CN211879336U - 一种boe湿法处理设备晶圆输送装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种BOE湿法处理设备晶圆输送装置，包括晶圆装载装置、晶圆盒及机械手臂，所述机械手臂滑动安装于湿法处理设备上，用于将位于所述晶圆装载装置区域的所述晶圆盒传递至所述湿法处理设备的工艺区；所述晶圆盒为上部开口、底部封闭的空腔结构，所述空腔为半圆弧形结构，其两个相对的内侧壁对称设置有多个用于容纳晶圆的晶圆槽道，其两个相对的侧壁顶部分别向外延伸设置有托耳。本实用新型能够直接应用于前端设备与湿法处理设备的动作衔接，减少了多余的动作配置，通过简易的传递动作即能完成晶圆盒的传递过程，大大提高了晶圆的湿法清洗效率。

Description

一种BOE湿法处理设备晶圆输送装置

技术领域

本实用新型属于半导体清洗工艺技术领域，具体涉及一种BOE湿法处理设备晶圆输送装置。

背景技术

在半导体清洗工艺中，有多种的晶圆清洗与刻蚀工艺，针对不同的晶圆产品需要采用不同的湿法工艺。在相关的制造过程中，需要通过多种不同的湿法清洗与刻蚀工艺的相互配合。BOE(Buffer of Etch)的二氧化硅湿法刻蚀工艺在半导体晶圆的湿法制造工艺中使用极其广泛，在建构相关的BOE湿法工艺设备时，需要采用机械手臂实现晶圆在各个湿法单元之间的传递。

由于BOE湿法工艺设备的前端设备出口与BOE湿法工艺设备入口往往不处于一条直线上，因此需要配置额外的晶圆传递机构与机械手臂进行衔接，完成晶圆在前端设备与湿法工艺设备之间的传递过程，现有的晶圆传递机构动作行程缓慢、通用性差且动作复杂，无法实现晶圆敏捷、准确的转运，因此亟需一套完整的晶圆输送装置将晶圆由前端设备输送至湿法设备，并在湿法设备的各个工艺区间内进行转移，完成晶圆的清洗与刻蚀过程。

实用新型内容

针对现有技术中存在的问题，本实用新型提供一种BOE湿法处理设备晶圆输送装置，本实用新型能够控制与调节晶圆盒的传递过程，以直接连接前端设备与湿法工艺各区段，使晶圆盒在传递的过程中能够顺畅的转移。

为实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

本实用新型提供一种BOE湿法处理设备晶圆输送装置，包括晶圆装载装置、晶圆盒及机械手臂，所述机械手臂滑动安装于湿法处理设备上，用于将位于所述晶圆装载装置区域的所述晶圆盒传递至所述湿法处理设备的工艺区；

所述晶圆盒为上部开口、底部封闭的空腔结构，所述空腔为半圆弧形结构，其两个相对的内侧壁对称设置有多个用于容纳晶圆的晶圆槽道，其两个相对的侧壁顶部分别向外延伸设置有托耳；

所述机械手臂包括安装座、纵向升降机构、开合机构、第一夹持臂、第二夹持臂、第一夹持架及第二夹持架，所述升降机构的固定端安装于所述安装座上，所述开合机构安装于所述升降机构的输出端，所述开合机构连接所述第一夹持臂、所述第二夹持臂并带动所述第一夹持臂、所述第二夹持臂靠近或远离，所述第一夹持架安装于所述第一夹持臂上，所述第二夹持架安装于所述第二夹持臂上，所述第一夹持架、所述第二夹持架与所述托耳相匹配。

作为优选的技术方案，所述纵向升降机构为升降气缸，所述升降气缸的底座安装于所述安装座上，所述升降气缸的输出轴端部安装有集成外壳，所述开合机构安装于所述集成外壳内。

作为优选的技术方案，所述开合机构包括第一安装块、第二安装块及间距调节块，所述第一夹持臂固定安装于所述第一安装块上，所述第二夹持臂固定安装于所述第二安装块上，所述集成外壳的底部设置有横向滑槽，所述第一安装块、所述第二安装块上分别设置有横向滑块，所述横向滑块配合安装于所述横向滑槽内，所述间距调节块设置于所述第一安装块与所述第二安装块之间，所述间距调节块的下方设置有纵向滑块，所述间距调节块的下部设置有纵向滑槽，所述纵向滑槽与所述纵向滑块配合连接，所述间距调节块的宽度沿纵向呈一定斜率变化，所述间距调节块在调节气缸的驱动下沿所述纵向滑块的长度方向移动。

作为优选的技术方案，所述第一安装块、所述第二安装块的上端面靠近所述间距调节块的一侧设置有滚动轮。

作为优选的技术方案，所述第一安装块两侧的所述第一夹持臂上、所述第二安装块两侧的所述第二夹持臂上设置有导向块，所述纵向滑块安装于滑块座上，所述导向块与所述滑块座之间设置有伸缩弹簧。

作为优选的技术方案，所述晶圆装载装置包括入料平台、Y轴水平传递平台、Z轴垂直传递平台、X轴水平传递平台及接料平台，所述Z轴垂直传递平台的底座与所述Y轴水平传递平台滑动连接，所述X轴水平传递平台位于所述Y轴水平传递平台一侧的上方，所述Z轴垂直传递平台的顶端设置有晶圆盒支撑板，所述入料平台设置于所述Y轴水平传递平台的上方，所述接料平台与所述X轴水平传递平台滑动连接，所述Z轴垂直传递平台在动力机构的驱动下于所述入料平台与所述接料平台之间往复运动通过晶圆盒支撑板将所述入料平台上的晶圆盒传递至所述接料平台上。

作为优选的技术方案，所述入料平台与所述接料平台的结构相同，其主体为一平板结构，一侧开设有通道槽口，中部设置有支撑板通槽，所述通道槽口与所述支撑板通槽连通，所述支撑板通槽允许所述晶圆盒支撑板通过且不允许晶圆盒通过，所述入料平台上的通道槽口朝向所述接料平台，所述接料平台上的通道槽口朝向所述Y轴水平传递平台。

作为优选的技术方案，所述晶圆盒支撑板将所述入料平台上的晶圆盒传递至所述接料平台时，所述入料平台上支撑板通槽中心与所述接料平台支撑板通槽中心的连线与所述Y轴水平传递平台的长度方向平行。

作为优选的技术方案，所述平板结构上靠近所述支撑板通槽的四个角点处设置有晶圆盒定位角，至少一个所述晶圆盒定位角的内侧壁设置有红外检测开关。

作为优选的技术方案，所述入料平台中所述通道槽口的两侧设置有对射型传感器。

作为优选的技术方案，所述晶圆盒支撑板的上端面设置有限位卡块，所述限位卡块与所述晶圆盒底部的限位卡槽相匹配。

作为优选的技术方案，所述Y轴水平传递平台包括平台支撑板及限位导向柱，所述限位导向柱沿所述平台支撑板的长度方向设置，所述Z轴垂直传递平台的底座上设置有与所述限位导向柱相匹配的限位导向槽，所述Z轴垂直传递平台连接动力机构的输出端。

作为优选的技术方案，所述平台支撑板上远离所述X轴水平传递平台的一端设置有侦测传感器，所述Z轴垂直传递平台的底座上设置有与所述侦测传感器相匹配的侦测金属片。

作为优选的技术方案，所述Z轴垂直传递平台包括底座、伸缩气缸及限位导向板，所述伸缩气缸的固定端安装于所述底座上，所述限位导向板安装于通过连接柱安装于所述伸缩气缸的固定端，所述伸缩气缸的输出端穿过所述限位导向板，所述晶圆盒支撑板安装于所述伸缩气缸的输出端。

作为优选的技术方案，所述X轴水平传递平台包括支撑板、加强板、无杆气缸、固定滑轨及滑台，所述固定滑轨沿所述支撑板的长度方向设置，所述滑台固定安装于所述加强板上，所述滑台滑动安装于所述固定滑轨上，所述无杆气缸的固定端安装于所述支撑板上，输出端连接所述加强板，所述接料平台安装于所述加强板的顶端。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果为：

(1)本实用新型通过机械手臂将晶圆装载装置区域的晶圆盒传递至湿法工艺设备的各个工艺区，机械手臂上的第一夹持架、第二夹持架与晶圆盒上的托耳相配合，减少了运动路径，提高了晶圆盒的传递效率。

(2)本实用新型能够直接应用于前端设备与湿法处理设备的动作衔接，减少了多余的动作配置，通过简易的传递动作即能完成晶圆盒的传递过程，大大提高了晶圆的湿法清洗效率。

(3)本实用新型能够适用于不同型号、不同安装位置的前端设备与湿法处理设备之间的衔接，普适性强。

(4)本实用新型全程采用自动化控制，无需人工参与，每个动作皆不造成相关的错位及物理干涉现象，能够对晶圆盒的移动过程进行准确的控制。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型BOE湿法处理设备晶圆输送装置的结构示意图。

图2为本实用新型BOE湿法处理设备晶圆输送装置中晶圆盒的结构示意图。

图3为本实用新型BOE湿法处理设备晶圆输送装置中机械手臂的局部放大图。

图4为本实用新型BOE湿法处理设备晶圆输送装置中晶圆装载装置的结构示意图。

图5为本实用新型BOE湿法处理设备晶圆输送装置中入料平台的结构示意图。

图6为本实用新型BOE湿法处理设备晶圆输送装置中Y轴水平传递平台的结构示意图。

图7为本实用新型BOE湿法处理设备晶圆输送装置中Z轴垂直传递平台的结构示意图。

图8为本实用新型BOE湿法处理设备晶圆输送装置中X轴水平传递平台的结构示意图。

其中，入料平台1、Y轴水平传递平台2、Z轴垂直传递平台3、X轴水平传递平台4、晶圆盒支撑板5、平板结构6、晶圆盒定位角7、红外检测开关8、对射型传感器9、支撑板通槽10、通道槽口11、平台支撑板12、限位导向柱13、侦测传感器14、侦测金属片15、束线坦克链16、限位导向槽17、伸缩气缸18、限位导向板19、限位卡块20、接料平台21、支撑板22、加强板23、固定滑轨24、滑台25、无杆气缸26、机械手臂27、晶圆盒28、晶圆装载装置29、晶圆槽道30、托耳31、限位卡槽32、安装座33、升降气缸34、集成外壳35、第一夹持臂36、第二夹持臂37、第一夹持架38、第二夹持架39、第一安装块40、第二安装块41、间距调节块42、滚动轮43、横向滑槽44、滑块座45、纵向滑块46、导向块47、伸缩弹簧48。

具体实施方式

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

如图1所示，本实施例提供一种BOE湿法处理设备晶圆输送装置，包括晶圆装载装置29、晶圆盒28及机械手臂27，机械手臂27滑动安装于湿法处理设备上，用于将位于晶圆装载装置29区域的晶圆盒28传递至湿法处理设备的工艺区。

如图2所示，晶圆盒28为上部开口、底部封闭的空腔结构，空腔为半圆弧形结构，其两个相对的内侧壁对称设置有多个用于容纳晶圆的晶圆槽道30，其两个相对的侧壁顶部分别向外延伸设置有托耳31，晶圆盒28的底部设置有限位卡槽32。

如图1及图3所示，机械手臂27包括安装座33、纵向升降机构、开合机构、第一夹持臂36、第二夹持臂37、第一夹持架38及第二夹持架39，升降机构的固定端安装于安装座33上，开合机构安装于升降机构的输出端。本实施例中，纵向升降机构为升降气缸34，升降气缸34的底座安装于安装座33上，升降气缸34的输出轴端部安装有集成外壳35，开合机构安装于集成外壳35内。

开合机构连接第一夹持臂36、第二夹持臂37并带动第一夹持臂36、第二夹持臂37靠近或远离，第一夹持架38安装于第一夹持臂36上，第二夹持架39安装于第二夹持臂37上，第一夹持架38、第二夹持架39与托耳31相匹配。开合机构包括第一安装块40、第二安装块41及间距调节块42，第一夹持臂36固定安装于第一安装块40上，第二夹持臂37固定安装于第二安装块41上，集成外壳35的底部设置有横向滑槽44，第一安装块40、第二安装块41上分别设置有横向滑块，横向滑块配合安装于横向滑槽44内，间距调节块42设置于第一安装块40与第二安装块41之间，第一安装块40、第二安装块41的上端面靠近间距调节块42的一侧设置有滚动轮43。间距调节块42的下方设置有纵向滑块46，纵向滑块46安装于滑块座45上，间距调节块42的下部设置有纵向滑槽，纵向滑槽与纵向滑块46配合连接，间距调节块42的宽度沿纵向呈一定斜率变化，整体呈梯形，间距调节块42在调节气缸的驱动下沿纵向滑块46的长度方向移动。第一安装块40两侧的第一夹持臂36上、第二安装块40两侧的第二夹持臂37上设置有导向块47，导向块47与滑块座45之间设置有伸缩弹簧48。

如图4所示，晶圆装载装置29包括入料平台1、Y轴水平传递平台2、Z轴垂直传递平台3、X轴水平传递平台4及接料平台21，入料平台1用于接收前端设备提供的装载晶圆片的晶圆盒28，可以通过放置晶圆盒28的装置SMIF或Load port或手动将晶圆盒28放置在入料平台1上，入料平台1位于Y轴水平传递平台2的上方。Y轴水平传递平台2用于提供晶圆盒28在Y轴方向的直线传输动作，传递至指定位置后，Z轴垂直传递平台3的抬升动作将晶圆盒28传递至X轴水平传递平台4。Z轴垂直传递平台3安装在Y轴水平传递平台2上，能够进行垂直传递的动作，移动至指定高度后，用于衔接后续的X轴方向的传递的动作，Z轴垂直传递平台3的顶端设置有晶圆盒支撑板5。X轴水平传递平台4位于Y轴水平传递平台2一侧的上方，X轴水平传递平台4上设置有可以沿X轴水平传递平台4长度方向移动的接料平台21，将晶圆盒28进行水平传递至指定的位置，由机械手臂27夹持后转移至湿法工艺区域。以下结合附图对入料平台1、Y轴水平传递平台2、Z轴垂直传递平台3、X轴水平传递平台4及接料平台21进行详细的说明。

如图5所示，入料平台1的主体为矩形状的平板结构6，其一侧开设有通道槽口11，中部设置有支撑板通槽10，通道槽口11与支撑板通槽10连通，形成类似于U型的结构，支撑板通槽10的大小允许晶圆盒支撑板5从支撑板通槽10通过，但不允许晶圆盒28通过，入料平台1上的通道槽口11朝向接料平台21。平板结构6上靠近支撑板通槽10的四个角点处设置有晶圆盒定位角7，至少一个晶圆盒定位角7的内侧壁设置有红外检测开关8，本实施例中，每个晶圆盒定位角7的内侧壁均设置有红外检测开关8，晶圆盒定位角7对晶圆盒28的放置位置具有限制的作用。红外检测开关8用于对晶圆盒28进行一次检测，当晶圆盒28放置到指定位置时，红外检测开关8能够感应的信号，说明晶圆盒28放置位置合格。为了检测Z轴垂直传递平台3上晶圆盒支撑板5的运动行程，在入料平台1的通道槽口11两侧设置有对射型传感器9，当入料平台1通过通道槽口11时，对射型传感器9能感应到信号，其作用有两个，其一是对晶圆盒28的放置位置进行二次检测，其二是对晶圆盒28的转移过程进行检测。

接料平台21的结构与入料平台1的结构相同，其设置时，通道槽口11朝向Y轴水平传递平台2。

如图6所示，Y轴水平传递平台2包括平台支撑板12、限位导向柱13及侦测传感器14，平台支撑板12为一矩形板，沿平台支撑板12的长度方向设置有限位导向柱13，本实施例中限位导向柱13平行设置有三个。Z轴垂直传递平台3的底座上设置有与限位导向柱13相匹配的限位导向槽17，Z轴垂直传递平台3的底座连接动力机构的输出端，动力机构可采用长行程单轴向气缸或者长行程单轴机器人，侦测传感器14设置于平台支撑板12上远离X轴水平传递平台4的一端，Z轴垂直传递平台3的底座上设置有与侦测传感器14相匹配的侦测金属片15，可实现对Z轴垂直传递平台3的运动行程进行检测，侦测传感器14可根据需要选择气缸用磁感侦测传感器14或单轴机器人用微型光电开关。平台支撑板12的一侧设置有束线坦克链16，用于对动力机构的线缆进行收纳。

如图7所示，Z轴垂直传递平台3包括底座、伸缩气缸18及限位导向板19，伸缩气缸18的固定端安装于底座上，限位导向板19安装于通过连接柱安装于伸缩气缸18的固定端，伸缩气缸18的输出端穿过限位导向板19，晶圆盒支撑板5安装于伸缩气缸18的输出端。晶圆盒支撑板5的上端面设置有限位卡块20，限位卡块20与晶圆盒28底部的限位卡槽32相匹配。

如图8所示，X轴水平传递平台4包括支撑板22、加强板23、无杆气缸26、固定滑轨24及滑台25，固定滑轨24沿支撑板22的长度方向设置，滑台25固定安装于加强板23上，滑台25滑动安装于固定滑轨24上，无杆气缸26的固定端安装于支撑板22上，输出端连接加强板23，接料平台21安装于加强板23的顶端。晶圆盒支撑板5将入料平台1上的晶圆盒28传递至接料平台21时，入料平台1上支撑板通槽10中心与接料平台21平台支撑板12支撑板22通槽10中心的连线与Y轴水平传递平台2的长度方向平行。X轴水平传递平台4的支撑板22在指定位置配置引流槽体，避免在机械手臂27进入X轴水平传递平台4区域有液体的喷溅行为产生。

本实施例的工作过程如下：

前端设备通过SMIF或Load port或手动将晶圆盒28放置在入料平台1上四个晶圆盒定位角7内，晶圆盒定位角7内侧壁上的红外检测开关8检测到信号后，驱动Z轴垂直传递平台3的动力机构动作，带动晶圆盒支撑板5运动至入料平台1的支撑板通槽10的正下方，侦测传感器14感应到信号后，动力机构停止动作。Z轴垂直传递平台3的伸缩气缸18动作向上顶出晶圆盒支撑板5，晶圆盒支撑板5上表面的限位卡块20与晶圆盒28底部的限位卡槽32相匹配，晶圆盒28被顶起后，红外检测开关8检测到晶圆盒28移除的信号，动力机构工作，带动晶圆盒支撑板5由通道槽口11移出，运动至X轴水平传递平台4的一端，对射型传感器9感应到移除信号，无杆气缸26带动接料平台21运动至晶圆盒支撑板5的正下方，伸缩气缸18带动晶圆盒支撑板5向下运动，晶圆盒28落入接料平台21内，接料平台21上，晶圆盒定位角7内侧壁上的红外检测开关8感应到晶圆盒28的位置信号后，无杆气缸26动作，带动接料平台21运动至机械手臂27的夹持位。当机械手臂27需要对晶圆盒28进行夹持时，调节气缸带动间距调节块42沿纵向滑块46的长度方向移动，由于间距调节块42为梯形，间距调节块42移动的过程中，使得第一安装块40、第二安装块41向两侧移动，第一夹持臂36与第二夹持臂37之间的间距增大。第一夹持架38、第二夹持架39位于晶圆盒28正上方时，升降气缸34动作，使得第一夹持架38、第二夹持架39与托耳31配合处下降至托耳31的下方。调节气缸带动间距调节块42方向移动，在伸缩弹簧48的弹力作用下，第一夹持臂36与第二夹持臂37收拢，升降气缸34动作，带动第一夹持架38、第二夹持架39向上运动，将晶圆盒28抬起，传送至湿法处理设备的工艺区。

湿法工艺设备包括BOE Buffer Etchant清洗区域、QDR1纯水快排清洗区域、SC1碱性溶液清洗区域、QDR2纯水快排清洗区域、IPA异丙醇清洗区域、QDR3纯水快排清洗区域、Hot N2 Dryer晶圆干燥区域。

BOE Buffer Etchant清洗区域配置清洗槽体与管路连结，通过特定二氧化硅Buffer Etchant进行刻蚀工艺。

QDR1纯水快排清洗区域在上一工艺结束将晶圆片进行超纯水快速排放清洗。

SC1碱性溶液清洗区域配置特定碱性组合溶液对晶圆进行表面结构应力缓解以及表面张力的控制。

QDR2纯水快排清洗区域在上一工艺结束将晶圆片进行超纯水快速排放清洗。

IPA异丙醇清洗区域配置有机溶剂组合溶液进行晶圆表面非定型残余物的以及表面张力的控制。

QDR3纯水快排清洗区域在上一工艺结束将晶圆片进行超纯水快速排放清洗。

Hot N2 Dryer晶圆干燥区域此为清洗工艺区域的最后一个占点区域，对晶圆清洗工艺的进行收尾的动作，对晶圆的表面进行干燥。

尽管上述实施例已对本实用新型作出具体描述，但是对于本领域的普通技术人员来说，应该理解为可以在不脱离本实用新型的精神以及范围之内基于本实用新型公开的内容进行修改或改进，这些修改和改进都在本实用新型的精神以及范围之内。

Claims (15)

1.一种BOE湿法处理设备晶圆输送装置，其特征在于，包括晶圆装载装置、晶圆盒及机械手臂，所述机械手臂滑动安装于湿法处理设备上，用于将位于所述晶圆装载装置区域的所述晶圆盒传递至所述湿法处理设备的工艺区；

所述晶圆盒为上部开口、底部封闭的空腔结构，所述空腔为半圆弧形结构，其两个相对的内侧壁对称设置有多个用于容纳晶圆的晶圆槽道，其两个相对的侧壁顶部分别向外延伸设置有托耳；

所述机械手臂包括安装座、纵向升降机构、开合机构、第一夹持臂、第二夹持臂、第一夹持架及第二夹持架，所述升降机构的固定端安装于所述安装座上，所述开合机构安装于所述升降机构的输出端，所述开合机构连接所述第一夹持臂、所述第二夹持臂并带动所述第一夹持臂、所述第二夹持臂靠近或远离，所述第一夹持架安装于所述第一夹持臂上，所述第二夹持架安装于所述第二夹持臂上，所述第一夹持架、所述第二夹持架与所述托耳相匹配。

2.如权利要求1所述的一种BOE湿法处理设备晶圆输送装置，其特征在于，所述纵向升降机构为升降气缸，所述升降气缸的底座安装于所述安装座上，所述升降气缸的输出轴端部安装有集成外壳，所述开合机构安装于所述集成外壳内。

3.如权利要求2所述的一种BOE湿法处理设备晶圆输送装置，其特征在于，所述开合机构包括第一安装块、第二安装块及间距调节块，所述第一夹持臂固定安装于所述第一安装块上，所述第二夹持臂固定安装于所述第二安装块上，所述集成外壳的底部设置有横向滑槽，所述第一安装块、所述第二安装块上分别设置有横向滑块，所述横向滑块配合安装于所述横向滑槽内，所述间距调节块设置于所述第一安装块与所述第二安装块之间，所述间距调节块的下方设置有纵向滑块，所述间距调节块的下部设置有纵向滑槽，所述纵向滑槽与所述纵向滑块配合连接，所述间距调节块的宽度沿纵向呈一定斜率变化，所述间距调节块在调节气缸的驱动下沿所述纵向滑块的长度方向移动。

4.如权利要求3所述的一种BOE湿法处理设备晶圆输送装置，其特征在于，所述第一安装块、所述第二安装块的上端面靠近所述间距调节块的一侧设置有滚动轮。

5.如权利要求3所述的一种BOE湿法处理设备晶圆输送装置，其特征在于，所述第一安装块两侧的所述第一夹持臂上、所述第二安装块两侧的所述第二夹持臂上设置有导向块，所述纵向滑块安装于滑块座上，所述导向块与所述滑块座之间设置有伸缩弹簧。

6.如权利要求1所述的一种BOE湿法处理设备晶圆输送装置，其特征在于，所述晶圆装载装置包括入料平台、Y轴水平传递平台、Z轴垂直传递平台、X轴水平传递平台及接料平台，所述Z轴垂直传递平台的底座与所述Y轴水平传递平台滑动连接，所述X轴水平传递平台位于所述Y轴水平传递平台一侧的上方，所述Z轴垂直传递平台的顶端设置有晶圆盒支撑板，所述入料平台设置于所述Y轴水平传递平台的上方，所述接料平台与所述X轴水平传递平台滑动连接，所述Z轴垂直传递平台在动力机构的驱动下于所述入料平台与所述接料平台之间往复运动通过晶圆盒支撑板将所述入料平台上的晶圆盒传递至所述接料平台上。

7.如权利要求6所述的一种BOE湿法处理设备晶圆输送装置，其特征在于，所述入料平台与所述接料平台的结构相同，其主体为一平板结构，一侧开设有通道槽口，中部设置有支撑板通槽，所述通道槽口与所述支撑板通槽连通，所述支撑板通槽允许所述晶圆盒支撑板通过且不允许晶圆盒通过，所述入料平台上的通道槽口朝向所述接料平台，所述接料平台上的通道槽口朝向所述Y轴水平传递平台。

8.如权利要求7所述的一种BOE湿法处理设备晶圆输送装置，其特征在于，所述晶圆盒支撑板将所述入料平台上的晶圆盒传递至所述接料平台时，所述入料平台上支撑板通槽中心与所述接料平台支撑板通槽中心的连线与所述Y轴水平传递平台的长度方向平行。

9.如权利要求7所述的一种BOE湿法处理设备晶圆输送装置，其特征在于，所述平板结构上靠近所述支撑板通槽的四个角点处设置有晶圆盒定位角，至少一个所述晶圆盒定位角的内侧壁设置有红外检测开关。

10.如权利要求9所述的一种BOE湿法处理设备晶圆输送装置，其特征在于，所述入料平台中所述通道槽口的两侧设置有对射型传感器。

11.如权利要求6所述的一种BOE湿法处理设备晶圆输送装置，其特征在于，所述晶圆盒支撑板的上端面设置有限位卡块，所述限位卡块与所述晶圆盒底部的限位卡槽相匹配。

12.如权利要求6所述的一种BOE湿法处理设备晶圆输送装置，其特征在于，所述Y轴水平传递平台包括平台支撑板及限位导向柱，所述限位导向柱沿所述平台支撑板的长度方向设置，所述Z轴垂直传递平台的底座上设置有与所述限位导向柱相匹配的限位导向槽，所述Z轴垂直传递平台连接动力机构的输出端。

13.如权利要求12所述的一种BOE湿法处理设备晶圆输送装置，其特征在于，所述平台支撑板上远离所述X轴水平传递平台的一端设置有侦测传感器，所述Z轴垂直传递平台的底座上设置有与所述侦测传感器相匹配的侦测金属片。

14.如权利要求6所述的一种BOE湿法处理设备晶圆输送装置，其特征在于，所述Z轴垂直传递平台包括底座、伸缩气缸及限位导向板，所述伸缩气缸的固定端安装于所述底座上，所述限位导向板安装于通过连接柱安装于所述伸缩气缸的固定端，所述伸缩气缸的输出端穿过所述限位导向板，所述晶圆盒支撑板安装于所述伸缩气缸的输出端。

15.如权利要求6所述的一种BOE湿法处理设备晶圆输送装置，其特征在于，所述X轴水平传递平台包括支撑板、加强板、无杆气缸、固定滑轨及滑台，所述固定滑轨沿所述支撑板的长度方向设置，所述滑台固定安装于所述加强板上，所述滑台滑动安装于所述固定滑轨上，所述无杆气缸的固定端安装于所述支撑板上，输出端连接所述加强板，所述接料平台安装于所述加强板的顶端。

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