CN212578100U - 固定装置 - Google Patents
固定装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN212578100U CN212578100U CN202021233767.6U CN202021233767U CN212578100U CN 212578100 U CN212578100 U CN 212578100U CN 202021233767 U CN202021233767 U CN 202021233767U CN 212578100 U CN212578100 U CN 212578100U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- gas channel
- filling body
- base
- porous filling
- porous
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims abstract description 5
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 10
- 238000012856 packing Methods 0.000 claims description 7
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 5
- 229910001080 W alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
本申请实施例提供一种固定装置,该固定装置包括:基座、多孔填充体和真空模组;基座设置有凹槽,多孔填充体固定于凹槽处;基座的底部设置有主气体通道;多孔填充体内部设置有至少一个微气体通道,至少一个微气体通道与主气体通道连通;真空模组与基座的主气体通道连通,真空模组用于抽出气体,使得多孔填充体的内部形成负压。因为多孔填充体材质组织致密,弹性模量高,可以在待加工零件吸附其上时,受力更加均匀。
Description
技术领域
本申请实施例涉及机械工装技术领域,尤其涉及一种固定装置。
背景技术
在对片状、板状零件进行加工时,需要对待加工零件进行固定。相关技术中,利用气压将待加工零件吸附在真空吸盘上,对待加工零件进行加工,例如,光栅叶片通常是薄片状,将光栅叶片放置在真空吸盘上,然后通过抽气孔将空气吸出,使得光栅叶片吸附在真空吸盘上。但是,这种真空吸盘因为设置有多个气孔,采用矩阵类或沟槽类的吸附面,待加工零件吸附其上时,真空吸盘表面受力不均,易发生形变,影响吸附效果。
实用新型内容
有鉴于此,本申请实施例所解决的技术问题之一在于提供一种固定装置,用以克服现有技术中存在的部分或者全部缺陷。
本申请实施例的第一方面,提供一种固定装置,包括:基座、多孔填充体和真空模组;
基座设置有凹槽,多孔填充体固定于凹槽处;基座的底部设置有主气体通道;
多孔填充体内部设置有至少一个微气体通道,至少一个微气体通道与主气体通道连通;
真空模组与基座的主气体通道连通,真空模组用于抽出气体,使得多孔填充体的内部形成负压。
在本申请一具体实现中,多孔填充体内部的至少一个微气体通道不规则分布。
在本申请一具体实现中,微气体通道的直径大于等于0.1毫米,且小于等于0.3毫米。
在本申请一具体实现中,多孔填充体材质组织致密,弹性模量高。
在本申请一具体实现中,真空模组包括抽气管和真空压力泵;抽气管与真空压力泵连接,抽气管与主气体通道连通。
在本申请一具体实现中,基座内部还设置有至少一个支路气体通道;主气体通道通过支路气体通道与至少一个微气体通道连通。
在本申请一具体实现中,固定装置还包括真空压力开关;真空压力开关设置于主气体通道中,真空压力开关用于检测负压值。
本申请实施例的第二方面,提供一种固定装置,包括:基座和多孔填充体;
基座设置有凹槽,多孔填充体固定于凹槽处;基座的底部设置有主气体通道;
多孔填充体内部设置有至少一个微气体通道,至少一个微气体通道与主气体通道连通。
由以上技术方案可见,本申请实施例中固定装置包括基座和多孔填充体和真空模组;基座设置有凹槽,多孔填充体固定于凹槽处;基座的底部设置有主气体通道;多孔填充体内部设置有至少一个微气体通道,至少一个微气体通道与主气体通道连通;真空模组与基座的主气体通道连通,真空模组用于抽出气体,使得多孔填充体的内部形成负压。因为多孔填充体材质组织致密,弹性模量高,可以抽出气体,在内部形成负压,使得待加工零件吸附其上时,受力更加均匀。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请实施例中记载的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例一提供的一种固定装置的结构图;
图2为本申请实施例一提供的一种固定装置的结构图;
图3为本申请实施例一提供的一种固定装置的结构图;
图4为本申请实施例一提供的一种气体流向示意图;
图5为本申请实施例二提供的一种固定装置的结构图。
具体实施方式
为了使本领域的人员更好地理解本申请实施例中的技术方案,下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本申请实施例一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请实施例中的实施例,本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例,都应当属于本申请实施例保护的范围。
实施例一
本申请实施例提供一种固定装置,如图1所示,图1为本申请实施例一提供的一种固定装置的结构图,该固定装置10包括:基座101、多孔填充体102和真空模组103;
基座101设置有凹槽,多孔填充体102固定于凹槽处;基座101的底部设置有主气体通道1011;多孔填充体102内部设置有至少一个微气体通道,至少一个微气体通道与主气体通道1011连通;真空模组103与基座101的主气体通道1011连通,真空模组103用于抽出气体,使得多孔填充体102的内部形成负压。
在多孔填充体102上方放置薄壁型待加工件时,待加工件与多孔填充体102上表面贴合,因为多孔填充体102中的微气体通道与基座101底部的主气体通道1011连通,在利用真空模组103抽出气体时,使得多孔填充体102与待加工件构成的空间内形成负压,使得待加工件在外部气压的作用下紧密贴合在多孔填充体102上,起到固定作用。因为多孔填充体102内的微气体通道分布密集,使得待加工件受力更均匀。
此处,列举三个具体的实现方式对多孔填充体102的结构进行详细说明,此处只是示例性说明,并不代表本申请局限于此。
可选地,在本申请一具体实现中,多孔填充体102材质组织致密,弹性模量高。
可选地,在本申请一具体实现中,多孔填充体102内部的至少一个微气体通道不规则分布。
可选地,在本申请一具体实现中,微气体通道的直径大于等于0.1毫米,且小于等于0.3毫米。
微气体通道可以均匀分布于多孔填充体102内部,因为多孔填充体102材质组织致密,弹性模量高,可承受薄壁件的切削力而不变形。
可选地,如图2所示,图2为本申请实施例一提供的一种固定装置10的结构图,在本申请一具体实现中,基座101内部还设置有至少一个支路气体通道1012;
主气体通道1011通过支路气体通道1012与至少一个微气体通道连通。
可选地,如图3所示,图3为本申请实施例一提供的一种固定装置10的结构图,在本申请一具体实现中,真空模组103包括抽气管1031和真空压力泵1032;抽气管1031与真空压力泵1032连接,抽气管1031与主气体通道1011连通。
在待加工零件放置于固定装置10上时,利用真空压力泵1032将固定装置10内部气体通道中的空气吸出,使得固定装置10内部和外部产生压力差,从而将待加工零件吸附于固定装置10上表面达到固定的目的,然后对待加工零件进行加工。
需要说明的是,抽气管1031与基座101的主气体通道1011联通,并且在抽气管1031与基座101的连接处密封,保证能够抽出气体。该固定装置10还可以包括真空压力开关,真空压力开关设置于主气体通道1011中,真空压力开关用于检测负压值。真空压力开关与真空模组103电连接,利用真空模组103将固定装置10内部的空气向外抽出时,如果真空压力开关检测到气体负压值小于或等于预设阈值时,真空模组103停止继续抽气,或者真空压力开关检测到气体负压值产生波动时,停止继续抽气。当然,此处只是示例性说明,真空压力开关也可以设置在真空模组103的抽气管1031中,或者,真空压力开关设置在基座101的支路气体通道1012中,对此,本申请不作限制,只要能够检测到固定装置10内部的气体压力情况即可。
图4为本申请实施例一提供的一种气体流向示意图,如图4所示,以加工钨合金叶片为例,将钨合金叶片放置在固定装置10的上端面之上,即多孔填充体102上,然后启动真空模组103进行抽气,气流沿图4箭头指向流动,具体的,多孔填充体102中的空气通过微气体通道流入机组内部的支路气体通道1012,进而通过支路气体通道1012流入基座101内部的主气体通道1011,通过主气体通道1011进入真空模组103的抽气管1031中,使得固定装置10内部和外部形成压力差,将钨合金叶片吸附于其上。
由以上技术方案可见,本申请实施例中固定装置包括基座和多孔填充体和真空模组;基座设置有凹槽,多孔填充体固定于凹槽处;基座的底部设置有主气体通道;多孔填充体内部设置有至少一个微气体通道,至少一个微气体通道与主气体通道连通;真空模组与基座的主气体通道连通,真空模组用于抽出气体,使得多孔填充体的内部形成负压。因为多孔填充体材质组织致密,弹性模量高,可以抽出气体,在内部形成负压,使得待加工零件吸附其上时,受力更加均匀。
实施例二
结合上述实施例一所描述的固定装置,本申请实施例二提供一种固定装置,与实施例一所描述的固定装置原理相同,参照图5所示,图5为本申请实施例二提供的一种固定装置的结构图,因为图5所示的固定装置与图1所示的固定装置只是不包含真空模组,其他内部元件与图1所示的固定装置相同,因此对于相同的元件采用相同的附图标记。本申请实施例二提供的固定装置10包括:基座101和多孔填充体102;
基座101设置有凹槽,多孔填充体102固定于凹槽处;基座101的底部设置有主气体通道1011;多孔填充体102内部设置有至少一个微气体通道,至少一个微气体通道与主气体通道1011连通。
在多孔填充体102上方放置薄壁型待加工件时,待加工件与多孔填充体102上表面贴合,因为多孔填充体102中的微气体通道与基座101底部的主气体通道1011连通,在对多孔填充体102与待加工件构成的空间,抽出气体时,使得该空间内形成负压,使得待加工件在外部气压的作用下紧密贴合在多孔填充体102上,起到固定作用。因为多孔填充体102内的微气体通道分布密集,使得待加工件受力更均匀。
需要说明的是,本申请实施例一中的各种解释说明同样适用于本申请实施例二,此处不再赘述。
当然,实施本申请实施例的任一技术方案必不一定需要同时达到以上的所有优点。
在本申请的各种实施方式中所使用的表述“第一”、“第二”、“所述第一”或“所述第二”可修饰各种部件而与顺序和/或重要性无关,但是这些表述不限制相应部件。以上表述仅用于将元件与其它元件区分开的目的。例如,第一用户设备和第二用户设备表示不同的用户设备,虽然两者均是用户设备。例如,在不背离本公开的范围的前提下,第一元件可称作第二元件,类似地,第二元件可称作第一元件。
尽管已描述了本申请实施例的优选实施例,但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念,则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以,所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本申请实施例范围的所有变更和修改。显然,本领域的技术人员可以对本申请实施例进行各种改动和变型而不脱离本申请实施例的精神和范围。这样,倘若本申请实施例的这些修改和变型属于本申请实施例权利要求及其等同技术的范围之内,则本申请实施例也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (8)
1.一种固定装置,其特征在于,包括:基座、多孔填充体和真空模组;
所述基座设置有凹槽,所述多孔填充体固定于所述凹槽处;所述基座的底部设置有主气体通道;
所述多孔填充体内部设置有至少一个微气体通道,所述至少一个微气体通道与所述主气体通道连通;
所述真空模组与所述基座的主气体通道连通,所述真空模组用于抽出气体,使得所述多孔填充体的内部形成负压。
2.根据权利要求1所述的固定装置,其特征在于,所述多孔填充体内部的至少一个微气体通道均匀分布。
3.根据权利要求1所述的固定装置,其特征在于,所述微气体通道的直径大于等于0.1毫米,且小于等于0.3毫米。
4.根据权利要求1所述的固定装置,其特征在于,
所述多孔填充体的材质组织和弹性模量,可使得所述多孔填充体承受薄壁件的切削力而不变形。
5.根据权利要求1所述的固定装置,其特征在于,所述真空模组包括抽气管和真空压力泵;
所述抽气管与所述真空压力泵连接,所述抽气管与所述主气体通道连通。
6.根据权利要求1所述的固定装置,其特征在于,所述基座内部还设置有至少一个支路气体通道;
所述主气体通道通过所述支路气体通道与所述至少一个微气体通道连通。
7.根据权利要求1-6任一项所述的固定装置,其特征在于,所述固定装置还包括真空压力开关;
所述真空压力开关设置于所述主气体通道中,所述真空压力开关用于检测负压值。
8.一种固定装置,其特征在于,包括:基座和多孔填充体;
所述基座设置有凹槽,所述多孔填充体固定于所述凹槽处;所述基座的底部设置有主气体通道;
所述多孔填充体内部设置有至少一个微气体通道,所述至少一个微气体通道与所述主气体通道连通。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202021233767.6U CN212578100U (zh) | 2020-06-29 | 2020-06-29 | 固定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202021233767.6U CN212578100U (zh) | 2020-06-29 | 2020-06-29 | 固定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN212578100U true CN212578100U (zh) | 2021-02-23 |
Family
ID=74653423
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202021233767.6U Expired - Fee Related CN212578100U (zh) | 2020-06-29 | 2020-06-29 | 固定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN212578100U (zh) |
-
2020
- 2020-06-29 CN CN202021233767.6U patent/CN212578100U/zh not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN107350989B (zh) | 一种真空吸附工作台及真空吸附装置 | |
EP1553303A3 (en) | Apparatus for evacuating a plurality of vacuum chambers | |
JP5259615B2 (ja) | 吸込み式漏れ検出器 | |
EP2058843A3 (en) | Multi-port pumping system for substrate processing chambers | |
JPH05223681A (ja) | ヘリウム漏れ検出器 | |
CN212578100U (zh) | 固定装置 | |
CN109520787B (zh) | 一种大气环境检测设备 | |
TW202126446A (zh) | 具有雙層結構的吸盤 | |
CN102607764A (zh) | 一种多点同步测压与取样装置 | |
CN102539514B (zh) | 离子迁移谱仪 | |
KR20120116909A (ko) | 진공 척 | |
HK1067786A1 (en) | Method and device for doping, diffusion and oxidation of silicon wafers under reduced pressure | |
CN109502697A (zh) | 一种血液透析专用纯水设备 | |
CN108857981B (zh) | 产品定位装置及定位方法 | |
CN203738423U (zh) | 悬臂式加工中心的真空吸附装置 | |
CN111162029A (zh) | 一种取晶辅助机构及方法 | |
CN215496666U (zh) | 快换吸盘装置 | |
KR20090102568A (ko) | 세라믹 볼 패널 타입 에어진공척 | |
CN211970996U (zh) | 扩散陶瓷吸盘 | |
CN219131599U (zh) | 小型机加件cnc加工真空回止吸夹具结构 | |
CA2249248A1 (en) | Method and device at the pumping of a medium | |
CN206190471U (zh) | 密封胶生产车间真空泵气压系统 | |
CN217156588U (zh) | 一种芯片检测设备检测盘 | |
CN214795120U (zh) | 一种用于电机故障诊断的漏电检测设备 | |
CN220439586U (zh) | 一种外置微水环境真空吸附控制盒 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20210223 |
|
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |