CN212335277U - 一种可自动翻面的真空镀膜基片台 - Google Patents

一种可自动翻面的真空镀膜基片台 Download PDF

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Abstract

本实用新型涉及一种可自动翻面的真空镀膜基片台,包括样品固定架、基片台、固定轴套、轴承端盖、过渡轴套、齿轮压垫、主动齿轮、磁流体、上法兰、支杆、电机支板、电机、联轴器、从动齿轮、升降拨动杆组件、真空室顶板、轴承;样品固定架设在基片台上;电机设置在电机支板上并且电机的输出轴通过联轴器与磁流体的导磁回转轴一端连接;主动齿轮通过齿轮压垫固定在磁流体的导磁回转轴上;从动齿轮与主动齿轮相啮合;主动齿轮带动从动齿轮使基片台转动,在基片台转动的同时,升降拨动杆组件能够与样品固定架驱动连接用于样品固定架的翻转。其具有结构设计合理、操作使用方便、加工成本低、镀膜效率高的优点。

Description

一种可自动翻面的真空镀膜基片台
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜技术领域,尤其涉及一种可自动翻面的真空镀膜基片台。
背景技术
目前在镀膜设备中,如果基片样品两个表面均需要制备膜层,现有技术的做法一次只能镀玻璃的一面,如果玻璃的另外一面也需要镀膜,则必须镀完玻璃一面后,将镀完一面的玻璃取出后,重新经过清洗样品然后手动翻转放入真空室,然后再次经过真空室进行镀膜,即镀膜工序要重复两次才能完成,这样不但浪费人力、财力、产量低。而且这种工艺在第二次制备膜层的过程中,会对第一次膜层的性能有所影响,并且由于二次镀膜会造成良率的下降,总体生产成本较高。本实用新型正是基于上述研究背景而提出,旨在提供一种可自动翻面的真空镀膜基片台,以克服上述缺陷。
实用新型内容
本实用新型的目的在于:克服现有技术中镀膜设备存在的上述不足,提供一种可自动翻面的真空镀膜基片台,其具有结构设计合理、操作使用方便、加工成本低、镀膜效率高的优点。
为了达到上述目的,本实用新型采用如下技术方案实现:
一种可自动翻面的真空镀膜基片台,该真空镀膜基片台包括样品固定架、基片台、固定轴套、轴承端盖、过渡轴套、齿轮压垫、主动齿轮、磁流体、上法兰、支杆、电机支板、电机、联轴器、从动齿轮、升降拨动杆组件、真空室顶板、轴承;其中,所述样品固定架设在基片台上;所述从动齿轮和基片台分别固定设置在过渡轴套的上侧、下侧;所述轴承端盖设置在轴承上,所述过渡轴套通过轴承端盖固定设置在固定轴套上;所述固定轴套的顶端设置有上法兰;所述上法兰设置在真空室的顶板上面;所述支杆均匀间隔设置在电机支板的底部;所述磁流体设置在支杆围成的空腔中;所述电机设置在电机支板上并且电机的输出轴通过联轴器与磁流体的导磁回转轴一端连接;所述磁流体的导磁回转轴另一端依次穿过上法兰、真空室顶板;所述主动齿轮通过齿轮压垫固定在磁流体的导磁回转轴上;所述从动齿轮与主动齿轮相啮合;所述主动齿轮带动从动齿轮使基片台转动,在基片台转动的同时,所述升降拨动杆组件能够与样品固定架驱动连接用于样品固定架的翻转。
作为上述方案的进一步优化,所述样品固定架包括拨叉、固定轴、样品台、端轴、限位轴;所述拨叉固定在固定轴上,所述样品台的横截面为长方形;所述固定轴、限位轴、端轴依次垂直设置在样品台相邻的三个边棱上,并位于同一平面上;样品固定架放在基片台上,通过固定轴、端轴实现翻转,通过限位轴完成 180度的角度限位。
作为上述方案的进一步优化,所述升降拨动杆组件包括直线气缸、气缸支板、连接板、定位套、锁母、密封套、垫片、骨架油封、升降轴、拉伸弹簧、摆动杆、弹簧固定杆、密封压盖;所述升降拨动杆组件安装在真空室顶板上面,并位于基片台外侧,所述直线气缸通过连接板与升降轴驱动连接用于驱动升降轴上、下往复移动;所述直线气缸安装在气缸支板上侧,所述气缸支板通过锁母、垫片固定在密封套上面;所述升降轴位于密封套内部,在升降轴的外周面套设有定位套和骨架油封,所述骨架油封与密封压盖相连接;所述弹簧固定杆固定安装在升降轴上,所述摆动杆活动连接设置在升降轴上,所述拉伸弹簧的一端设置在弹簧固定杆上,另一端设置在摆动杆上。
作为上述方案的进一步优化,磁流体包括导磁回转轴、轴承、磁铁、磁流体、左轴承端盖、右轴承端盖、外壳;所述导磁回转轴通过轴承固定,磁铁以及轴承固定在外壳内侧,所述左轴承端盖、右轴承端盖设置在外壳的左右两端,并且左轴承端盖、右轴承端盖上设置有供导磁回转轴穿过的轴孔。
采用本实用新型的一种可自动翻面的真空镀膜基片台有益效果表现在:结构更加合理,无需镀完玻璃一面后,将镀完一面的玻璃取出后,重新经过清洗样品然后手动翻转放入真空室,然后再次经过真空室进行镀膜,大大提高了镀膜的效率,并且有效降低了成本;结构上,利用升降拨动杆组件、主动齿轮与从动齿轮的相互配合,在使用中,能够与样品固定架的相互配合能够实现翻面的可靠运行。
附图说明
附图1为本实用新型一种可自动翻面的真空镀膜基片台结构示意图。
附图2为本实用新型升降拨动杆组件的结构示意图。
附图3为本实用新型样品固定架的结构示意图。
附图4为本实用新型升降拨动杆组件与样品固定架相互配合的示意图。
附图5为本实用新型磁流体的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图1-5对本实用新型一种可自动翻面的真空镀膜基片台作以详细说明。
一种可自动翻面的真空镀膜基片台,该真空镀膜基片台包括样品固定架1、基片台2、固定轴套3、轴承端盖4、过渡轴套5、齿轮压垫6、主动齿轮7、磁流体、上法兰9、支杆10、电机支板11、电机12、联轴器13、从动齿轮14、升降拨动杆组件15、真空室顶板16、轴承17;
其中,所述样品固定架设在基片台上;所述从动齿轮和基片台分别固定设置在过渡轴套的上侧、下侧;所述轴承端盖设置在轴承上,所述过渡轴套通过轴承端盖固定设置在固定轴套上;所述固定轴套的顶端设置有上法兰;所述上法兰设置在真空室的顶板上面;所述支杆均匀间隔设置在电机支板的底部;所述磁流体设置在支杆围成的空腔中;所述电机设置在电机支板上并且电机的输出轴通过联轴器与磁流体的导磁回转轴一端连接;所述磁流体的导磁回转轴另一端依次穿过上法兰、真空室顶板;所述主动齿轮通过齿轮压垫固定在磁流体的导磁回转轴上;所述从动齿轮与主动齿轮相啮合;所述主动齿轮带动从动齿轮使基片台转动,在基片台转动的同时,所述升降拨动杆组件能够与样品固定架驱动连接用于样品固定架的翻转。
所述样品固定架包括拨叉1.1、固定轴1.2、样品台1.3、端轴1.4、限位轴 1.5;所述拨叉固定在固定轴上,所述样品台的横截面为长方形;所述固定轴、限位轴、端轴依次垂直设置在样品台相邻的三个边棱上,并位于同一平面上;样品固定架放在基片台上,通过固定轴、端轴实现翻转,通过限位轴完成180度的角度限位。
所述升降拨动杆组件包括直线气缸15.1,气缸支板15.2,连接板15.3,定位套15.4,锁母15.5,密封套15.6,垫片15.7,骨架油封15.8,升降轴15.9,拉伸弹簧15.10,摆动杆15.11,弹簧固定杆15.12,密封压盖15.13;所述升降拨动杆组件安装在真空室顶板上面,并位于基片台外侧,所述直线气缸通过连接板与升降轴驱动连接用于驱动升降轴上、下往复移动;所述直线气缸安装在气缸支板上侧,所述气缸支板通过锁母、垫片固定在密封套上面;所述升降轴位于密封套内部,在升降轴的外周面套设有定位套和骨架油封,所述骨架油封与密封压盖相连接;所述弹簧固定杆固定安装在升降轴上,所述摆动杆活动连接设置在升降轴上,所述拉伸弹簧的一端设置在弹簧固定杆上,另一端设置在摆动杆上。
磁流体包括导磁回转轴8.1、磁流体轴承8.2、磁铁8.3、磁流体8.4、左轴承端盖8.5、右轴承端盖8.6、外壳8.7;所述导磁回转轴通过磁流体轴承8.2 固定,磁铁以及磁流体轴承8.2固定在外壳内侧,所述左轴承端盖、右轴承端盖设置在外壳的左右两端,并且左轴承端盖、右轴承端盖上设置有供导磁回转轴穿过的轴孔。磁流体在均匀稳定磁场的作用下,使磁流体充满在磁铁与回转轴之间,由于导磁回转轴为导磁材质,磁流体为液态,导磁回转轴静态与旋转时,磁流体与导磁回转轴之间通过磁力相互吸附,从而到达密封效果。
本实用新型的可自动翻面的真空镀膜基片台的工作原理如下:
样品固定架1放置在基片台2上,磁流体通过电机12旋转带动主动齿轮7,主动齿轮7带动从动齿轮14使基片台2逆时针转动;在基片台2转动的同时,直线气缸15.1驱动升降轴15.9下降,使摆动杆15.11位于拨叉1.1的夹角中,拨动拨叉1.1使样品固定架1实现翻转;如果升降轴15.9下降时摆动杆15.11 刚好位于拨叉1.1上方,通过15.10拉伸弹簧调节15.11摆动杆翘起,避免与 1.1拨叉顶紧导致卡死;样品固定架1翻转完成后直线气缸15.1驱动升降轴15.9 上升,完成所有翻转动作。
上述的对实施例的描述是为便于该技术领域的普通技术人员能理解和应用本实用新型。熟悉本领域技术的人员显然可以容易地对这些实施例做出各种修改,并把在此说明的一般原理应用到其他实施例中而不必经过创造性的劳动。因此,本实用新型不限于这里的实施例,本领域技术人员根据本实用新型的揭示,不脱离本实用新型范畴所做出的改进和修改都应该在本实用新型的保护范围之内。

Claims (4)

1.一种可自动翻面的真空镀膜基片台,其特征在于:该真空镀膜基片台包括样品固定架(1)、基片台(2)、固定轴套(3)、轴承端盖(4)、过渡轴套(5)、齿轮压垫(6)、主动齿轮(7)、磁流体组件、上法兰(9)、支杆(10)、电机支板(11)、电机(12)、联轴器(13)、从动齿轮(14)、升降拨动杆组件(15)、真空室顶板(16)、轴承(17);其中,所述样品固定架设在基片台上;所述从动齿轮和基片台分别固定设置在过渡轴套的上侧、下侧;所述轴承端盖设置在轴承上,所述过渡轴套通过轴承端盖固定设置在固定轴套上;所述固定轴套的顶端设置有上法兰;所述上法兰设置在真空室的顶板上面;所述支杆均匀间隔设置在电机支板的底部;所述磁流体组件设置在支杆围成的空腔中;所述电机设置在电机支板上并且电机的输出轴通过联轴器与磁流体组件的导磁回转轴一端连接;所述磁流体组件的导磁回转轴另一端依次穿过上法兰、真空室顶板;所述主动齿轮通过齿轮压垫固定在磁流体组件的导磁回转轴上;所述从动齿轮与主动齿轮相啮合;所述主动齿轮带动从动齿轮使基片台转动,在基片台转动的同时,所述升降拨动杆组件能够与样品固定架驱动连接用于样品固定架的翻转。
2.根据权利要求1所述的一种可自动翻面的真空镀膜基片台,其特征在于:所述样品固定架包括拨叉(1.1)、固定轴(1.2)、样品台(1.3)、端轴(1.4)、限位轴(1.5);所述拨叉固定在固定轴上,所述样品台的横截面为长方形;所述固定轴、限位轴、端轴依次垂直设置在样品台相邻的三个边棱上,并位于同一平面上;样品固定架放在基片台上,通过固定轴、端轴实现翻转,通过限位轴完成180度的角度限位。
3.根据权利要求1所述的一种可自动翻面的真空镀膜基片台,其特征在于:所述升降拨动杆组件包括直线气缸(15.1),气缸支板(15.2),连接板(15.3),定位套(15.4),锁母(15.5),密封套(15.6),垫片(15.7),骨架油封(15.8),升降轴(15.9),拉伸弹簧(15.10),摆动杆(15.11),弹簧固定杆(15.12),密封压盖(15.13);所述升降拨动杆组件安装在真空室顶板上面,并位于基片台外侧,所述直线气缸通过连接板与升降轴驱动连接用于驱动升降轴上、下往复移动;所述直线气缸安装在气缸支板上侧,所述气缸支板通过锁母、垫片固定在密封套上面;所述升降轴位于密封套内部,在升降轴的外周面套设有定位套和骨架油封,所述骨架油封与密封压盖相连接;所述弹簧固定杆固定安装在升降轴上,所述摆动杆活动连接设置在升降轴上,所述拉伸弹簧的一端设置在弹簧固定杆上,另一端设置在摆动杆上。
4.根据权利要求1-3任一项所述的一种可自动翻面的真空镀膜基片台,其特征在于:磁流体组件包括导磁回转轴(8.1)、磁流体轴承(8.2)、磁铁(8.3)、磁流体(8.4)、左轴承端盖(8.5)、右轴承端盖(8.6)、外壳(8.7);所述导磁回转轴通过磁流体轴承固定,磁铁以及磁流体轴承固定在外壳内侧,所述左轴承端盖、右轴承端盖设置在外壳的左右两端,并且左轴承端盖、右轴承端盖上设置有供导磁回转轴穿过的轴孔。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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