CN212713726U - 一种oled蒸镀设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种OLED蒸镀设备，其特征在于：包括蒸镀室，基板布置在所述蒸镀室上方中心位置，所述蒸镀室内设有间隔布置的多个坩埚，所述坩埚可沿边缘向中心基板方向移动。本实用新型OLED蒸镀设备，结构简单，镀膜质量好，可大大提升器件性能，具有较强的实用性和较好的应用前景。
Description
技术领域
本实用新型属于电路板技术领域，更具体地说，涉及一种OLED蒸镀设备。
背景技术
OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示器，也称为有机电致发光显示器，是一种新兴的平板显示装置，具有功耗低、自发光且发光亮度高、工作温度适应范围广、体积轻薄、响应速度快，而且易于实现彩色显示、易于实现和集成电路驱动器相匹配、易于实现柔性显示等优点。其中硅基OLED微显示技术是OLED光电子技术与硅基集成电路微电子技术的结合，主要应用在微显示领域。是利用成熟的CMOS集成电路工艺，芯片制作完好后，再进行OLED器件的制作，从而提高了整个显示器的良率。OLED微显示器体积小，非常便于携带，并且其凭借小体积提供的近眼显示效果较为理想，伴随虚拟现实的快速发展需求，OLED微显示器将呈现快速发展趋势。
OLED的发光机理，目前普遍公认的是能带理论模型，认为OLED发光属于注入式发光，即由阳极注入的空穴和阴极注入的电子,在发光层复合后产生激子,激子自身通过光辐射形式释放光子回到基态,或将能量传递给发光层分子,激发发光材料的电子从基态跃迁至激发态,然后以光辐射跃迁形式返回基态。而其中的这层发光材料是通过真空蒸镀的方式镀在基板上面，可见，薄膜质量影响着屏幕显示质量。而薄膜质量与OLED的蒸镀工艺有很大的关系，由于现有在OLED蒸镀工艺尤其在半导体显示应用中的镀源一般采用点源，根据分子自由运动理论，点源蒸发出的材料为分散性排布，因为基板为平面，所以点源所蒸发的材料到基板上沿晶圆直径方向分布不同，造成工件的均匀度不高。尤其在晶圆尺寸较大的状况下，wafer靠近镀源与远离镀源两侧差异较大，对OLED器件性能影响较大。
实用新型内容
本实用新型的目的是解决现有技术存在的问题，提供一种结构简单，镀膜质量好，可大大提升器件性能的OLED蒸镀设备。
为了实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：所提供的这种OLED蒸镀设备，其特征在于：包括蒸镀室，基板布置在所述蒸镀室上方中心位置，所述蒸镀室内设有间隔布置的多个坩埚，所述坩埚可沿边缘向中心基板方向移动。
为使上述技术方案更加详尽和具体，本实用新型还提供以下更进一步的优选技术方案，以获得满意的实用效果：
所述蒸镀室底板上设有支撑座，所述坩埚沿所述支撑座边沿均匀间隔布置。
所述支撑座上设有分别与每个所述坩埚对应的导槽，所述导槽由所述支撑座的边沿向所述支撑座中部延伸。
所述坩埚由所述驱动缸连接驱动其沿所述导槽移动。
所述驱动缸布置在所述支撑座下方靠近中部位置，每个所述坩埚对应一个所述驱动缸。
所述坩埚包括坩埚本体，所述坩埚本体下方设有对应插接在所述导槽内且可沿所述导槽移动的导销。
所述导销下方设有推块，所述驱动缸的伸缩杆端连接在所述推块上。
所述基板通过电机及旋转轴可转动的连接在所述蒸镀室上方顶板上。
本实用新型与现有技术相比，具有以下优点：本实用新型OLED蒸镀设备，结构简单，镀膜质量好，可大大提升器件性能，具有较强的实用性和较好的应用前景。
附图说明
下面对本说明书的附图所表达的内容及图中的标记作简要说明：
图1为本实用新型OLED蒸镀设备第一种实施例结构示意图；
图2为本实用新型OLED蒸镀设备第二种实施例结构示意图；
图3为本实用新型OLED蒸镀设备结构示意图。
图中标记为：1、蒸镀室，11、顶板，12、底板，2、旋转轴，3、基板，4、坩埚，41、坩埚本体，42、导销，43、推块，5、支撑座，6、导槽，7、驱动缸。
具体实施方式
下面对照附图，通过对实施例的描述，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细的说明。
本实用新型这种OLED蒸镀设备，如图1、2、3中所示，包括蒸镀室1，基板3布置在蒸镀室1上方中心位置，蒸镀室1内设有间隔布置的多个坩埚4，坩埚4可沿边缘向中心基板3方向移动。
本实用新型中，在蒸镀室底板12上设有支撑座5，坩埚4沿支撑座5边沿均匀间隔布置。蒸镀设备设有真空蒸镀室1，支撑座5为支撑连接在蒸镀室内壁的圆形板，在支撑座的周向上设有均匀间隔布置的8个，6个或是4个坩埚4。支撑座5上设有分别与每个坩埚4对应的导槽6，导槽6由支撑座5的边沿向支撑座5中部延伸。坩埚4由驱动缸7连接驱动其沿导槽6移动。
本实用新型中，如图3中所示，驱动缸7布置在支撑座5下方靠近中部位置，每个坩埚4对应一个驱动缸7，可分别单独控制各个坩埚4移动，以根据蒸镀需要满足蒸镀需求。
本实用新型中，如图3中所示，坩埚4包括坩埚本体41，坩埚本体41下方设有对应插接在导槽6内且可沿导槽6移动的导销42。导销42下方设有推块43，驱动缸7的伸缩杆端连接在推块43上，通过驱动缸7带动坩埚沿导槽6移动。
本实用新型中，基板3通过电机及旋转轴2可转动的连接在蒸镀室1上方顶板11上。蒸镀过程中基板3转动，配合可移动的坩埚设置，可实现高效蒸镀，还可提升所镀膜膜层的均匀性。
本实用新型这种OLED蒸镀设备，包括真空蒸镀室、安装在真空蒸镀室1顶端的旋转轴2和固定在旋转轴2上的基板3；真空蒸镀室内设置有用于放置镀料的坩埚4，坩埚4位于基片的下方，坩埚4四周存在加热装置，且该加热装置与电源电性连接，镀料放置在利用加热装置产生热可控的坩埚4中，通过启动电源加热坩埚使之产生热能；镀料加热形成镀料蒸汽，镀料蒸汽自由作直线运动，碰撞基片表面而凝结，形成薄膜；本实用新型旋转轴2带动基板3适时旋转，同时相应驱动缸7带动坩埚4沿导槽6进入晶圆正下方进行来回移动使得基板3做自由旋转的同时也相对蒸发源坩埚进行运动，使得基板3上薄膜沉积过程厚度更为均匀，同时可以提高所制作器件的性能。
本实用新型通过对OLED蒸镀设备中点源下方设置滑槽，在蒸镀过程中可以沿晶圆直径方向来回运动，从而提升所镀膜膜层的均匀性，同时提高器件性能。
蒸镀机构包括旋转轴2和固定在旋转轴2上的基板3，基板3圆直径为r寸。坩埚4可以沿导槽6进行滑动。蒸镀作业过程中，坩埚4沿导槽6在基板正下方移动，且移动速率
(υ0为坩埚位于基板正下方位置时移动速度，r为坩埚所在位置距离晶圆圆心正下方位置之间的距离)。不同方向的坩埚均可以在wafer正下方进行移动。
为验证本实施例OLED蒸镀装置的效果，做如下实验，OLED器件结构：ITO/HIL/HTL/EML/ETL/EIL/Al,其中有机层厚度在线量测，OLED器件性能在器件完成后量测，各测量结果如下表所示。其中实验过程中有机层蒸镀速率为1A/s总厚度为220nm，坩埚位于晶圆正下方时的移动速率为20cm/s。
本实用新型采用蒸镀点源移动的方式使得所蒸镀的膜层更加均匀，同时制作出来的器件性能更加优越。
本实用新型OLED蒸镀设备，结构简单，镀膜质量好，可大大提升器件性能，具有较强的实用性和较好的应用前景。
上面结合附图对本实用新型进行了示例性描述，但是本实用新型并不受限于上述方式，只要采用本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进或直接应用于其它场合的，均落在本实用新型的保护范围内。
Claims (8)
1.一种OLED蒸镀设备，其特征在于：包括蒸镀室，基板布置在所述蒸镀室上方中心位置，所述蒸镀室内设有间隔布置的多个坩埚，所述坩埚可沿边缘向中心基板方向移动。
2.按照权利要求1所述的OLED蒸镀设备，其特征在于：所述蒸镀室底板上设有支撑座，所述坩埚沿所述支撑座边沿均匀间隔布置。
3.按照权利要求2所述的OLED蒸镀设备，其特征在于：所述支撑座上设有分别与每个所述坩埚对应的导槽，所述导槽由所述支撑座的边沿向所述支撑座中部延伸。
4.按照权利要求3所述的OLED蒸镀设备，其特征在于：所述坩埚由驱动缸连接驱动其沿所述导槽移动。
5.按照权利要求4所述的OLED蒸镀设备，其特征在于：所述驱动缸布置在所述支撑座下方靠近中部位置，每个所述坩埚对应一个所述驱动缸。
6.按照权利要求5所述的OLED蒸镀设备，其特征在于：所述坩埚包括坩埚本体，所述坩埚本体下方设有对应插接在所述导槽内且可沿所述导槽移动的导销。
7.按照权利要求6所述的OLED蒸镀设备，其特征在于：所述导销下方设有推块，所述驱动缸的伸缩杆端连接在所述推块上。
8.按照权利要求1至7任一项所述的OLED蒸镀设备，其特征在于：所述基板通过电机及旋转轴可转动的连接在所述蒸镀室上方顶板上。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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Family
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Family Applications (1)
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Country Status (1)
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|---|---|
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2020
- 2020-06-05 CN CN202021017858.6U patent/CN212713726U/zh active Active
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