CN211843915U - 一种装饰膜片 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提出一种装饰膜片。该装饰膜片包含承载层、层叠于所述承载层的纹理层,所述纹理层包含两种或两种以上处于同层的纹理,两种或两种以上所述纹理间配置有将其隔开的缝隙,所述缝隙的轭宽度介于20~300μm。这样该缝隙可以消除或减轻不同纹理拼接产生的视觉梯度差,提高装饰膜片的美感。另外该缝隙也透过填充颜料或镀膜或丝印中的一种或组合的工艺来形成装饰带或装饰条,实现另一种独特的装饰,做到层次分明又与众不同。
Description
技术领域
本实用新型涉及装饰膜片,具体的涉及一种具有多种纹理的装饰膜片。
背景技术
近年来随着科技的发展,便携式智能设备被广泛的普及,其壳体上大多采用装饰膜片。传统的装饰膜片上,纹理可能是一种,也可能是多种纹理的叠加,再结合丝印,镀膜等其他技术来实现想要的光影和装饰效果。但是单一纹理或多层纹理竖向叠加,装饰效果比较单一,不能在一张膜片上同时展现两种或多种纹理有序拼接产生的光影多层次感,独特感。
因此,业内亟需一种装饰膜片。
实用新型内容
本实用新型实施例的目的在于:提供一种装饰膜片,其在一张装饰膜上将两种或两种以上的纹理有序整合到一起,多种纹理的相邻连接处预留缝隙,以实现在同一张膜片同时展现两种或两种以上纹理,做到层次分明,与众不同的装饰效果。
为了实现上述目的,本申请采用如下技术方案,
一种装饰膜片,其特征在于,包含承载层、层叠于所述承载层的纹理层,所述纹理层包含两种或两种以上处于同层的纹理,两种或两种以上所述纹理间配置有将其隔开的缝隙,所述缝隙的轭宽度介于20~300μm。这样实现在同一张膜片同时展现两种或两种以上纹理,做到层次分明,与众不同的装饰效果。
优选的,该纹理层为压印层,所述承载层为底胶层,所述缝隙设置于所述底胶层,所述缝隙的深度介于1~15μm。
优选的,该纹理为凸起和/或凹陷设置,其高度或深度介于50nm~35μm,所述底胶层在缝隙处的厚度介于1~15μm。
优选的,该两种或两种以上所述纹理中至少有一种纹理为截面呈三角状的锯齿纹。
优选的,该缝隙的截面呈矩形、梯形或三角形。
优选的,该缝隙的侧壁呈直线状、向所述缝隙内凸出的具有弧度的曲线状。
优选的,该缝隙配置有通过填充颜料、镀膜、丝印油墨中的一种或其组合形成的具有色彩的装饰带。
优选的,该装饰带呈圆形、椭圆形、四方形、直线状或曲线状。
优选的,该纹理层包含,第一纹理、第二纹理,所述第一纹理呈凹陷、第二纹理凹陷,所述缝隙的深度-第一纹理1/第二纹理2的深度大于等于1μm。
优选的,该装饰膜片还包含镀膜层和着色层,所述镀膜层层叠于纹理层背离所述承载层的一侧,所述着色层层叠于所述镀膜层背离所述纹理层的一侧。
有益效果
相对于现有技术中的方案,本申请提出的实施方式将两种或多种纹理有序整合在一张装饰膜片,多种纹理的相邻处预留有缝隙。可以做到单一纹理,或多纹理叠加无法做到的多层次光影效果。同时,该缝隙透过颜料填充或镀膜或丝印中的一种或组合的工艺形成装饰条或装饰带,实现另一种独特的装饰,做到层次分明又与众不同。
附图说明
为了更清楚地说明本说明书实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本说明书中记载的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图:
图1所示为本实用新型实施例的装饰膜片的结构示意图;
图2所示为本实用新型实施例的两种纹理拼接的结构示意图;
图3所示为本实用新型实施例的装饰膜片层状结构的示意图。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型提出的技术方案,下面将结合本说明书实施例中的附图,对本说明书实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本说明书中的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本说明书中的一个或多个实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本实用新型保护的范围。
本申请提供一种装饰膜片,其上搭载有同层的两种或多种纹理,该两种或多种纹理之间配置有将其隔开的缝隙,该缝隙的轭宽度介于20~300um,以实现单一纹理或多纹理叠加无法做到的多层次光影效果。
接下来结合附图来详细的描述本申请提出的装饰膜片,
如图1所示为本申请的装饰膜片的结构示意图;该装饰膜片10,其包含纹理11、纹理12两种不同的纹理(从外形上看)拼接在一起的组合纹理,其拼接处预留缝隙,该缝隙以消除或减轻不同纹理拼接梯度差,提高美感。
下面结合图2来描述装饰膜片的内部层状结构示意图,装饰膜片依次的层叠有离型膜206、OCA胶层205、PET载体204、纹理层203,镀膜层202、着色层201。本实施方式的装饰膜片中,离型膜206的厚度介于100~200um,OCA胶层205的厚度介于50~150um,PET载体204的厚度介于50~150μm,纹理层203的厚度介于6~20μm,镀膜层202的厚度介于200~400nm,(油墨层)201的厚度介于50~250um。
制作装饰膜片时,在PET载体上形成纹理层,在纹理层上镀膜,在镀膜层上丝印着色层(丝印层)。较佳的,在一实施方式中,制作装饰膜片时PET载体204下的纹理层203是借助模具UV转印而成。在一实施方式中,可省略镀膜层、丝印层中至少一种。
下面以装饰膜片搭载两种纹理为例来描述,请参考图3为装饰膜片的两种纹理的截面示意,第一纹理101、第二纹理102压印成型于PET载体104(的第一面)上,第一纹理101、第二纹理102之间配置有缝隙103,这样的设计以消除或减轻拼接梯度差。较佳的,该缝隙轭的宽度介于20~300um。本实施方式中,第一纹理的H1高度、第二纹理的H2高度介于1~35um,缝隙103位于底胶层且其深度H4介于1~15um,缝隙103的底部至PET载体的第一面的距离(即底胶层在缝隙103处的厚度)H3介于1~15um。
在一实施方式中,该缝隙配置成装饰带或装饰环,如通过在缝隙内填充颜料、镀膜、丝印油墨等一种或组合的方式形成装饰带,装饰带产生与第一纹理101和第二纹理102明显不同的装饰效果。本实施方式中,第一纹理101、第二纹理102均呈凸起状。在其他的实施方式中,不同的纹理可为全部呈凹陷结构或部分呈凸起与部分呈凹陷的组合。
当不同的纹理皆呈凹陷结构时,纹理间的缝隙的深度-纹理1/纹理2的深度≥1μm,这样的设计消除或减轻拼接梯度差效果好。
当不同的纹理皆呈凸起结构时,纹理的凸起高度介于50nm~35μm。这样的设计消除或减轻拼接梯度差效果好。
在一实施方式中,缝隙的截面呈为矩形、梯形、三角形等形状,其侧壁可为直线,向缝隙内凸出的具有弧度的曲线。缝隙有时也称为gap槽、拼接缝隙。
上述实施方式中的装饰膜片,其上有两种或两种以上的纹理,两种纹理的连接处预留有缝隙,这样将不同的纹理有序的整合(如,拼接)到一张装饰膜片,可以做到单一纹理或多纹理叠加无法做到的多层次光影效果。较佳的,该缝隙可通过填充颜料或镀膜或丝印中的一种或其组合来形成装饰带(装饰条),这样该装饰膜片实现独特的装饰装饰带(装饰条),做到层次分明又与众不同。在一实施方式中,该两种或两种以上纹理中至少有一种纹理的截面呈三角状的锯齿纹,该锯齿纹为条形状或锥状。
上述实施方式中的装饰膜片,其将两种不同的纹理拼接的成型于承载层(该承载层的材质可与纹理的相同,其下还可配置PET、PC、PI、CPI、PMMA或其复合层;或承载层的材质与纹理不同,如PET、PC、PI、CPI、PMMA或其复合层),或预先在模具上配置不同种纹理图案通过模具成型不同图案的纹理层,或在纹理层上先成型一种纹理,然后通过镭射等工艺制作另一种纹理或多种纹理,不同纹理的间设有缝隙,该缝隙以消除或减轻不同纹理拼接梯度差,提高美感。
上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人是能够了解本实用新型的内容并据以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡如本实用新型精神实质所做的等效变换或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种装饰膜片,其特征在于,包含承载层、
层叠于所述承载层的纹理层,所述纹理层包含两种或两种以上处于同层的纹理,
两种或两种以上所述纹理间配置有将其隔开的缝隙,所述缝隙的轭宽度介于20~300μm。
2.如权利要求1所述的装饰膜片,其特征在于,所述纹理层为压印层,所述承载层为底胶层,所述缝隙设置于所述底胶层,所述缝隙的深度介于1~15μm。
3.如权利要求2所述的装饰膜片,其特征在于,所述纹理为凸起和/或凹陷设置,其高度或深度介于50nm~35μm,所述底胶层在缝隙处的厚度介于1~15μm。
4.如权利要求1所述的装饰膜片,其特征在于,两种或两种以上所述纹理中至少有一种纹理为截面呈三角状的锯齿纹。
5.如权利要求1所述的装饰膜片,其特征在于,所述缝隙的截面呈矩形、梯形或三角形。
6.如权利要求5所述的装饰膜片,其特征在于,所述缝隙的侧壁呈直线状、向所述缝隙内凸出的具有弧度的曲线状。
7.如权利要求1所述的装饰膜片,其特征在于,所述缝隙配置有通过填充颜料、镀膜、丝印油墨中的一种或其组合形成的具有色彩的装饰带。
8.如权利要求7所述的装饰膜片,其特征在于,所述装饰带呈圆形、椭圆形、四方形、直线状或曲线状。
9.如权利要求1所述的装饰膜片,其特征在于,所述纹理层包含,第一纹理、第二纹理,所述第一纹理呈凹陷、第二纹理凹陷,所述缝隙的深度-第一纹理1/第二纹理2的深度大于等于1μm。
10.如权利要求1所述的装饰膜片,其特征在于,还包含镀膜层和着色层,所述镀膜层层叠于纹理层背离所述承载层的一侧,所述着色层层叠于所述镀膜层背离所述纹理层的一侧。
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2019
- 2019-12-22 CN CN201922318039.9U patent/CN211843915U/zh active Active
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