CN211704549U - 一种可避免二次污染的清洁消毒装置 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种可避免二次污染的清洁消毒装置,包括清洁消毒容器和设置在清洁消毒容器内的清洗消毒踏板,其中,所述清洁消毒容器内盛有消毒药液,所述清洁消毒容器内设有用于支承清洗消毒踏板使得清洗消毒踏板底面与清洁消毒容器内底面之间形成高度差的高度限位件,所述清洗消毒踏板底面与清洁消毒容器内底面之间的空间构成用于容纳储存污物并防止污物受液流冲击翻滚而造成二次污染的沉淀存储空间。本实用新型的可避免二次污染的清洁消毒装置能够对消毒药液中的污物进行容纳与隔离,使得对鞋底进行消毒的溶液始终为上清液,在提高消毒效果的同时,也避免了对鞋子以及鞋底侧面造成的二次污染。

Description

一种可避免二次污染的清洁消毒装置
技术领域
本实用新型涉及一种门垫,具体涉及一种具有消毒功能的门垫。
背景技术
随着人们对健康日益重视和防病防菌意识的不断提高,家居门外的外部公共环境日益复杂,各种病菌病毒存在的风险性不断提高,如公共厕所(特别是病人用过的厕所如医院厕所)、医院、肉菜动物市场、疫病区、被病菌病毒污染的场所等,人们由于工作、生活、学习各种原因的需要而无法避免进入这些场所,其鞋底接触污染这些病菌病毒(如烈性传染病菌病毒肝病毒、艾滋病毒、肺结核病毒、梅毒、禽流感、非洲猪瘟、沙氏病毒、寄生虫、污物等)的机会和可能性是不可排除的,因此,人们无意中通过鞋底把病菌病毒寄生虫等有害物带回家里的风险是极高的。
此外,还有各种生物制药厂、养殖场、科研场所、疫情区等场所出于卫生安全的考虑,要求隔绝外来各种细菌、病毒和微生物侵入。
申请公布号为CN 108434494 A的发明专利公开了一种具有自动封闭功能的消毒装置,包括清洁消毒容器、刷板和控制机构,其中,所述刷板上设有多个导液沉污孔、封闭体和弹簧,所述封闭体位于导液沉污孔中,所述弹簧的一端与封闭体连接,所述弹簧的另一端与刷板连接。使用时,当人员进入清洁消毒容器1时,踩动刷板,底板8与封闭体10之间产生运动差,底板8先下沉,消毒药液顺着导液孔9与封闭体10间的缝隙进入到底板8上表面,从而对人员的鞋底进行消毒,当人员离开清洁消毒容器1后,封闭体10带动底板8上浮,底板8上的消毒药液顺着封闭体10与导液孔9之间的缝隙流回清洁消毒容器1中,刷板6中各组件与内四周侧板16相配合起到封闭清洁消毒容器1,从而能够节约消毒药液。
但该消毒装置在实际中存在以下问题:
由于从鞋底上脱离的污物会混合在消毒药液中,该泥沙在底板升降运动的扰动作用下会上下翻滚形成浊液,因此运动至底板上的消毒药液为浊液,使用时即是通过该浑浊的消毒药液进行消毒,相对于纯净的消毒药液而言,该浑浊的消毒药液一方面降低了消毒效果,另一方面,在鞋底抬离消毒药液液面时,浑浊消毒药液里的污物又会重新附着在鞋底上,使得消毒清洗后的鞋底依旧肮脏,甚至比之前更脏,该脏鞋既影响了美观,又会在此后的踩踏中弄脏地板,给地板的清洁任务带来巨大的阻碍,因此降低了该消毒装置的使用效果。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术的不足,提供一种可避免二次污染的清洁消毒装置,该清洁消毒装置能够对消毒药液中的污物进行容纳与隔离,使得对鞋底进行消毒的溶液始终为上清液,在提高消毒效果的同时,也避免了对鞋子以及鞋底侧面造成的二次污染。
本实用新型解决上述技术问题的技术方案是:
一种可避免二次污染的清洁消毒装置,包括消毒装置,该消毒装置包括清洁消毒容器和设置在清洁消毒容器内的清洗消毒踏板,其中,所述清洁消毒容器内盛有消毒药液,所述清洁消毒容器内设有用于支承清洗消毒踏板使得清洗消毒踏板底面与清洁消毒容器内底面之间形成高度差的高度限位件,所述清洗消毒踏板底面与清洁消毒容器内底面之间的空间构成用于容纳储存污物并防止污物受液流冲击翻滚而造成二次污染的沉淀存储空间。
优选地,所述清洗消毒踏板为升降式踏板,在非踩踏状态下,所述清洗消毒踏板位于消毒药液液面的上方;在踩踏状态下,清洗消毒踏板向下运动至所述高度限位件上,消毒药液液面到达所述清洗消毒踏板的上方。这样设置的好处在于,在未踩踏状态下,清洗消毒踏板向下运动至所述高度限位件上后,能够对消毒药液液面起到封盖作用,从而能够大幅度地减少消毒药液的挥发。
优选地,所述高度限位件由限位架构成,该限位架与清洁消毒容器为分体式结构,该限位架搁置于清洁消毒容器内的底部;所述限位架为网格状结构,限位架内部的网格空间构成所述沉淀存储空间。清洁时,该限位架能够对刷板起到稳固的支撑作用,因此支撑效果好,该限位架与清洁消毒容器为分体式结构,使用时,将限位架铺设在清洁消毒容器内即可实现对刷板的支撑和限位;当完成消毒后需要对清洁消毒容器进行清洗时,通过将限位架从清洁消毒容器内取出的方式来分别对清洁消毒容器和限位架进行清洗,从而使得清洗操作更加方便。此外,上述限位架能够通过单独加工(例如浇注、冲压、注塑成型或吹塑成型)的方式来完成,从而大大降低了加工时的难度,使得高度限位件的设置更加方便可行。所述限位架可以由多块立板按纵横交错的方式形成,交错的平板之间的空间构成沉淀存储空间,也可以通过在一块平板上设置多个通孔来形成。
优选地,所述高度限位件由设置在清洁消毒容器内腔壁底的支撑柱构成,该支撑柱为多个,多个支撑柱均匀地分布在清洁消毒容器内腔的底面上,所述支撑柱与清洁消毒容器为一体式结构,多个支撑柱之间形成的空间构成所述沉淀存储空间。一体式结构的支撑柱和清洁消毒容器可以一次性生产出来,例如采用注塑的方式一次成型,免除了组装的步骤,可靠性更好。
优选地,所述清洗消毒踏板上分布有用于污物通过的导液沉污孔。
优选地,所述导液沉污孔的上部开口为上大下小的漏斗状斜孔。这样设置的目的在于,由于大孔端位于刷板的上方,因此对作向下沉淀运动中的污物起到导向作用,使得污物的向下沉淀运动更加顺利地进行;而由于小孔端位于刷板的下方,因此对在扰动液流的作用下向上运动的部分污物起到阻碍作用。
优选地,所述导液沉污孔的上方还设有防溅盖,该防溅盖的内腔与导液沉污孔连通,防溅盖的侧面上在与毛刷的对应位置处设有用于对毛刷进行冲洗的冲洗孔。这样设置的目的在于,在鞋底的刷洗过程中,从鞋底脱落的部分污物会沉降在毛刷束中,长时间使用后会产生污物的堆积,从而对刷洗工作产生不利影响。而通过设置上述防溅盖后,当刷板在踩踏力的作用下向下运动的过程中,消毒药液流入到导液沉污孔后,会通过冲刷孔沿侧向喷射出来对毛刷进行冲洗,将毛刷冲洗干净。
优选地,所述清洗消毒踏板的下表面与清洁消毒容器内底面之间设有弹性元件,该弹性元件的弹力促使在未踩踏状态下的清洗消毒踏板的上面运动至位于消毒药液液面以上。这样设置的目的在于,该弹性元件的弹力能够促使清洗消毒踏板的向上运动至位于消毒药液液面的上方,与消毒药液脱离接触,相对于在浮力的作用下浮在消毒药液液面上而言,封盖效果更好,更能够减少消毒药液的挥发。
优选地,所述弹性元件由弹簧构成,所述清洁消毒容器内底面上设有向上凸起的凸柱,该凸柱上设有用于容纳弹簧的容纳槽,所述弹簧的一端放置在该容纳槽内,弹簧的另一端通过螺钉锁紧在所述清洗消毒踏板上。这样设置的好处在于,由于弹簧的一端被放置在容纳槽内,并未对该端端进行固定连接,因此当需要对清洁消毒容器进行清洁时,只需要将清洗消毒踏板和与清洗消毒踏板固定连接的弹簧一起取出即可,而不需任何的拆卸,因此操作简单,使用方便。此外,所述弹性元件还可以由橡胶等具有伸缩形变功能的元件构成。
优选地,还包括用于对清洁消毒装置进行定位的定位件,从而能够防止清洁消毒装置在使用过程中发生移位。具体地,该定位件可以由真空吸盘、橡胶垫等具有吸附和防滑功能的部件构成。
优选地,还包括干燥装置,该干燥装置包括用于对消毒后的鞋底进行干燥的吸液体和位于吸液体下方的托盘。通过设置干燥装置,使得消毒完的鞋底的粘附液体可以被吸干,避免消毒药液被鞋底带入区域内。
本实用新型的工作原理为:
使用时,本实用新型的清洁消毒装置放置在门口处。人员进门时,先在清洁消毒装置处完成鞋底的消毒和清洁操作,然后再进入洁净区。具体地,清洁消毒装置的消毒过程为:人员将脚踏入到清洁消毒容器中并踩踏在清洗消毒踏板上,而使得鞋底被浸没在消毒药液中;然后,人员驱动鞋底作与毛刷的接触刷洗运动,运动中多束毛刷同时对鞋底的各个部位进行刷洗,将粘附在鞋底的污物清除掉,上述清洁的过程中由于鞋底始终与消毒药液接触,在清洁的同时完成消毒,最后人员将鞋底抬起,移出清洁消毒容器,从而完成整个清洁消毒操作。
其中,粘附在鞋底的污物被清洗消毒踏板除后,会随消毒药液一起向下回流至清洗消毒踏板的下方,并在重力的作用下最终沉降到高度限位件与清洁消毒容器的内腔壁底之间的空间形成的沉淀存储空间内。这样,在清洁消毒容器的深度方向上,消毒药液依次被分为位于池底的泥沙污物层、位于泥沙污物层和高度限位件顶部之间的沉淀过渡层以及位于高度限位件上方的上清液层。当进行下次踩踏时,消毒药液仍被搅动,但由于泥沙污物层位于清洁消毒容器的最下方,所受的扰动力小,因此向上运动的行程较短,并且在向上运动还会受到高度限位件和清洗消毒踏板的双重阻挡作用,因此很少有污物通过导液沉污孔运动至清洗消毒踏板的上方,从而保证了在消毒时鞋底始终浸泡在上清的消毒药液内,一方面提高了消毒效果;另一方面也保证了在清洗消毒过程中脱离后的污物的不会再次粘附到鞋底上,避免了对鞋底产生的二次粘附污染。
本实用新型与现有技术相比具有以下的有益效果:
1、本实用新型可避免二次污染的清洁消毒装置通过在清洁消毒容器内设置高度限位件的方式在清洁消毒容器下部形成了沉淀存储空间,该沉淀存储空间具有对污物的进行沉淀与隔离的作用,使用时,能够与清洗消毒踏板形成双重阻挡,有效地阻止了污物通过导液沉污孔运动至清洗消毒踏板的上方,从而保证了在消毒时鞋底始终浸泡在上清的消毒药液内,一方面提高了消毒效果;另一方面也保证了在清洗消毒过程中脱离后的污物的不会再次粘附到鞋底上,避免了对鞋底产生的二次粘附污染。
2、本实用新型的可避免二次污染的清洁消毒装置在踩踏状态下,清洗消毒踏板向下运动至所述高度限位件上,消毒药液的液面到达清洗消毒踏板的上方,从而对鞋底起到消毒作用,在非踩踏作用下,清洗刷在浮力作用下浮于消毒药液液面处,或者在弹性元件的支撑下位于液面处或液面上方,从而对消毒药液起到了遮盖以防止消毒药液挥发的作用,因此使用效果好。
附图说明
图1为本实用新型的一种可避免二次污染的清洁消毒装置的一个具体实施方式的立体结构示意图。
图2为图1中I处的局部放大图。
图3为图1所示的可避免二次污染的清洁消毒装置的俯视图。
图4为图3中A-A方向的剖视图。
图5为图4中II处的局部放大图。
图6为图1所示的可避免二次污染的清洁消毒装置的爆炸图。
图7为图6中限位架的立体结构示意图。
图8为实施例2对应可避免二次污染的清洁消毒装置的内部结构图。
图9为实施例2对应可避免二次污染的清洁消毒装置的爆炸图。
图10为实施例3对应可避免二次污染的清洁消毒装置的内部结构图。
图11-图13为实施例4对应的可避免二次污染的清洁消毒装置的消毒装置和干燥装置的布局示意图。
图中:清洁消毒容器1、加液口1-1、清洗消毒踏板2、刷板2-1、毛束2-2、导液沉污孔2-3、沉淀存储空间2-4、高度限位件3、防溅盖4、支撑柱5、弹性元件6、干燥装置7、凸柱8。
具体实施方式
下面结合实施例及附图对本实用新型作进一步详细的描述,但本实用新型的实施方式不限于此。
实施例1
参见图1-图5,本实用新型的一种可避免二次污染的清洁消毒装置包括清洁消毒容器1和设置在清洁消毒容器1内的清洗消毒踏板2,其中,所述清洁消毒容器1的壁体上设有加液口1-1,清洁消毒容器1内盛有消毒药液,所述清洁消毒容器1内设有用于支承清洗消毒踏板2使得清洗消毒踏板2底面与清洁消毒容器内底面之间形成高度差的高度限位件3,所述清洗消毒踏板2底面与清洁消毒容器内底面之间的空间构成用于容纳储存污物并防止污物受液流冲击翻滚而造成二次污染的沉淀存储空间2-4。
参见图6和图7,所述高度限位件3由限位架构成,该限位架与清洁消毒容器1为分体式结构,该限位架搁置于清洁消毒容器1内的底部;所述限位架为网格状结构,限位架内部的网格空间构成所述沉淀存储空间2-4。清洁时,该限位架能够对刷板2-1起到稳固的支撑作用,因此支撑效果好,该限位架与清洁消毒容器1为分体式结构,使用时,将限位架铺设在清洁消毒容器1内即可实现对刷板2-1的支撑和限位;当完成消毒后需要对清洁消毒容器1进行清洗时,通过将限位架从清洁消毒容器1内取出的方式来分别对清洁消毒容器1和限位架进行清洗,从而使得清洗操作更加方便。此外,上述限位架能够通过单独加工(例如浇注、冲压、注塑成型或吹塑成型)的方式来完成,从而大大降低了加工时的难度,使得高度限位件3的设置更加方便可行。所述限位架可以由多块立板按纵横交错的方式形成,交错的平板之间的空间构成沉淀存储空间2-4,也可以通过在一块平板上设置多个通孔来形成。其中,参见图5,作为一个优选的方案,所述导液沉污孔2-3的上部开口为上大下小的漏斗状斜孔。这样设置的目的在于,由于大孔端位于刷板2-1的上方,因此对作向下沉淀运动中的污物起到导向作用,使得污物的向下沉淀运动更加顺利地进行;而由于小孔端位于刷板2-1的下方,因此对在扰动液流的作用下向上运动的部分污物起到阻碍作用。
参见图5,所述导液沉污孔2-3的上方还设有防溅盖4,该防溅盖4的内腔与导液沉污孔2-3连通,防溅盖4的侧面上在与毛束2-2的对应位置处设有用于对毛束2-2进行冲洗的冲洗孔。这样设置的目的在于,在鞋底的刷洗过程中,从鞋底脱落的部分污物会沉降在毛束2-2束中,长时间使用后会产生污物的堆积,从而对刷洗工作产生不利影响。而通过设置上述防溅盖4后,当刷板2-1在踩踏力的作用下向下运动的过程中,消毒药液流入到导液沉污孔2-3后,会通过冲刷孔沿侧向喷射出来对毛束2-2进行冲洗,将毛束2-2冲洗干净。
其中,为了减少消毒药液的挥发,所述清洗消毒踏板2为升降式踏板,在非踩踏状态下,所述清洗消毒踏板2位于消毒药液液面的上方;在踩踏状态下,清洗消毒踏板2向下运动至所述高度限位件上,消毒药液液面到达所述清洗消毒踏板2的上方。这样设置的好处在于,在未踩踏状态下,清洗消毒踏板2向下运动至所述高度限位件上后,能够对消毒药液液面起到封盖作用,从而能够大幅度地减少消毒药液的挥发。此外,为了防止清洁消毒装置在使用过程中发生移位,清洁消毒装置的底部还设有用于对清洁消毒装置进行定位的定位件,该定位件可以由真空吸盘、橡胶垫等具有吸附和防滑功能的部件构成。
参见图1-图7,本实用新型的工作原理为:
使用时,本实用新型的清洁消毒装置放置在门口处。人员进门时,先在清洁消毒装置处完成鞋底的消毒和清洁操作,然后再进入洁净区。具体地,清洁消毒装置的消毒过程为:人员将脚踏入到清洁消毒容器1中并踩踏在清洗消毒踏板2上,而使得鞋底被浸没在消毒药液中;然后,人员驱动鞋底作与毛束2-2的接触刷洗运动,运动中多束毛束2-2同时对鞋底的各个部位进行刷洗,将粘附在鞋底的污物清除掉,上述清洁的过程中由于鞋底始终与消毒药液接触,从而在清洁的同时完成消毒,最后人员将鞋底抬起,移出清洁消毒容器1,从而完成整个清洁消毒操作。
其中,粘附在鞋底的污物被清洗消毒踏板2除后,会随消毒药液一起向下回流至清洗消毒踏板2的下方,并在重力的作用下最终沉降到高度限位件3与清洁消毒容器1的内腔壁底之间的空间形成的沉淀存储空间2-4内。这样,在清洁消毒容器1的深度方向上,消毒药液依次被分为位于池底的泥沙污物层、位于泥沙污物层和高度限位件顶部之间的沉淀过渡层以及位于高度限位件上方的上清液层。当进行下次踩踏时,消毒药液仍被搅动,但由于泥沙污物层位于清洁消毒容器1的最下方,所受的扰动力小,因此向上运动的行程较短,并且在向上运动还会受到高度限位件3和清洗消毒踏板2的双重阻挡作用,因此很少有污物通过导液沉污孔2-3运动至清洗消毒踏板2的上方,从而保证了在消毒时鞋底始终浸泡在上清的消毒药液内,一方面提高了消毒效果;另一方面也保证了在清洗消毒过程中脱离后的污物的不会再次粘附到鞋底上,避免了对鞋底产生的二次粘附污染。
实施例2
参见图8和图9,本实施例与实施例1的不同之处在于,所述高度限位件3由设置在清洁消毒容器1内腔壁底的支撑柱5构成,该支撑柱5为多个,多个支撑柱5均匀地分布在清洁消毒容器1内腔的底面上,所述支撑柱5与清洁消毒容器1为一体式结构,多个支撑柱5之间形成的空间构成所述沉淀存储空间2-4。一体式结构的支撑柱5和清洁消毒容器1可以一次性生产出来,例如采用注塑的方式一次成型,免除了组装的步骤,可靠性更好。
本实施例上述以外的其它实施方式参见实施例1实施。
实施例3
参见图10,本实施例与实施例1的不同之处在于,所述清洗消毒踏板2的下表面与清洁消毒容器1内底面之间设有弹性元件6,该弹性元件6的弹力促使在未踩踏状态下的清洗消毒踏板2的上面运动至位于消毒药液液面以上。这样设置的目的在于,该弹性元件6的弹力能够促使清洗消毒踏板2的向上运动至位于消毒药液液面的上方,与消毒药液脱离接触,相对于在浮力的作用下浮在消毒药液液面上而言,封盖效果更好,更能够减少消毒药液的挥发。其中,所述弹性元件6由弹簧构成,所述清洁消毒容器1内底面上设有向上凸起的凸柱8,该凸柱8上设有用于容纳弹簧的容纳槽,所述弹簧的一端放置在该容纳槽内,弹簧的另一端通过螺钉锁紧在所述清洗消毒踏板2上。这样设置的好处在于,由于弹簧的一端被放置在容纳槽内,并未对该端端进行固定连接,因此当需要对清洁消毒容器1进行清洁时,只需要将清洗消毒踏板2和与清洗消毒踏板2固定连接的弹簧一起取出即可,而不需任何的拆卸,因此操作简单,使用方便。此外,所述弹性元件6还可以由橡胶等具有伸缩形变功能的元件构成。
本实施例上述以外的其它实施方式参见实施例1实施。
实施例4
参见图11-图13,本实施例与实施例1的不同之处在于,还包括干燥装置7,所述干燥装置7包括用于对消毒后的鞋底进行干燥的吸液体和位于吸液体下方的托盘。通过设置干燥装置7,使得消毒完的鞋底的粘附液体可以被吸干,避免消毒药液被鞋底带入区域内。清洁消毒装置和干燥装置7的分布方式可以有多种,例图11所示,清洁消毒装置和干燥装置7按左右方式布置,沿着进门的方式向,清洁消毒装置在右边,干燥装置7在左边,且干燥装置7的宽度大于清洁消毒装置的宽度,进门时,先在清洁消毒装置处进行清洁消毒,然后再进入干燥装置7进行干燥,由于清洁消毒时动作稍慢,所以宽度可以略小,而在干燥时动作较为灵活,因此干燥装置7设置得较宽便于进出。又如图12所示,清洁消毒装置和干燥装置7按前后方式布置;再如图13所示,设置两个干燥装置7,清洁消毒装置位于中间,两个干燥装置7位于左右两侧。
本实施例上述以外的其它实施方式参见实施例1实施。
上述为本实用新型较佳的实施方式,但本实用新型的实施方式并不受上述内容的限制,其他的任何未背离本实用新型的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化,均应为等效的置换方式,都包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种可避免二次污染的清洁消毒装置,其特征在于,包括消毒装置,该消毒装置包括清洁消毒容器和设置在清洁消毒容器内的清洗消毒踏板,其中,所述清洁消毒容器内盛有消毒药液,所述清洁消毒容器内设有用于支承清洗消毒踏板使得清洗消毒踏板底面与清洁消毒容器内底面之间形成高度差的高度限位件,所述清洗消毒踏板底面与清洁消毒容器内底面之间的空间构成用于容纳储存污物并防止污物受液流冲击翻滚而造成二次污染的沉淀存储空间;
所述高度限位件由限位架构成,该限位架与清洁消毒容器为分体式结构,该限位架搁置于清洁消毒容器内的底部;所述限位架为网格状结构,限位架内部的网格空间构成所述沉淀存储空间。
2.根据权利要求1所述的可避免二次污染的清洁消毒装置,其特征在于,所述清洗消毒踏板上分布有用于污物通过的导液沉污孔。
3.根据权利要求2所述的可避免二次污染的清洁消毒装置,其特征在于,所述导液沉污孔的上部开口为上大下小的漏斗状斜孔。
4.根据权利要求1-3任一项所述的可避免二次污染的清洁消毒装置,其特征在于,所述清洗消毒踏板的下表面与清洁消毒容器内底面之间设有弹性元件,该弹性元件的弹力促使洗消毒踏板的上面在未踩踏状态下运动至位于消毒药液液面以上。
5.根据权利要求4所述的可避免二次污染的清洁消毒装置,其特征在于,所述弹性元件由弹簧构成,所述清洁消毒容器内底面上设有向上凸起的凸柱,该凸柱上设有用于容纳弹簧的容纳槽,所述弹簧的一端放置在该容纳槽内,弹簧的另一端通过螺钉锁紧在所述清洗消毒踏板上。
6.根据权利要求2或3所述的可避免二次污染的清洁消毒装置,其特征在于,所述导液沉污孔的上方还设有防溅盖,该防溅盖的内腔与导液沉污孔连通,防溅盖的侧面上在与毛刷的对应位置处设有用于对毛刷进行冲洗的冲洗孔。
7.根据权利要求1-3任一项所述的可避免二次污染的清洁消毒装置,其特征在于,还包括用于对清洁消毒装置进行定位的定位件。
8.根据权利要求1-3任一项所述的可避免二次污染的清洁消毒装置,其特征在于,还包括干燥装置,该干燥装置包括用于对消毒后的鞋底进行干燥的吸液体和位于吸液体下方的托盘。
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Granted publication date: 20201020

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