CN212790950U - 一种末端含j烯基团的系列液晶单体合成用反应釜 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种末端含J烯基团的系列液晶单体合成用反应釜,包括釜体,所述釜体的内部设置有内腔,且内腔的上部左右侧均贯穿连接有下料管,并且内腔的顶部中侧贯穿连接有搅拌杆,所述下料管的上端固定安装有入料管,且下料管的上部贯穿连接有衔接块,所述衔接块的内部连接有调节杆,且调节杆的内侧固定安装有塞块,所述釜体的上侧壁固定安装有电机,所述搅拌杆的下端固定连接有承接杆,所述内腔的底部贯穿连接有出料管,所述釜体的下方放置有收集箱,所述收集箱的内部安装有滤网,所述收集箱的内壁设置有调节槽。该末端含J烯基团的系列液晶单体合成用反应釜,方便调节原料的比例,方便排出混合后的液晶,在使用时方便收集成品。

Description

一种末端含J烯基团的系列液晶单体合成用反应釜
技术领域
本实用新型涉及反应釜相关技术领域,具体为一种末端含J烯基团的系列液晶单体合成用反应釜。
背景技术
反应釜的广义理解即有物理或化学反应的不锈钢容器,根据不同的工艺条件需求进行容器的结构设计与参数配置,设计条件、过程、检验及制造、验收需依据相关技术标准,以实现工艺要求的混配等反应功能。
一般的反应釜,不方便调节原料的比例,以及不方便排出混合后的液晶,在使用时不方便收集成品,因此,我们提供一种末端含J烯基团的系列液晶单体合成用反应釜,以便于解决上述中提出的问题。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种末端含J烯基团的系列液晶单体合成用反应釜,以解决上述背景技术中提出的一般的反应釜,不方便调节原料的比例,以及不方便排出混合后的液晶,在使用时不方便收集成品的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种末端含J烯基团的系列液晶单体合成用反应釜,包括釜体,所述釜体的内部设置有内腔,且内腔的上部左右侧均贯穿连接有下料管,并且内腔的顶部中侧贯穿连接有搅拌杆,所述下料管的上端固定安装有入料管,且下料管的上部贯穿连接有衔接块,所述衔接块的内部连接有调节杆,且调节杆的内侧固定安装有塞块,所述釜体的上侧壁固定安装有电机,且电机的输出端连接有搅拌杆的上端,所述搅拌杆的下端固定连接有承接杆,且承接杆的下端固定安装有搅拌叶,所述内腔的底部贯穿连接有出料管,所述釜体的下方放置有收集箱,且出料管的下端贯穿连接在收集箱的上部,所述收集箱的内部安装有滤网,且滤网的左右两侧均固定连接有调节块,所述收集箱的内壁设置有调节槽,且调节块连接在调节槽的内部。
优选的,所述内腔的底部和搅拌叶均呈倾斜设置,且搅拌叶贴合连接在内腔底部的内壁。
优选的,所述衔接块和调节杆采用螺纹的方式相连接,且衔接块关于下料管中心左右对称设置。
优选的,所述塞块卡合连接在衔接块的内部,且调节杆与塞块构成转动结构。
优选的,所述塞块的上部呈倾斜设置,且塞块的底部横截面面积尺寸大于下料管的横截面面积尺寸的二分之一。
优选的,所述滤网通过调节块在调节槽内构成滑动结构,且调节块的形状呈“T”字形结构。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该末端含J烯基团的系列液晶单体合成用反应釜,方便调节原料的比例,方便排出混合后的液晶,在使用时方便收集成品;
1、设有内腔和搅拌叶,内腔的底部和搅拌叶均呈倾斜设置,方便原料聚集,搅拌叶贴合连接在内腔底部的内壁,通过搅拌叶方便搅拌原料并将混合后的液晶排出;
2、设有衔接块和塞块,衔接块和调节杆采用螺纹的方式相连接,衔接块关于下料管中心左右对称设置,调整塞块的位置从而控制原料的下落量来调节比例,塞块的底部横截面面积尺寸大于下料管的横截面面积尺寸的二分之一,在该装置工作时能够堵住下料管,防止蒸汽上流;
3、设有滤网和调节块,滤网通过调节块在调节槽内构成滑动结构,调节块的形状呈“T”字形结构,防止滤网在滑动的时候脱落,方便收集成品。
附图说明
图1为本实用新型正视剖面结构示意图;
图2为本实用新型釜体和搅拌杆连接俯视结构示意图;
图3为本实用新型图1中A处放大结构示意图;
图4为本实用新型调节杆和塞块连接俯视剖面结构示意图;
图5为本实用新型图1中B处放大结构示意图。
图中:1、釜体;2、内腔;3、下料管;4、衔接块;5、调节杆;6、塞块;7、搅拌杆;8、电机;9、承接杆;10、搅拌叶;11、出料管;12、收集箱;13、滤网;14、调节块;15、调节槽;16、入料管。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-5,本实用新型提供一种技术方案:一种末端含J烯基团的系列液晶单体合成用反应釜,包括釜体1、内腔2、下料管3、衔接块4、调节杆5、塞块6、搅拌杆7、电机8、承接杆9、搅拌叶10、出料管11、收集箱12、滤网13、调节块14、调节槽15和入料管16,釜体1的内部设置有内腔2,且内腔2的上部左右侧均贯穿连接有下料管3,并且内腔2的顶部中侧贯穿连接有搅拌杆7,下料管3的上端固定安装有入料管16,且下料管3的上部贯穿连接有衔接块4,衔接块4的内部连接有调节杆5,且调节杆5的内侧固定安装有塞块6,釜体1的上侧壁固定安装有电机8,且电机8的输出端连接有搅拌杆7的上端,搅拌杆7的下端固定连接有承接杆9,且承接杆9的下端固定安装有搅拌叶10,内腔2的底部贯穿连接有出料管11,釜体1的下方放置有收集箱12,且出料管11的下端贯穿连接在收集箱12的上部,收集箱12的内部安装有滤网13,且滤网13的左右两侧均固定连接有调节块14,收集箱12的内壁设置有调节槽15,且调节块14连接在调节槽15的内部。
如图1中内腔2的底部和搅拌叶10均呈倾斜设置,且搅拌叶10贴合连接在内腔2底部的内壁,方便原料聚集,通过搅拌叶10方便搅拌原料并将混合后的液晶排出。
如图3和图4中衔接块4和调节杆5采用螺纹的方式相连接,且衔接块4关于下料管3中心左右对称设置,调整塞块6的位置从而控制原料的下落量来调节比例。
如图3和图4中塞块6卡合连接在衔接块4的内部,且调节杆5与塞块6构成转动结构,使调节杆5转动时不会带动塞块6转动。
如图3和图4中塞块6的上部呈倾斜设置,且塞块6的底部横截面面积尺寸大于下料管3的横截面面积尺寸的二分之一,在该装置工作时能够堵住下料管3,防止蒸汽上流。
如图1和图5中滤网13通过调节块14在调节槽15内构成滑动结构,且调节块14的形状呈“T”字形结构,防止滤网13在滑动的时候脱落,方便收集成品。
工作原理:在使用该末端含J烯基团的系列液晶单体合成用反应釜时,首先结合图1、图3和图4所示,将原料倒入入料管16内,通过转动调节杆5使塞块6在衔接块4内移动,通过调整塞块6单体之间的空隙来控制原料的下落量,从而调节原料的混合比例,当内腔2的内部进入一定量的原料后,启动该装置,使原料进行合成;
最后再结合图1、图3和图5,转动调节杆5使塞块6的单体之间闭合,从而堵住下料管3,防止蒸气上流,启动电机8带动搅拌杆7转动,搅拌杆7再通过承接杆9带动搅拌叶10进行转动搅拌,当原料合成完毕后,搅拌叶10将混合后的液晶刮入出料管11内,液晶掉落到滤网13上,液晶中的液体将流入收集箱12内,滤网13可滑动取出,方便收集成品,这就是末端含J烯基团的系列液晶单体合成用反应釜使用的整个过程。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.一种末端含J烯基团的系列液晶单体合成用反应釜,包括釜体(1),其特征在于:所述釜体(1)的内部设置有内腔(2),且内腔(2)的上部左右侧均贯穿连接有下料管(3),并且内腔(2)的顶部中侧贯穿连接有搅拌杆(7),所述下料管(3)的上端固定安装有入料管(16),且下料管(3)的上部贯穿连接有衔接块(4),所述衔接块(4)的内部连接有调节杆(5),且调节杆(5)的内侧固定安装有塞块(6),所述釜体(1)的上侧壁固定安装有电机(8),且电机(8)的输出端连接有搅拌杆(7)的上端,所述搅拌杆(7)的下端固定连接有承接杆(9),且承接杆(9)的下端固定安装有搅拌叶(10),所述内腔(2)的底部贯穿连接有出料管(11),所述釜体(1)的下方放置有收集箱(12),且出料管(11)的下端贯穿连接在收集箱(12)的上部,所述收集箱(12)的内部安装有滤网(13),且滤网(13)的左右两侧均固定连接有调节块(14),所述收集箱(12)的内壁设置有调节槽(15),且调节块(14)连接在调节槽(15)的内部。
2.根据权利要求1所述的一种末端含J烯基团的系列液晶单体合成用反应釜,其特征在于:所述内腔(2)的底部和搅拌叶(10)均呈倾斜设置,且搅拌叶(10)贴合连接在内腔(2)底部的内壁。
3.根据权利要求1所述的一种末端含J烯基团的系列液晶单体合成用反应釜,其特征在于:所述衔接块(4)和调节杆(5)采用螺纹的方式相连接,且衔接块(4)关于下料管(3)中心左右对称设置。
4.根据权利要求1所述的一种末端含J烯基团的系列液晶单体合成用反应釜,其特征在于:所述塞块(6)卡合连接在衔接块(4)的内部,且调节杆(5)与塞块(6)构成转动结构。
5.根据权利要求1所述的一种末端含J烯基团的系列液晶单体合成用反应釜,其特征在于:所述塞块(6)的上部呈倾斜设置,且塞块(6)的底部横截面面积尺寸大于下料管(3)的横截面面积尺寸的二分之一。
6.根据权利要求1所述的一种末端含J烯基团的系列液晶单体合成用反应釜,其特征在于:所述滤网(13)通过调节块(14)在调节槽(15)内构成滑动结构,且调节块(14)的形状呈“T”字形结构。
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