CN212504558U - 一种用于电熔玻璃窑炉的流液洞结构 - Google Patents

一种用于电熔玻璃窑炉的流液洞结构 Download PDF

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梁中全
夏怡
郭红亮
王利祥
陈剑
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Abstract

本实用新型公开了一种用于电熔玻璃窑炉的流液洞结构,它涉及玻璃窑炉技术领域。它的熔化池上开设有流液洞取液口和流液洞通道,流液洞通道穿过池壁设置;流液洞取液口凸出于池壁内侧,流液洞取液口底部高于池底,池底的顶部周边设有底圈,流液洞取液口设于底圈的顶部;流液洞取液口的顶部设有取液口顶盖,流液洞取液口的两侧设有取液口壁砖;流液洞通道在玻璃液流向方向上向上倾斜。本实用新型的优点在于:改变流液洞结构,池壁附近耐火材料受侵蚀产生的杂质不易进入流液洞;池底沉淀物也不易进入流液洞;进入的杂物容易回流排出;取液口顶盖留存的池壁附近耐火材料受侵蚀产生的杂质不会进入流液洞取液口。

Description

一种用于电熔玻璃窑炉的流液洞结构
技术领域
本实用新型涉及玻璃窑炉技术领域,具体涉及一种用于电熔玻璃窑炉的流液洞结构。
背景技术
在玻璃纤维窑炉中,熔化部熔化澄清好的玻璃液通过流液洞进入作业部的主通路。流液洞主要有下沉式流液洞和侧壁开孔式流液洞,无论哪种形式,取液口都紧靠池壁和池底。在电熔窑炉中,电极附近电力线分布密集,受热力和电力搅动影响,电极附近的耐火材料最容易受到侵蚀产生剥落,而池壁池底附近相对窑炉内部区域,存在低温粘滞层,取液口附近的池壁、池底耐火材料受到侵蚀产生的杂质可能不会被搅动到热点区域进行熔化混合稀释,而是直接慢慢沿池壁沉降到池底,随玻璃液流入流液洞,最后进入作业通路,影响玻璃液的拉丝成型。
现有技术中,公开了申请号为201911160012.X的一种应用于特殊玻璃生产的窑炉流液洞结构,该专利将流液洞设置在熔窑液面线与熔窑底面这一高度的正中间位置处,能够避免池底沉淀物进入流液洞,但取液口直接在池壁上开设,池壁上位于流液洞的取液口附近的耐火材料受到侵蚀产生的杂质会随玻璃液流入取液口;专利申请号为201610786332.6的一种生产连续玄武岩纤维的流液洞,其流液洞设置在池底位置,池底的沉淀物容易进入流液洞,取液口直接在池底侧边的池壁上开设,位于流液洞的取液口附近的池壁耐火材料受到侵蚀产生的杂质会随玻璃液流入取液口,最后进入作业通路,影响玻璃液的拉丝成型,且流液洞为水平设置,杂物进入后不易排出。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种用于电熔玻璃窑炉的流液洞结构,能够解决现有技术中存在的窑炉中耐火材料受侵蚀产生的杂质通过流液洞进入成型区的问题。
为解决上述技术问题,本实用新型的技术方案为:包括熔化池、池壁和池底,所述熔化池上开设有流液洞取液口和流液洞通道,所述流液洞取液口设于流液洞通道的端部,所述流液洞通道穿过池壁设置,所述流液洞取液口位于熔化池的内部;
所述流液洞取液口凸出于池壁内侧,流液洞取液口底部高于池底,所述池底的顶部周边设置有底圈,流液洞取液口设于底圈的顶部;
所述流液洞取液口的顶部设有取液口顶盖,流液洞取液口的两侧设有取液口壁砖,所述取液口顶盖和取液口壁砖均与池壁连接,所述取液口壁砖的顶部与取液口顶盖的底部连接,取液口壁砖的底部与底圈的顶部连接;
所述流液洞通道在玻璃液流向方向上向上倾斜。
进一步地,所述流液洞取液口距熔化池中心的距离为熔化池半径的2/3~3/4。
进一步地,所述池底的周边设置的底圈的高度为10~20cm。
进一步地,所述流液洞通道向上倾斜角度为5°~10°。
进一步地,所述取液口顶盖的顶部远离池壁内侧的一端连接有向上延伸的挡块。
采用上述结构后,本实用新型的优点在于:改变流液洞结构,将流液洞取液口内移,设置为凸出于池壁内侧,池壁附近耐火材料受侵蚀产生的杂质不易进入流液洞;
流液洞取液口高出池底一定距离,池底沉淀物不易进入流液洞;
流液洞通道设置为呈一定角度向上倾斜,使得玻璃液流向方向上呈一定向上倾斜角度,进入的杂物容易回流排出,同时流液洞取液口顶盖、取液口壁砖采用抗侵蚀性能更好的耐火材料砖材,提高取液口的寿命;
在取液口顶盖的顶部远离池壁内侧的一端连接有向上延伸的挡块,使得取液口顶盖留存的池壁附近耐火材料受侵蚀产生的杂质从侧边流出,不会进入流液洞取液口。
附图说明
图1为本实用新型的剖视图;
图2为本实用新型的窑炉立体结构示意图。
附图标记说明:1.流液洞取液口;2.流液洞通道;3.池壁;4.池底;5.熔化池;6.取液口顶盖;7.取液口壁砖;8.上升道;9.挡块;10.底圈。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及具体实施方式,对本实用新型进行进一步详细说明。下面的实施例可以使本专业的技术人员更全面地理解本实用新型,但并不因此将本实用新型限制在所述的实施例范围之中。
如图1和图2所示,本具体实施方式采用如下技术方案:包括熔化池5、池壁3和池底4,熔化池5上开设有流液洞取液口1和流液洞通道2,流液洞取液口1设于流液洞通道2的端部,玻璃液从流液洞取液口1进入于流液洞通道2内,流液洞通道2穿过池壁3设置,流液洞取液口1位于熔化池5的内部。
通过该种设置,让流液洞取液口1凸出于池壁3内侧,且流液洞取液口1距熔化池5中心的距离为熔化池5半径的2/3~3/4,池壁3附近耐火材料受侵蚀产生的杂质不易进入流液洞取液口1,流液洞取液口1底部高于池底4,池底4的顶部周边设置有底圈10,流液洞取液口1设于底圈10的顶部,底圈10的高度为10~20cm,池底4的沉淀物不易进入流液洞通道2内。
流液洞取液口1的顶部设有取液口顶盖6,取液口顶盖6的顶部远离池壁3内侧的一端连接有向上延伸的挡块9,流液洞取液口1的两侧设有取液口壁砖7,取液口顶盖6和取液口壁砖7均与池壁3连接,取液口壁砖7的顶部与取液口顶盖6的底部连接,取液口壁砖7的底部与底圈10的顶部连接,取液口顶盖6、取液口壁砖7、挡块9采用优质耐玻璃侵蚀的砖材,如:致密氧化铬砖、高锆砖等,提高凸出的流液洞取液口1在玻璃液中的抗冲刷侵蚀性能,挡块9将取液口顶盖留存的池壁附近耐火材料受侵蚀产生的杂质挡住从侧边流出,不会进入流液洞取液口1;此外流液洞通道2在玻璃液流向方向上有5°~10°的向上倾斜角度,进入的杂物容易回流排出。
工作原理:原料在窑炉熔化池5中通过电极即热熔化形成玻璃液,澄清均化后,从流液洞取液口1进入流液洞通道2,再从流液洞通道2进入上升道8,通过上升道8进入成型料道,将流液洞取液口1内移设置为凸出于池壁3内侧,池壁3附近耐火材料受侵蚀产生的杂质不易进入流液洞通道2,流液洞取液口1高出池底4一定距离,池底4沉淀物不易进入流液洞通道2,玻璃液进入流液洞通道2后,呈一定角度向上倾斜流入上升道8,进入流液洞通道2的杂物容易回流排出,取液口顶盖6留存的池壁3附近耐火材料受侵蚀产生的杂质由于挡块9的阻挡从侧边流出,不会进入流液洞通道2内,保证玻璃液的拉丝成型。
本具体实施方式改变流液洞结构,池壁附近耐火材料受侵蚀产生的杂质不易进入流液洞;池底沉淀物也不易进入流液洞;进入的杂物容易回流排出;取液口顶盖留存的池壁附近耐火材料受侵蚀产生的杂质不会进入流液洞取液口。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征以及本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (5)

1.一种用于电熔玻璃窑炉的流液洞结构,包括熔化池、池壁和池底,其特征在于:所述熔化池上开设有流液洞取液口和流液洞通道,所述流液洞取液口设于流液洞通道的端部,所述流液洞通道穿过池壁设置,所述流液洞取液口位于熔化池的内部;
所述流液洞取液口凸出于池壁内侧,流液洞取液口底部高于池底,所述池底的顶部周边设置有底圈,流液洞取液口设于底圈的顶部;
所述流液洞取液口的顶部设有取液口顶盖,流液洞取液口的两侧设有取液口壁砖,所述取液口顶盖和取液口壁砖均与池壁连接,所述取液口壁砖的顶部与取液口顶盖的底部连接,取液口壁砖的底部与底圈的顶部连接;
所述流液洞通道在玻璃液流向方向上向上倾斜。
2.根据权利要求1所述的一种用于电熔玻璃窑炉的流液洞结构,其特征在于:所述流液洞取液口距熔化池中心的距离为熔化池半径的2/3~3/4。
3.根据权利要求1所述的一种用于电熔玻璃窑炉的流液洞结构,其特征在于:所述池底的周边设置的底圈的高度为10~20cm。
4.根据权利要求1所述的一种用于电熔玻璃窑炉的流液洞结构,其特征在于:所述流液洞通道向上倾斜角度为5°~10°。
5.根据权利要求1所述的一种用于电熔玻璃窑炉的流液洞结构,其特征在于:所述取液口顶盖的顶部远离池壁内侧的一端连接有向上延伸的挡块。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN115340287A (zh) * 2022-07-28 2022-11-15 陕西彩虹工业智能科技有限公司 一种用于高世代基板玻璃窑炉及生产方法

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