CN211923327U - 一种幻彩双层底坯柔光抛晶大理石 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种幻彩双层底坯柔光抛晶大理石，属于建筑陶瓷装饰技术领域，自下而上依次设置坯体、面釉层、图案层和负离子钻石釉层；坯体包括下层的幻彩坯体层和上层的超白坯体层。本实用新型通过特殊的结构设置，使柔光大理石进行开槽切割后更容易凸显石材的肌肤质感和纹理的立体感，层次更立体丰富，高度迎合了高品质家居生活人群的极致追求；同时，通过特殊的结构设置使本实用新型的柔光抛晶大理石在开槽切割加工过程中不易开裂。

Description

一种幻彩双层底坯柔光抛晶大理石

技术领域

本实用新型属于建筑陶瓷装饰技术领域，具体涉及一种幻彩双层底坯柔光抛晶大理石。

背景技术

目前陶瓷市场上呈现出需求高档化、艺术化、个性化、兼具功能性产品等特点，具有健康高品味的装饰材料成为消费的主流。而大理石就是名贵独特的装饰性较好的健康产品之一。

现有技术中的大理石采用普通坯或者色坯，再经丝网、辊筒或者喷墨打印机将普通着色花釉或墨水印制在面釉上，最后淋上一层透明生料釉再经抛光，使表面产生类似大理石的视觉效果。虽然颜色丰富多姿，但这样的大理石并不能很好的应对开槽加工。由于用大理石做装饰时，经常用到在表面开槽的工艺，因此现代装修也会有动机对大理石开槽，现有技术的大理石色泽集中在面釉及生料釉层，开槽后切割面直接露出坯体，尤其缺少石材的肌肤质感和纹理的立体感，层次单调；而且坯体表面松软易吸水，往往导致面釉渗水变色，同时在开槽切割加工时大理石容易开裂。

因此，急需一种能够在开槽切割后凸显石材的肌肤质感和纹理的立体感、层次更立体丰富且不易开裂的大理石。

实用新型内容

本实用新型的目的为解决上述现有技术的不足，提供一种能够在开槽切割后凸显石材的肌肤质感和纹理的立体感、层次更立体丰富且不易开裂的大理石。为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案为：

一种幻彩双层底坯柔光抛晶大理石,所述大理石自下而上依次设置坯体、面釉层、图案层和负离子金刚釉层；所述坯体包括下层的幻彩坯体层和上层的超白坯体层。

进一步地，所述负离子钻石釉层的厚度为0.2～0.6mm。

进一步地，所述面釉层3厚度为0.08-0.2mm。

进一步地，所述负离子钻石釉层外表面柔抛光的厚度为0.05～0.1mm。

进一步地，所述底坯投影外一侧设置有凸起，所述底坯投影外所述凸起的对侧设置有凹槽；所述凸起用于与另一件对应拼装大理石的凹槽榫卯配合。

本实用新型的有益效果为：

本实用新型通过特殊的结构设置，使柔光大理石进行开槽切割后更容易凸显石材的肌肤质感和纹理的立体感，层次更立体丰富，高度迎合了高品质家居生活人群的极致追求；同时，通过特殊的结构设置使本实用新型的柔光抛晶大理石在开槽切割加工过程中不易开裂。

附图说明

图1是本实用新型整体结构示意图；

其中，1、幻彩坯体层；2、超白坯体层；3、面釉层；4、图案层；5、负离子钻石釉层。

具体实施方式

本实用新型提供一种幻彩双层底坯柔光抛晶大理石。以下结合附图对本实用新型技术方案进行详细描述，以使其更易于理解和掌握。

实施例1

一种幻彩双层底坯柔光抛晶大理石，所述大理石自下而上依次设置坯体、面釉层3、图案层4、负离子钻石釉层5；坯体包括下层的幻彩坯体层1和上层的超白坯体层2。

本实施例中，负离子钻石釉层5的厚度为0.2-0.6mm。

本实施例中，面釉层3厚度为0.08-0.2mm。

负离子金刚釉层5外表面柔抛光的厚度为0.05～0.1mm。

图案层4常用的墨水颜色有包裹红、红棕、桔黄、浅黄、蓝色、黑色等，具体颜色可根据需要形成的图案来选择。

本实施例中，负离子钻石釉层5的釉层厚度加厚到0.2-0.6mm，可以更好保护图案层4。当负离子钻石釉层5釉面在外力刮划下磨花后，可以在经过抛光机重回亮面。

本实施例中的超白坯体2可以对幻彩坯体1和负离子钻石釉层5起到承上启下作用，第一，对于深色纹理大理石可以减少幻彩坯体1对负离子钻石釉层5釉面图案层的影响；第二，超白釉面的大理石坯体和釉层间加入超白基料后比整个坯体都采用超白基料成本低很多；第三，由超白基料形成的超白坯体层2具有良好的韧性和粘合性，使超白坯体层2与幻彩坯体层1之间完美的结合，故大理石坯体在开槽切割加工时具有更好的韧性和抗裂性，因此，在切割过程中大理石不易开裂，可以根据需要切割加工各种形状；尤其是超白坯体具有很好的防水效果，适当厚度的超白坯体可以隔绝幻彩坯体中的水份渗入到面釉层。

现有技术中的普通底坯都是暗棕或者暗黄色，不美观。本实施例中的幻彩坯层1是为了达到和天然大理石各式纹理相同进行设置的，主要目的是在一些高端装饰需要切割、挖槽的瓷砖断面层体现出和天然大理石非常相似的效果。

本实例中，底坯投影外一侧设置有凸起，底坯投影外凸起的对侧设置有凹槽；凸起用于与另一件对应拼装大理石的凹槽榫卯配合，用于在大理石组装时的大理石定位，提高了组装效率。

此外，在本实施例中，负离子钻石釉层使用的原粉料为负离子粉和钻石釉的混合，其中负离子粉是一种纳米级的珍贵天然矿物原料粉，其自身微有放射性，在加入大理石釉层后经大量实验分析，负离子钻石釉层的大理石既能保证放射性低于国家标准，又能保证室内有足够的负离子数量5000个/cm³，同时还具有除甲醛、去异味、抑菌、净化空气的功能。

本实施例中，幻彩坯体层1为现有技术，如：实用新型专利CN201120242399.6一种幻彩陶瓷砖。

超白坯体层2采用超白基料制作而成。

本实施例中，幻彩坯体层1厚度为10mm，超白坯体2厚度为0.5mm，面釉层3厚度为0.2mm、图案层4厚度为0.05mm，负离子钻石釉层5厚度为0.5mm。

以上对本实用新型的技术方案进行了充分描述，需要说明的是，本实用新型的具体实施方式并不受上述描述的限制，本领域的普通技术人员依据本实用新型的精神实质在结构、方法或功能等方面采用等同变换或者等效变换而形成的所有技术方案，均落在本实用新型的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种幻彩双层底坯柔光抛晶大理石,其特征在于，所述大理石自下而上依次设置坯体、面釉层(3)、图案层(4)和负离子钻石釉层(5)；所述坯体包括下层的幻彩坯体层(1)和上层的超白坯体层(2)。

2.根据权利要求1所述的柔光抛晶大理石，其特征在于，所述负离子钻石釉层(5)的厚度为0.2～0.6mm。

3.根据权利要求1所述的柔光抛晶大理石，其特征在于，所述面釉层(3)厚度为0.08-0.2mm。

4.根据权利要求1所述的柔光抛晶大理石，其特征在于，所述负离子钻石釉层(5)外表面柔抛光的厚度为0.05～0.1mm。

5.根据权利要求1所述的柔光抛晶大理石，其特征在于，所述底坯投影外一侧设置有凸起，所述底坯投影外所述凸起的对侧设置有凹槽；所述凸起用于与另一件对应拼装大理石的凹槽榫卯配合。

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