CN212698529U - 一种涮烤一体锅 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及锅具领域，公开一种涮烤一体锅，包括加热底座和放置在加热底座上的锅体，锅体包括位于中央的涮锅以及自涮锅外环壁一体向外延伸的环状烤盘，环状烤盘的外边缘延伸出加热底座且向下凹陷有集液槽，该涮烤一体锅首先能够避免滚烫的汁液流到加热底座的外壁或桌面造成脏污或灼蚀；其次，由于集液槽延伸出加热底座，故，待锅体冷却后，直接托举集液槽就能快速取出锅体，十分便捷。

Description

一种涮烤一体锅

技术领域

本实用新型涉及锅具领域，尤其涉及一种涮烤一体锅。

背景技术

在市面上有许多的火锅店、烤肉店或者集烤肉和火锅于一体的自助餐等，从中也可以看出当今社会中，人们对这两种饮食方式的喜爱。

基于人们的喜爱，在电控盘、电火锅之后市场上出现了许多种类的电涮烤一体锅，如名字所示，电涮烤一体锅同时兼备了烤盘和火锅，存在以下两种使用较为广泛的设置，一种设置为，包括加热底座、并排位于加热上的烤盘和火锅；另一种设置为，火锅位于中心，卡盘一体设置于火锅外呈环状设置，其中，第二种形式由于人们使用便捷，应用较为广泛。

公告号为CN305134650S的中国专利公开涮烤一体锅的外观，就是参照第二种设置，人们可以外绕在这种涮烤一体锅周围，并在自身前的那片烤盘的区域进行烤肉或涮肉，十分便捷。但是，由于烤盘水平设置且火锅位于中心，存在以下不足：将食材自火锅内取出时，会有汤汁滴落到烤盘上，汤汁会沿着烤盘自加热底座的边缘滴落至桌面上，造成加热底盘以及桌面的脏污；其次，肉类中含有大量的油脂，过多的油脂加热后会沿着加热底座滴落到桌面上，油温较高容易灼伤桌面或者加热底座外壁上。

实用新型内容

本实用新型针对现有技术汤汁或油脂会自烤盘的边缘滴落至加热底座外壁以及桌面，造成加热底座和桌面的脏污的缺点，提供了一种涮烤一体锅，能够自动收集落入到烤盘上的汤汁和油脂，从而保持加热底座和桌面的整洁。

为了解决上述技术问题，本实用新型通过下述技术方案得以解决：

一种涮烤一体锅，包括加热底座和放置在加热底座上的锅体，锅体包括位于中央的涮锅以及自涮锅外环壁一体向外延伸的环状烤盘，环状烤盘的外边缘延伸出加热底座且向下凹陷有集液槽。

采用上述方案，在环状烤盘外延伸设置有环状的集液槽，这样，环状烤盘上无论是过多的油脂还是自涮锅上滴落的汤汁均会沿着环状烤盘最终留置集液槽内进行收集，首先，能够避免滚烫的汁液流到加热底座的外壁或桌面造成脏污或灼蚀；其次，由于集液槽延伸出加热底座，故，待锅体冷却后，直接托举集液槽就能快速取出锅体，十分便捷。

作为优选，环状烤盘的上端面自内环向外环呈逐渐向下倾斜的斜面。

采用上述方案，斜面的设置能够驱使过多的汤汁或油脂自动向集液槽流去。

作为优选，集液槽的截面形状为“U”形或梯形。

采用上述方案，“U”形或梯形的集液槽均能够保持充足的容积且便于清洗。

作为优选，集液槽底部设置有排液孔，排液孔上设置有可打开或者封闭排液孔的弹性封堵。

采用上述方案，排液孔和弹性封堵的设置，当集液槽内液体过多时，只需拔出弹性封堵就能够快速将集液槽内的液体排出。

作为优选，加热底座上凹陷有容置涮锅的凹槽，锅体放置于凹槽上。

采用上述方案，涮锅下端突出于环状烤盘设置，故，凹槽能够起到限位锅体的作用。

作为优选，锅体与凹槽之间设置有避免锅体转动的定位机构，定位机构包括环状烤盘下端向下延伸的定位块以及加热底座上凹陷的与定位块插接配合的定位槽。

采用上述方案，通过定位机构能够避免锅体发生偏转。

作为优选，涮锅内部设置有若干隔板将涮锅分为若干口味区。

本实用新型由于采用了以上技术方案，具有以下技术效果：在环状烤盘外延伸设置有环状的集液槽，这样，环状烤盘上无论是过多的油脂还是自涮锅上滴落的汤汁均会沿着环状烤盘最终流至集液槽内进行收集；环状烤盘上斜面的设置能够驱使过多的汤汁或油脂自动向集液槽流去；集液槽底部排液孔和弹性封堵的设置，当集液槽内液体过多时，只需拔出弹性封堵就能够快速将集液槽内的液体排出，该涮烤一体锅首先能够避免滚烫的汁液流到加热底座的外壁或桌面造成脏污或灼蚀；其次，由于集液槽延伸出加热底座，故，待锅体冷却后，直接托举集液槽就能快速取出锅体，十分便捷。

附图说明

图1是本实用新型中一种涮烤一体锅的主视图；

图2是本实用新型中一种涮烤一体锅的拆分图；

图3是本实用新型中锅体的俯视图；

图4是图3的A-A剖视图。

以上附图中各数字标号所指代的部位名称如下：1、加热底座；11、抓耳；12、第一加热部；13、第二加热部；2、锅体；21、环状烤盘；211、斜面；22、涮锅；3、集液槽；31、弹性封堵；4、隔板；5、盖子；6、定位块。

具体实施方式

下面结合附图与实施例对本实用新型作进一步详细描述。

实施例

一种涮烤一体锅，参照图1-图4所示，包括加热底座1和放置在加热底座1上的锅体2，锅体2包括位于中央的涮锅22以及自涮锅22外环壁一体向外延伸的环状烤盘21，加热底座1上凹陷有可容置涮锅22的凹槽，在凹槽底部设置有加热涮锅22的第一加热部12，在加热底座1上端设置有加热环状烤盘21的第二加热部13，涮烤一体锅的第一加热部12和第二加热部13的温控调节属于现有技术，在此不再赘述。整个锅体2放置在加热底座1上，当锅体2放置后，涮锅22底部处于第一加热部12上端，环状烤盘21处于第二加热部13，锅体2直接放置便于快速取下进行清洗。

为了避免在使用过程中，锅体2相对加热底座1进行转动，锅体2与凹槽之间设置有避免锅体2转动的定位机构，定位机构包括环状烤盘21下端向下延伸的定位块6以及加热底座1上凹陷的与定位块6插接配合的定位槽。

本方案中，参照图2和图4所示，环状烤盘21的外边缘延伸出加热底座1且向下凹陷有集液槽3，集液槽3的截面形状为“U”形或梯形。集液槽3底部设置有排液孔，排液孔上设置有可打开或者封闭排液孔的弹性封堵31，弹性封堵31有橡胶制成，弹性封堵31呈“T”型设置，集液槽3在具备收集液体的同时，由于其延伸出加热底座1，方便使用者向上托举将整个锅体2取出，当集液槽3内液体过多时，只需拔出弹性封堵31将集液槽3内的液体排出即可。

环状烤盘21的上端面自内环向外环呈逐渐向下倾斜的斜面211，斜面211的倾斜角度范围为2°- 5°，当过多的汤汁或油脂等液体落入到环状烤盘21上后，会沿着斜面211向下流动直至过多的液体留到集液槽3内，故，在整个使用过程中，汤汁或者大量的油脂均不会残留在环状烤盘21上，保持环状烤盘21的整洁。

在加热底座1的两侧设置有便于端握的抓耳11，涮锅22上端设置有盖子5，涮锅22内部设置有若干隔板4将涮锅22分为若干口味区。

使用本方案的涮烤一体锅，锅体2直接放置在加热底座1上进行电加热，通过定位机构限位锅体2的转动，并利用集液槽3收集环状烤盘21上的油脂或汤汁，从而保持滚烫的汁液不会滴落到桌面或者加热底座1外壁上造成灼蚀及脏污。

Claims (7)

1.一种涮烤一体锅，包括加热底座(1)和放置在加热底座(1)上的锅体(2)，锅体(2)包括位于中央的涮锅(22)以及自涮锅(22)外环壁一体向外延伸的环状烤盘(21)，其特征在于：环状烤盘(21)的外边缘延伸出加热底座(1)且向下凹陷有集液槽(3)。

2.根据权利要求1所述的一种涮烤一体锅，其特征在于：环状烤盘(21)的上端面自内环向外环呈逐渐向下倾斜的斜面(211)。

3.根据权利要求1所述的一种涮烤一体锅，其特征在于：集液槽(3)的截面形状为“U”形或梯形。

4.根据权利要求1所述的一种涮烤一体锅，其特征在于：集液槽(3)底部设置有排液孔，排液孔上设置有可打开或者封闭排液孔的弹性封堵(31)。

5.根据权利要求1所述的一种涮烤一体锅，其特征在于：加热底座(1)上凹陷有容置涮锅(22)的凹槽，锅体(2)放置于凹槽上。

6.根据权利要求5所述的一种涮烤一体锅，其特征在于：锅体(2)与凹槽之间设置有避免锅体(2)转动的定位机构，定位机构包括环状烤盘(21)下端向下延伸的定位块(6)以及加热底座(1)上凹陷的与定位块(6)插接配合的定位槽。

7.根据权利要求6所述的一种涮烤一体锅，其特征在于：涮锅(22)内部设置有若干隔板(4)将涮锅(22)分为若干口味区。

Images