CN212489053U - 一种焖涮烤一体餐桌 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种焖涮烤一体餐桌，所述焖涮烤一体餐桌包括支撑结构、中间为方形孔的桌面板、烤盘加热结构、焖涮盘加热结构和烤盘，所述桌面板、烤盘加热结构和焖涮盘加热结构均设置在支撑结构上，所述烤盘匹配设置在烤盘加热结构上方，所述烤盘的外周呈方形与桌面板的方形孔相匹配，烤盘的中央设有对称图形孔，焖涮盘加热结构呈对称图形的形状且与烤盘中央的对称图形孔相匹配，所述烤盘的中间盘面和所述焖涮盘加热结构的顶面均低于所述桌面板的板面高度。本实用新型能方便的同时进行焖涮烤的操作，满足了吃客们对于焖涮烤同吃的需求，尤其通过漏油孔的设计使烧烤过程中换油更方便。

Description

一种焖涮烤一体餐桌

技术领域

本实用新型属于餐饮设备技术领域，具体涉及一种焖涮烤一体餐桌。

背景技术

火锅和烧烤一直是广受大众喜爱的美食，近年来，为了迎合吃客们的需求，餐饮界又创造了新的吃法就是烧烤火锅相结合的新模式，简称涮烤一体，这种涮烤一体模式一出现，就获得了食客们的一致好评，因此现在越来越多店家跻身涮烤一体火锅烧烤事业，涮烤一体火锅烧烤已然成为店家们最青睐的品类之一。但现有的涮烤一体往往是两个锅分别在桌子的两端，有的则要更换锅具，对既想吃火锅又想吃烧烤还不想换座位的吃客来说十分不方便。

专利文献CN201721893646公开了一种油烟除味净化涮烤桌，包括外支架、桌面板、主支撑架、抽油烟口、烤盘、涮锅加热盘、抽油烟风机、除油烟器、纳米材料除味器、活性炭过滤器；所述桌面板为中间带圆孔的圆形板，圆孔的内壁设有一段台阶，并卡在所述外支架上方；所述主支撑架设置于外支架内侧上部，外支架在其对应主支撑架底部的位置上设有内卡块，主支撑架安放于内卡块上，主支撑架上方安装烤盘和涮锅加热盘，同时设置调味托架，并且还在调味托架上安装有二层桌板，外支架底部设有排气孔和可调地脚，将处理后空气排出。但其在实际使用中仍有诸多不便，尤其是针对2～8人的小桌时，烤盘的宽度太窄，如果将烤盘的宽度加大则又使得桌子的整体增大，不能符合小桌的需求；而且烧烤过程中的油因长时间的使用对人体健康不利，该涮烤桌对油料的更换也不方便。

因此，需要设计一种新的焖涮烤一体餐桌。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种焖涮烤一体餐桌，以解决背景技术中提出的同一桌进行焖涮烤不方便的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供了一种焖涮烤一体餐桌，所述焖涮烤一体餐桌包括支撑结构、中间为方形孔的桌面板、烤盘加热结构、焖涮盘加热结构和烤盘，所述桌面板、烤盘加热结构和焖涮盘加热结构均设置在支撑结构上，所述烤盘匹配设置在烤盘加热结构上方，所述烤盘的外周呈方形与桌面板的方形孔相匹配，烤盘的中央设有对称图形孔，焖涮盘加热结构呈对称图形的形状且与烤盘中央的对称图形孔相匹配，所述烤盘的中间盘面和所述焖涮盘加热结构的顶面均低于所述桌面板的板面高度。

在一种具体的实施方式中，所述对称图形选自方形、圆形和椭圆形。

在一种具体的实施方式中，在烤盘上靠近方形角的位置设有漏油孔，所述烤盘的上表面设有用于防溅油的凸起纹路。

在一种具体的实施方式中，所述烤盘上设有2～4个漏油孔，所述漏油孔的下方、支撑结构的上方还设有接油盘。

在一种具体的实施方式中，所述烤盘为生铁材质的烤盘，烤盘的厚度为1～5mm，所述桌面板为木板或大理石板。

在一种具体的实施方式中，所述烤盘加热结构和焖涮盘加热结构为电磁炉或电陶炉；所述烤盘加热结构和焖涮盘加热结构的控制器设置在桌面板的侧面。

在一种具体的实施方式中，所述烤盘边壁的顶部与桌面板平齐，烤盘的中间盘面比烤盘边壁顶部低3～5cm。

在一种具体的实施方式中，所述焖涮盘加热结构的顶面比桌面板低10～20cm。

在一种具体的实施方式中，所述桌面板外圈为圆形或者方形。

在一种具体的实施方式中，所述支撑结构包括纵向支撑结构和横向支撑结构；所述纵向支撑结构为桌腿或中间支撑柱；所述横向支撑结构架设在纵向支撑结构上，烤盘加热结构和焖涮盘加热结构架设在横向支撑结构上。

相比于现有技术，本实用新型具有以下有益效果：

本实用新型能方便的同时进行焖涮烤的操作，满足了吃客们对于焖涮烤同吃的需求，尤其通过漏油孔的设计使烧烤过程中换油更方便。

本实用新型所用的方形圆孔烤盘应用在2～8人的小桌时能使的烧烤盘中烧烤面的分布更为合理，即不会因为桌子小而造成烧烤面过窄、操作不方便，也不会过多占用普通桌面的面积。本实用新型中烤盘的外周呈方形，使得烤盘的面积更大，其空间可以得到更合理的利用，单次烧烤的食品量更多，缩短了整体食物的烧烤时间。

除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本实用新型还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图，对本实用新型作进一步详细的说明。

附图说明

构成本申请的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1是本实用新型一种实施例的结构示意图；

图2是本实用新型一种实施例的对角剖面示意图；

图3是本实用新型一种实施例的俯视图；

其中，1、支撑结构；2、桌面板；3、烤盘加热结构；4、焖涮盘加热结构；5、烤盘；11、纵向支撑结构；12、横向支撑结构；51、漏油孔；52、接油盘。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的实施例进行详细说明，但是本实用新型可以根据权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。

实施例1

本实用新型提供的一种焖涮烤一体餐桌，所述焖涮烤一体餐桌包括支撑结构1、中间为方形孔的桌面板2、烤盘加热结构3、焖涮盘加热结构4和烤盘5，所述桌面板2、烤盘加热结构3和焖涮盘加热结构4均设置在支撑结构1上，所述烤盘5匹配设置在烤盘加热结构3上方，所述烤盘5的外周呈方形与桌面板2的方形孔相匹配，烤盘5的中央设有对称图形孔，焖涮盘加热结构4呈对称图形的形状且与烤盘5中央的对称图形孔相匹配，所述烤盘5的中间盘面和所述焖涮盘加热结构4的顶面均低于所述桌面板2的板面高度。

在一种具体的实施方式中，所述对称图形选自方形、圆形和椭圆形。

在一种具体的实施方式中，在烤盘5上靠近方形角的位置设有漏油孔51，所述烤盘5的上表面设有用于防溅油的凸起纹路。所述凸起纹路优选为水波纹状或点凸状，不仅能起到防溅油的作用，还能在烤肉等食物时在食物上形成具有美感的烧烤纹路，进而起到增进食欲的作用。

在一种具体的实施方式中，所述烤盘5上设有2～4个漏油孔51。优选4个角处均设置漏油孔51，烤制食物时能方便的将不慎多倒入的油和肉类炙烤出的过多的油及时排走，尽量减少油液长时间在烤盘上高温加热的情况，从而在获得烤制的美味的同时尽可能的也同时兼顾到健康。所述漏油孔51的下方、支撑结构1的上方还设有接油盘52。设计接油盘方便了用餐后的清理。

在一种具体的实施方式中，所述烤盘5为生铁材质的烤盘，烤盘的厚度为1～5mm。选用生铁材质的烤盘能使得烤制食物的受热过程更均匀，也在一定程度上符合中国人使用铁锅的习惯。所述桌面板2为木板或大理石板。

在一种具体的实施方式中，所述烤盘加热结构3和焖涮盘加热结构4为电磁炉或电陶炉；所述烤盘加热结构3和焖涮盘加热结构4的控制器设置在桌面板2的侧面。电磁炉和电陶炉均可通过商购获得。

在一种具体的实施方式中，所述烤盘5边壁的顶部与桌面板2平齐，烤盘5的中间盘面比烤盘边壁顶部低3～5cm。烤盘的盘面稍低也使得食客们在用餐过程中不容易被油溅到身上。

在一种具体的实施方式中，所述焖涮盘加热结构4的顶面比桌面板2低10～20cm。从而使得放入焖涮的汤锅后能刚好与桌面平齐，方便食客们自助涮食。

在一种具体的实施方式中，所述桌面板2外圈为圆形或者方形。

在一种具体的实施方式中，所述支撑结构1包括纵向支撑结构11和横向支撑结构12；所述纵向支撑结构11为桌腿或中间支撑柱；所述横向支撑结构12架设在纵向支撑结构11上，烤盘加热结构3和焖涮盘加热结构4架设在横向支撑结构12上。

以上内容是结合具体的优选实施方式对本实用新型作的进一步详细说明，不能认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干简单推演和替换，都应当视为属于本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种焖涮烤一体餐桌，其特征在于，所述焖涮烤一体餐桌包括支撑结构(1)、中间为方形孔的桌面板(2)、烤盘加热结构(3)、焖涮盘加热结构(4)和烤盘(5)，所述桌面板(2)、烤盘加热结构(3)和焖涮盘加热结构(4)均设置在支撑结构(1)上，所述烤盘(5)匹配设置在烤盘加热结构(3)上方，所述烤盘(5)的外周呈方形与桌面板(2)的方形孔相匹配，烤盘(5)的中央设有对称图形孔，焖涮盘加热结构(4)呈对称图形的形状且与烤盘(5)中央的对称图形孔相匹配，所述烤盘(5)的中间盘面和所述焖涮盘加热结构(4)的顶面均低于所述桌面板(2)的板面高度。

2.根据权利要求1所述的焖涮烤一体餐桌，其特征在于，所述对称图形选自方形、圆形和椭圆形。

3.根据权利要求1所述的焖涮烤一体餐桌，其特征在于，在烤盘(5)上靠近方形角的位置设有漏油孔(51)，所述烤盘(5)的上表面设有用于防溅油的凸起纹路。

4.根据权利要求1所述的焖涮烤一体餐桌，其特征在于，所述烤盘(5)上设有2～4个漏油孔(51)，所述漏油孔(51)的下方、支撑结构(1)的上方还设有接油盘(52)。

5.根据权利要求1所述的焖涮烤一体餐桌，其特征在于，所述烤盘(5)为生铁材质的烤盘，烤盘的厚度为1～5mm，所述桌面板(2)为木板或大理石板。

6.根据权利要求1所述的焖涮烤一体餐桌，其特征在于，所述烤盘加热结构(3)和焖涮盘加热结构(4)为电磁炉或电陶炉；所述烤盘加热结构(3)和焖涮盘加热结构(4)的控制器设置在桌面板(2)的侧面。

7.根据权利要求1所述的焖涮烤一体餐桌，其特征在于，所述烤盘(5)边壁的顶部与桌面板(2)平齐，烤盘(5)的中间盘面比烤盘边壁顶部低3～5cm。

8.根据权利要求1所述的焖涮烤一体餐桌，其特征在于，所述焖涮盘加热结构(4)的顶面比桌面板(2)低10～20cm。

9.根据权利要求1所述的焖涮烤一体餐桌，其特征在于，所述桌面板(2)外圈为圆形或者方形。

10.根据权利要求1所述的焖涮烤一体餐桌，其特征在于，所述支撑结构(1)包括纵向支撑结构(11)和横向支撑结构(12)；所述纵向支撑结构(11)为桌腿或中间支撑柱；所述横向支撑结构(12)架设在纵向支撑结构(11)上，烤盘加热结构(3)和焖涮盘加热结构(4)架设在横向支撑结构(12)上。

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