CN212068992U - 一种搅拌式陶瓷粉体研磨装置 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种搅拌式陶瓷粉体研磨装置，包括支架以及设置于支架上的搅拌机构，其中，搅拌机构包括搅拌桨、搅拌桶和放置于搅拌桶里的磨介；搅拌桨在搅拌陶瓷粉体时设置于搅拌桶内，磨介用于配合搅拌桨研磨陶瓷粉体，还包括可转动横轴，搅拌桶底部固定于可转动横轴上。通过上述方式，可以使搅拌式陶瓷粉体研磨装置实现在搅拌桶底部或侧壁附近的陶瓷粉体能够被剪切，从而底部或侧壁附近的陶瓷粉体能够被均匀研磨和混合，提升陶瓷粉体的品质，且搅拌桶底部下设置有可转动横轴，通过可转动横轴带动搅拌桶转动以实现方便清洁搅拌桶的操作。

Description

一种搅拌式陶瓷粉体研磨装置

技术领域

本用新型涉及陶瓷粉体制备设备技术领域，特别是涉及一种搅拌式陶瓷粉体研磨装置。

背景技术

随着全球5G标准的推出，移动通信系统逐渐向高频发展。滤波器作为基站射频系统的关键部分，其主要功能是帮助基站实现选频，即通过发送和接收信号中特定的频率成分，并极大地衰减其它频率成分。各种实现滤波器功能的器材生产设备也逐渐被运用到生产过程中。在 3G/4G时代，滤波器一般采用金属同轴腔体滤波器，而5G由于大规模天线阵列的应用，更多采用陶瓷介质谐振滤波器，因此制造陶瓷介质的研磨装置就尤为重要。

经本申请的发明人长期研究发现，陶瓷粉体材料的预混合搅拌过程通常是进行机械混合，在靠近搅拌桨附近的物料才被有效搅拌或研磨，而在底部或侧壁附近的物料没有被有效搅拌和研磨。对粉末状的材料进行机械式的混合，会使得陶瓷粉体材料研磨不均匀，从而造成陶瓷粉体的品质下降，另外，由于搅拌桶的位置固定设置，对清洗搅拌桶的操作非常不方便。

实用新型内容

本申请提供一种搅拌式陶瓷粉体研磨装置，能够解决陶瓷粉体材料研磨不均匀的问题，提升陶瓷粉体的品质的同时还能方便搅拌桶的清洁操作。

为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是提供一种搅拌式陶瓷粉体研磨装置，包括支架以及设置于支架上的搅拌机构，搅拌机构包括搅拌桨、搅拌桶和放置于搅拌桶里的磨介，磨介可以用于配合搅拌桨充分研磨陶瓷粉体。该研磨装置还包括可转动横轴，搅拌桶底部固定于可转动横轴上。

本申请的有益效果是：区别于现有技术的情况，本申请通过采用增加磨介的方式可以配合搅拌桨充分研磨陶瓷粉体，使得在搅拌桶底部或侧壁附近的陶瓷粉体能够被剪切，从而底部或侧壁附近的陶瓷粉体能够被均匀研磨，从而提升陶瓷粉体的品质，并且通过搅拌桶底部下设置可转动横轴，可转动横轴带动搅拌桶转动，实现方便清洁搅拌桶的操作。

附图说明

图1是本申请搅拌式陶瓷粉体研磨装置实施例的立体结构示意图；

图2是本申请搅拌式陶瓷粉体研磨装置实施例的搅拌设备结构示意图；

图3是本申请搅拌式陶瓷粉体研磨装置实施例的部分冷却机构结构示意图；

图4是本申请搅拌式陶瓷粉体研磨装置实施例的磨介结构示意图；

其中图1-4中，1-支架，11-支架顶台，12-支架体，13-搅拌支架， 14-底座，15-可转动横轴，2-搅拌机构，210-搅拌设备，211-搅拌桨，212- 搅拌桶，213-磨介，214-搅拌电机，215-搅拌轴，216-腔体，217-桶壁进水口，218-桶壁出水口，219-透明塑料盖板，3-冷却机构，310-冷却设备， 311-进水管，312-出水管，313-循环水冷却机，314-注水口，315-夹层，320-冷却控制设备。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本申请进行详细说明。

参阅图1和图2，本申请实施例提供的搅拌式陶瓷粉体研磨装置可以包括支架1、搅拌机构2、搅拌支架13、可转动的横轴15、搅拌桨211、搅拌桶212和磨介213。

支架1可以作为研磨装置的主体框架，搅拌机构2、搅拌桨211、搅拌桶212和磨介213均设置于支架1上。其中，搅拌机构2挂设在支架1的顶部，搅拌机构2包括搅拌桨211、搅拌桶212和放置于搅拌桶 212里的磨介213。当使用者使用研磨装置对陶瓷粉体进行搅拌研磨时，会先将磨介213、陶瓷粉体和水放入搅拌桶212中，使搅拌机构2的搅拌桨211在搅拌时设置于搅拌桶212内，可以对磨介213和陶瓷粉体进行搅拌。在搅拌的过程中，磨介213的体积和形态并不发生变化，在磨介213表面和搅拌桨211可以对陶瓷粉体进行来回摩擦，因此，磨介213 可以配合搅拌桨211对陶瓷粉体起到研磨的作用。

为了能够方便方便搅拌桶212清洁的操作，该研磨装置还包括可转动横轴15，搅拌桶212底部固定于可转动横轴15上。可转动横轴15可以带动搅拌桶212转动，当搅拌完成时，可转动横轴15转动带动搅拌桶212按确定的角度倒出研磨后的陶瓷粉体和磨介213，使得搅拌桶212 内部的陶瓷粉体和磨介213尽可能多地倒出搅拌桶212外，搅拌桶212 内加入水进行清洁，可转动横轴15带动搅拌桶212转动也可更方便地倾倒清洁后的水，从而节约操作人员的时间，因此，通过在搅拌桶212 底部设置可转动的横轴15可以实现方便搅拌桶212清洁的操作。

具体地，该研磨装置还可以包括手柄(图未示)，手柄设置于搅拌支架13上，在搅拌支架13上还设置有可转动横轴15和齿轮(图未示)。搅拌桶212的底部可以通过螺丝固定于可转动横轴15上，可转动横轴 15至少一端与手柄可以通过齿轮啮合连接，比如可转动横轴15的两端于搅拌支架13的外侧可以与手柄通过齿轮啮合连接，手柄可以用于带动所述可转动横轴15转动。比如，手柄可以带动齿轮做圆周转动以带动可转动横轴15转动，从而在研磨后，通过搬动手柄就可以转动搅拌桶212，从而倾倒出陶瓷粉体，以实现清洗搅拌桶212的目的。因此通过设置手柄带动所述可转动横轴15转动，搅拌桶212清洁的操作能够更方便，从而可以提升清洁搅拌桶212方案的实现性。

为了能够剪切到搅拌桶212侧壁及搅拌桶212侧壁与底部的陶瓷粉体，磨介213可以分布于搅拌桶212的侧壁及搅拌桶212的侧壁与底部的连接处。在搅拌的过程中，实现搅拌桶212底部或侧壁附近的陶瓷粉体能够被剪切，从而搅拌桶212底部或侧壁附近的陶瓷粉体能够被研磨和混合。

为了达到对陶瓷粉体充分研磨的效果，搅拌机构2可以包括搅拌轴 215，搅拌桨211、轮毂(图未示)。搅拌桨211包括多个搅拌叶(图未示)，搅拌叶可以为浆式搅拌叶，搅拌叶的根部斜向下坡度连接端部，搅拌叶呈圆弧螺旋式结构均匀分布于轮毂周围，搅拌叶的根部与轮毂平滑连接，使搅拌桨211在搅拌过程中，搅拌叶高速旋转带动陶瓷粉体和磨介213运动，能够在水平面搅拌磨介213和陶瓷粉体的同时，达到对磨介213和陶瓷粉体进行上下翻动的效果，从而实现磨介213对陶瓷粉体充分研磨的效果。

为了能够均匀研磨陶瓷粉体，当选定一个大小固定的搅拌桶212，那么搅拌桶212的体积大小也被确定，能够放入的陶瓷粉体和磨介213 的体积也可以确定，对于不同大小的陶瓷粉体颗粒，所需要的磨介213 的直径也不一样，当陶瓷粉体颗粒较大时，比如：可以选用磨介213的直径尺寸为10mm，先对较大的陶瓷粉体颗粒进行研磨得到颗粒较小的陶瓷粉体颗粒，研磨完成后，陶瓷粉体与磨介213可以通过筛网过滤的方法进行分离，得到研磨后的陶瓷粉体乳状物，该研磨后的陶瓷粉体乳状物可以再次放入搅拌桶212中，并在搅拌桶212内加入直径更小的磨介213，比如这时选用的磨介213的直径尺寸可以为1mm，通过进一步地搅拌，磨介213可以配合搅拌桨211对陶瓷粉体达到更好的研磨效果。

需要说明的是，搅拌桶212的体积大小可以根据实际情况来进行更换，针对不同的陶瓷粉体，可以使用不同的搅拌桶212，具体在此处不做限定。对选定的搅拌桶212，陶瓷粉体与磨介213的体积比可以为 1:1～3:1，比如1:1、2:1和3:1，磨介213的直径尺寸可以为1～10mm，比如2mm、5mm和10mm。

为了使得磨介213在搅拌的过程中不会被消耗和磨损，需要进一步考虑磨介213的形状和硬度，具体地，参阅图3，磨介213可以包括球形磨介，因为球形磨介没有突出的棱角，在研磨的过程中，受力更加均匀，相比于相同体积和相同硬度的棱角磨介，球形磨介的表面积更大，球形磨介所受到的压力就会更小，因此不会在研磨的过程中被消耗。另外还需要考虑球形磨介不会在研磨的过程中被磨损，那么球形磨介的硬度大于陶瓷粉体的硬度，可以使得磨介213在搅拌的过程中不会被消耗和磨损。

为了使磨介213达到足够硬度并在搅拌过程中性能稳定，球形磨介可以采用金属氧化复合物，由两种或两种以上金属氧化物复合而成的多元复杂氧化物。它比单元氧化物有更加好的性质，还具有稳定性好、耐腐蚀、耐高温、高硬度等性质特点。在搅拌的过程，磨介213可以配合搅拌桨211对陶瓷粉体进行研磨，因为搅拌的速度非常快，研磨的过程中会产生大量的热量，所以搅拌桶212内的温度会非常高，有时甚至上几百摄氏度，所以搅拌的过程中，需要考虑磨介213在高温条件下不会与陶瓷粉体进行化学反应，因此采用金属氧化复合物，可以有效兼顾磨介213对硬度和稳定性的要求。

具体地，金属氧化复合物可以包括钇稳定氧化锆、BaTiO₃、MgTiO₃、 CaTiO₃中的至少一种或两种以上的组合，具体在此处不做限定。

为了搅拌过程的操作方便，搅拌机构2可以包括升降电机(图未示)、搅拌电机214和搅拌轴215；所述升降电机用于带动所述搅拌桨211升降。搅拌轴215的一端可以与搅拌电机214相连，搅拌轴215的另一端可以与搅拌桨211固定相连，搅拌电机214可以用于搅拌过程中带动搅拌轴215的转动，进而带动搅拌桨211的转动。

为了更好地控制搅拌的过程中，搅拌机构2还可以包括搅拌控制设备220；搅拌控制设备220可以与搅拌电机214连接，用于控制搅拌轴 215的转动方向、转动速度、转动时间，以配合磨介213研磨陶瓷粉体。

另外，搅拌控制设备220也可以与升降电机连接，还可以用于控制搅拌桨211的升降。

搅拌控制设备220上设置有搅拌显示屏(未标注)、搅拌开关(图未示)、搅拌转动方向按键(未标注)、搅拌时间设置按键(未标注)、升降开关(图未示)、升降方向按键(图未示)和升降高度按键(图未示)。

具体地，当使用者使用研磨装置对陶瓷粉体进行搅拌研磨时，首先打开升降开关，使用升降高度按键设置好上升的高度，使用升降方向按键将搅拌桨211向上升起，使得搅拌桶212可以完全暴露。然后将磨介 213、陶瓷粉体和水按照预先计算好的比例放入搅拌桶212中。使用搅拌转动方向按键设置好搅拌转动方向，使用搅拌时间设置按键设置好搅拌的时间。然后使用升降方向按键将搅拌桨211向下放置在搅拌桶212 内。搅拌桶212包括料桶盖(未标注)，料桶盖为由两块可拆分的半圆形透明料板组成，半圆形透明料板拼成的圆形中心设置有圆孔。搅拌轴 215可以穿越过圆孔，配合两块可拆分的半圆形透明料板可以在搅拌的过程中保持搅拌桶212的密封性。然后使用搅拌开关开启搅拌过程，搅拌过程中磨介213因具备良好的稳定性，其体积和形态并不发生变化。在磨介213表面和搅拌桨211在对陶瓷粉体进行来回摩擦的过程中，逐渐将陶瓷粉体研磨更细更均匀，从而使得陶瓷粉体更加均匀，提升陶瓷粉体的品质。

在搅拌的过程中，磨介213表面和搅拌桨211在对陶瓷粉体进行不断地摩擦，就会产生大量的热量，而大量的热量会使得陶瓷粉体中的水被蒸发，进而使得陶瓷粉体团结，因此在搅拌过程中，需要对搅拌桶212 进行冷却。

参阅图2，为了能够冷却搅拌桶212并且使用设备的简洁化，搅拌机构2可以包含搅拌设备210，搅拌设备210上的搅拌桶212内可以设置有腔体216，腔体216用于放置磨介213和陶瓷粉体。腔体216内壁与搅拌桶212外壁之间设置有夹层315；搅拌桶212外壁设置有桶壁进水口217和桶壁出水口218，冷却水可以通过桶壁进水口217通入夹层，搅拌桶212具备良好的导热性，可以将搅拌过程中的热量传递给水，在通过桶壁出水口218对加热的水进行排出。

需要注意的是，搅拌过程中，因为发热最严重的部位是腔体216底部，所以搅拌桶212外壁下端设置桶壁进水口217，搅拌桶212外壁上端设置桶壁出水口218，冷却水可以在夹层315内从下往上流动，先冷却发热最严重的部位，以保持腔体216的底部一直处在较低的温度范围。

进一步参阅图4，为了更好的冷却效果，研磨装置还可以包括冷却机构3。该冷却机构3可以包括冷却设备310，冷却设备上可以设置注水口314，用于加水，冷却设备310可以冷却被搅拌桶212加热的水，冷却设备310可以包括循环水冷却机313、进水管311和出水管312。进水管311可以连接搅拌桶212外壁下端的桶壁进水口217，出水管312 可以连接搅拌桶212外壁上端的桶壁出水口218，循环水冷却机313通过进水管311和出水管312连接所述搅拌桶212，从而对加热的水进行冷却，从而使得桶壁进水口217获得冷却水，以对腔体216的底部进行更好地冷却。

其中，循环水冷却机313可以包括温度传感器(图未示)、冷却压缩机(图未示)、循环水泵(图未示)、冷却开关(图未示)和水泵开关(图未示)。温度传感器可以包括温度探头(图未示)，温度探头可以设置在搅拌桶212出水口处，用于测量水温。出水管312的水通过循环水泵连接冷却压缩机得到冷却水，冷却水通过进水管311输送至夹层 315。

需要注意的是，温度探头可以有多个，也可以有一个，但为了测量温度的准确性，可以采用更多的温度探头，具体温度探头的使用个数在此处并不做限定。

为了更好地控制冷却过程，冷却机构3还可以包括冷却控制设备 320，冷却控制设备320可以包括温控显示屏(未标注)、温度调节键 (图未示)和水速调节键(图未示)，温控显示屏、温度调节键和水速调节键可以均设置于冷却控制设备320上，冷却控制设备320可以设置于循环水冷却机313上，以方便操作人员的操控。冷却控制设备320可以与循环水冷却机313连接，用于控制冷却开关、水泵开关。温控显示屏可以根据温度探头所测量的温度进行实时显示，根据实时显示的温度曲线通过温度调节键和水速调节键对冷却水的温度和流速进行控制，使得控制搅拌过程中冷却水的温度恒定于0-10摄氏度。

在搅拌的过程中，因为搅拌的速度很快，所引起的震动就容易引起一系列的不安全因素。为了保证搅拌过程的稳定性和安全性，支架1可以为固定支架；固定支架可以包括支架顶台11、支架体12、搅拌支架 13和底座14。支架顶台11可以通过支架体12与底座14相连；支架顶台11可以用于悬挂搅拌电机214。支架体12可以用于承载搅拌控制设备220，底座14可以用于固定支架体12，搅拌支架13可以设置于支架 1上，用于承载搅拌桶212，这样在搅拌的过程中，稳稳地将搅拌机构2 固定住，可以有效地提高搅拌过程的稳定性和安全性。

以上所述仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种搅拌式陶瓷粉体研磨装置，其特征在于，包括:

支架以及设置于所述支架上的搅拌机构；

其中，所述搅拌机构包括搅拌桨、搅拌桶和放置于所述搅拌桶内的磨介；所述搅拌桨在搅拌陶瓷粉体时设置于所述搅拌桶内，所述磨介用于配合所述搅拌桨研磨所述陶瓷粉体；

还包括可转动横轴，所述搅拌桶底部固定于所述可转动横轴上。

2.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，还包括手柄，所述可转动横轴至少一端与所述手柄通过齿轮啮合连接，所述手柄用于带动所述可转动横轴转动。

3.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述磨介分布于所述搅拌桶的侧壁及所述搅拌桶的侧壁与底部的连接处。

4.根据权利要求3所述的研磨装置，其特征在于，所述陶瓷粉体与所述磨介的体积比为1:1～3:1，所述磨介的直径尺寸为1～10mm。

5.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述搅拌机构包括升降电机、搅拌电机和搅拌轴；所述升降电机用于带动所述搅拌桨升降；所述搅拌轴的一端与所述搅拌电机相连，所述搅拌轴的另一端与所述搅拌桨固定相连。

6.根据权利要求5所述的研磨装置，其特征在于，所述搅拌机构还包括搅拌控制设备；所述搅拌控制设备与所述搅拌电机连接，用于控制所述搅拌轴的转动方向、转动速度、转动时间，以配合所述磨介研磨所述陶瓷粉体。

7.根据权利要求6所述的研磨装置，其特征在于，所述搅拌控制设备与所述升降电机连接，还用于控制所述搅拌桨的升降。

8.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述搅拌桶内设置有腔体，所述腔体用于放置所述磨介和所述陶瓷粉体；所述腔体内壁与所述搅拌桶外壁之间设置有夹层，所述夹层用于盛放流动的吸热物质；所述搅拌桶外壁设置有桶壁进水口和桶壁出水口。

9.根据权利要求6所述的研磨装置，其特征在于，所述支架为固定支架；所述固定支架包括支架顶台、支架体、搅拌支架和底座；所述支架顶台通过所述支架体与所述底座相连；所述支架顶台用于悬挂所述搅拌电机；所述支架体用于承载所述搅拌控制设备；所述底座用于固定所述支架体；所述搅拌支架设置于所述支架上，用于承载所述搅拌桶。

10.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述搅拌桶包括料桶盖，所述料桶盖为由两块可拆分的半圆形透明料板组成，所述半圆形透明料板拼成的圆形中心设置有圆孔。

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