上。防尘罩罩住导轨暴露部位，防止积尘影响滑动。

进一步地，防尘罩具有弹性，防尘罩包括前端防尘罩和后端防尘罩；前端防尘罩一端与底板前端固定连接且罩住导轨前端，前端防尘罩另一端活动套接在导轨上；后端防尘罩一端与底板固定连接且罩住导轨后端，后端防尘罩另一端与滑块固定连接。当滑块在导轨上滑动，防尘罩可在导轨上压缩或伸展，防尘罩能将导轨暴露在外的部位尽可能罩住，避免积尘影响滑动。

本实用新型的优势在于：相比于现有技术，在本实用新型当中，该测量打磨抛光轮半径动态变化装置与打磨抛光装置结合能调整控制打磨抛光轮与打磨抛光产品的打磨抛光深度，使打磨抛光轮与打磨抛光产品始终保持适当相对位置，得到品质稳定的打磨抛光产品，在保证打磨抛光质量的前提下提高打磨抛光效率。该测量打磨抛光轮半径动态变化装置结构简单，体积较小，易于生产安装。

附图说明

图1是本实用新型第一视角结构示意图。

图2是本实用新型第二视角结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

为实现上述目的，本实用新型的技术方案如下：

参见图1-2所示，本实用新型提供一种测量打磨抛光轮半径动态变化装置，包括从动辊1、拉杆式位移传感器2、气缸3、底板4、连接部5、导轨6、滑块7、防尘罩8。

从动辊1固定设置在连接部5上，连接部5底端固定设置滑块7，滑块7滑动连接在导轨6上，导轨6固定设置在底板4前部。拉杆式位移传感器2的检测端、气缸3的驱动端均与连接部5固定连接，拉杆式位移传感器2、气缸3均固定设置在底板4上。测量打磨抛光轮半径动态变化装置需要与打磨抛光装置配合工作，当测量打磨抛光轮半径动态变化装置工作时，从动辊1与打磨抛光轮始终保持齿合状态。打磨抛光轮工作一段时间半径发生变化时，气缸3带动连接部5在导轨6上移动，连接部5带动拉杆式位移传感器2的检测端同步移动，连接部5带动从动辊1移动相应的变化量从而使从动辊1保持与打磨抛光轮的齿合状态。此时拉杆式位移传感器2测出连接部5在导轨6上的位移数值并将该数值发送给打磨抛光装置，打磨抛光装置根据该数值调整打磨抛光产品的位置，从而使打磨抛光轮与打磨抛光产品始终保持适当相对位置，保障打磨抛光路径连续平滑。该测量打磨抛光轮半径动态变化装置与打磨抛光装置结合能调整控制打磨抛光轮与打磨抛光产品的打磨抛光深度，使打磨抛光轮与打磨抛光产品始终保持适当相对位置，得到品质稳定的打磨抛光产品，在保证打磨抛光质量的前提下提高打磨抛光效率。

防尘罩8罩在导轨6上，防尘罩8具有弹性，防尘罩8包括前端防尘罩81和后端防尘罩82；前端防尘罩81一端与底板4前端固定连接且罩住导轨6前端，前端防尘罩81另一端活动套接在导轨6上；后端防尘罩82一端与底板4固定连接且罩住导轨6后端，后端防尘罩82另一端与滑块7固定连接。当滑块7在导轨6上滑动，防尘罩8可在导轨6上压缩或伸展，防尘罩8能将导轨6暴露在外的部位尽可能罩住，避免积尘影响滑动。

以上仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种测量打磨抛光轮半径动态变化装置，其特征在于：包括从动辊、位移检测结构、驱动件，从动辊与驱动件固定连接，驱动件与位移检测结构固定连接，使位移检测结构的检测端随驱动件运动而运动。

2.如权利要求1所述的测量打磨抛光轮半径动态变化装置，其特征在于：位移检测结构为拉杆式位移传感器，驱动件为气缸。

3.如权利要求1所述的测量打磨抛光轮半径动态变化装置，其特征在于：还包括连接部，位移检测结构的检测端、驱动件的驱动端均与连接部固定连接，从动辊固定设置在连接部上。

4.如权利要求3所述的测量打磨抛光轮半径动态变化装置，其特征在于：还包括底板，连接部与底板滑动连接，位移检测结构、驱动件固定设置在底板上。

5.如权利要求4所述的测量打磨抛光轮半径动态变化装置，其特征在于：底板前部固定设置有导轨，连接部底端固定设置有滑块，滑块滑动连接在导轨上。

6.如权利要求5所述的测量打磨抛光轮半径动态变化装置，其特征在于：还包括防尘罩，防尘罩罩在导轨上。

7.如权利要求6所述的测量打磨抛光轮半径动态变化装置，其特征在于：防尘罩具有弹性，防尘罩包括前端防尘罩和后端防尘罩；前端防尘罩一端与底板前端固定连接且罩住导轨前端，前端防尘罩另一端活动套接在导轨上；后端防尘罩一端与底板固定连接且罩住导轨后端，后端防尘罩另一端与滑块固定连接。

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