CN211970996U - 扩散陶瓷吸盘 - Google Patents

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沈威
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Abstract

本实用新型涉及一种真空吸盘设备领域,尤其涉及一种扩散陶瓷吸盘,包括吸盘和固定板,所述吸盘和固定板上都设置有固定孔,所述吸盘通过固定孔固定在固定板上,所述吸盘上设置有吸附腔体,所述吸附腔体上设置有真空孔,所述吸盘底部为凹槽结构,所述凹槽结构包括第一凹槽和第二凹槽,所述第二凹槽位于第一凹槽内,所述第一凹槽上设置有挡板,所述第一凹槽与真空孔相通形成真空管路,所述固定板与吸盘接触的一面上设置有分片管道,通过把吸附真空管路与硅片分离管路集成在一个整体内部,使得硅片的吸附和分离同时进行,达到了提高工作效率的效果。

Description

扩散陶瓷吸盘
技术领域
本实用新型涉及一种真空吸盘设备领域,尤其涉及一种扩散陶瓷吸盘。
背景技术
现有技术中,通过真空发生器产生真空对硅片进行吸附,对硅片的分离采用另一个装置实现,两种技术不能同时进行,浪费人力物力,降低了工作效率。
实用新型内容
本实用新型解决的技术问题是提供一种扩散陶瓷吸盘,吸附真空管路与硅片分离管路集成在一个整体内部,使得硅片的吸附和分离同时进行,达到了提高工作效率的效果。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种扩散陶瓷吸盘,包括吸盘和固定板,所述吸盘和固定板上都设置有固定孔,所述吸盘通过固定孔固定在固定板上,所述吸盘上设置有吸附腔体,所述吸附腔体上设置有真空孔,所述吸盘底部为凹槽结构,所述凹槽结构包括第一凹槽和第二凹槽,所述第二凹槽位于第一凹槽内,所述第一凹槽上设置有挡板,所述第一凹槽与真空孔相通形成真空管路,所述固定板与吸盘接触的一面上设置有分片管道。
进一步的是:所述吸盘远离固定板一端具有硅片导向角。
进一步的是:所述吸盘的材料可为陶瓷或PEEK。
进一步的是:所述吸盘上设置的吸附腔体为多个。
本实用新型的有益效果是:通过把吸附真空管路与硅片分离管路集成在一个整体内部,使得硅片的吸附和分离同时进行,达到了提高工作效率的效果。
附图说明
图1为扩散陶瓷吸盘正式图。
图2为扩散陶瓷吸盘侧视图。
图3为扩散陶瓷吸盘后视图。
图4为扩散陶瓷吸盘俯视图。
图中标记为:吸盘1、第一凹槽11、第二凹槽12、固定板2、分片管道21、固定孔3、吸附腔体4、真空孔5、硅片导向角6。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型进一步说明。
如图1到4所示,一种扩散陶瓷吸盘,包括吸盘1和固定板2,所述吸盘1和固定板2上都设置有固定孔3,所述吸盘1通过固定孔3固定在固定板2上,所述吸盘1上设置有吸附腔体4,所述吸附腔体4上设置有真空孔5,所述吸盘1底部为凹槽结构,所述凹槽结构包括第一凹槽11和第二凹槽12,所述第二凹槽12位于第一凹槽11内,所述第一凹槽11上设置有挡板13,所述第一凹槽11与真空孔5相通形成真空管路,所述固定板2与吸盘1接触一面上设置有分片管道21。
在扩散陶瓷吸盘工作时,通过对吸附腔体4上设置的真空孔5对吸附腔体4内的空气进行抽空,使得吸附腔体4内形成真空腔体实现对硅片的吸附,同时压缩空气进入固定板2与吸盘1接触一面上设置的分片管道21内实现对硅片进行分片处理,通过把吸附真空管路与硅片分离管路集成在一个整体内部,使得硅片的吸附和分离同时进行,达到了提高工作效率的效果。
在此基础上,如图2所示,所述吸盘1远离固定板2一端具有硅片导向角6,具有导向角6的扩散陶瓷吸盘在使用时更方便,达到了提高工作效率的效果。
在此基础上,如图1所示,所述吸盘1的材料可为陶瓷或PEEK,陶瓷或PEEK是一种具有耐高温、易加工和高机械强度等优异特性的材料,使得吸盘1的使用寿命更高。
在此基础上,如图1所示,所述吸盘1上设置的吸附腔体4为多个,多个吸附腔体4在对硅片进行吸附时,效果更好。
以上所述的具体实施例,对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本实用新型的具体实施例而已,并不用于限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (4)

1.一种扩散陶瓷吸盘,包括吸盘(1)和固定板(2),所述吸盘(1)和固定板(2)上都设置有固定孔(3),所述吸盘(1)通过固定孔(3)固定在固定板(2)上,其特征在于:所述吸盘(1)上设置有吸附腔体(4),所述吸附腔体(4)上设置有真空孔(5),所述吸盘(1)底部为凹槽结构,所述凹槽结构包括第一凹槽(11)和第二凹槽(12),所述第二凹槽(12)位于第一凹槽(11)内,所述第一凹槽(11)上设置有挡板(13),所述第一凹槽(11)与真空孔(5)相通形成真空管路,所述固定板(2)与吸盘(1)接触一面上设置有分片管道(21)。
2.如权利要求1所述的扩散陶瓷吸盘,其特征在于:所述吸盘(1)远离固定板(2)一端具有硅片导向角(6)。
3.如权利要求1所述的扩散陶瓷吸盘,其特征在于:所述吸盘(1)的材料可为陶瓷或PEEK。
4.如权利要求1所述的扩散陶瓷吸盘,其特征在于:所述吸盘(1)上设置的吸附腔体(4)为多个。
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