CN211620666U

CN211620666U - 一种用于石英晶体腐蚀及清洗的设备

Info

Publication number: CN211620666U
Application number: CN201922293635.6U
Authority: CN
Inventors: 刘兴波
Original assignee: Zhuhai Dongjin Quartz Technology Co ltd
Current assignee: Zhuhai Dongjin Quartz Technology Co ltd
Priority date: 2019-12-19
Filing date: 2019-12-19
Publication date: 2020-10-02
Anticipated expiration: 2029-12-19

Abstract

本实用新型旨在提供一种工作效率高、成本较低且兼具腐蚀及清洗功能的用于石英晶体腐蚀及清洗的设备。本实用新型包括回转模组，沿着所述回转模组的输送方向的一侧依次设置有至少一个腐蚀池和若干个清洗池，所述回转模组上设置有若干个与所述腐蚀池和所述清洗池相配合的摇摆浸泡机构，所述摇摆浸泡机构包括升降装置，所述升降装置的动作端上设置有摇摆机构，所述摇摆机构的活动端上设置有连接叉杆，所述连接叉杆位于所述腐蚀池或所述清洗池的上方，所述连接叉杆上设置有载物框，所述载物框与所述腐蚀池或所述清洗池相配合。本实用新型应用于生产设备的技术领域。

Description

一种用于石英晶体腐蚀及清洗的设备

技术领域

本实用新型应用于生产设备的技术领域，特别涉及到一种用于石英晶体腐蚀及清洗的设备。

背景技术

石英谐振器中的石英晶体的生产的过程中，石英晶体在经过切割、研磨等工序后，会在石英晶体的表面产生一定厚度的破坏层，其破坏层会加大石英晶体谐振器动能量的损耗，从而导致石英晶体谐振器的谐振电阻增大。制成石英谐振器后，还会由于石英碎屑的脱落，导致石英谐振器的频率漂移或者电极不牢等问题。因此，石英晶体必须进行均匀腐蚀，以清除破坏层，改善晶片表面状态，进而大大降低谐振器电阻和老化率等电性能参数，提高石英晶体谐振器的生产合格率。

传统的方法是将石英晶体放在晶体篮里，然后放在腐蚀液池中，摇动腐蚀篮对晶体进行腐蚀，腐蚀完后再把晶体篮放在清洗池中，摇动进行清洗。现有技术中都是采用人工操作的形式，用手拿晶体篮，手动摇动进行清洗，使用这种方式不仅工人劳动强度大，人工成本高，而且生产效率低。为了解决这个问题，需要一种既能对石英晶体进行腐蚀，同时还兼备清洗功能的设备。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种工作效率高、成本较低且兼具腐蚀及清洗功能的用于石英晶体腐蚀及清洗的设备。

本实用新型所采用的技术方案是：本实用新型包括回转模组，沿着所述回转模组的输送方向的一侧依次设置有至少一个腐蚀池和若干个清洗池，所述回转模组上设置有若干个与所述腐蚀池和所述清洗池相配合的摇摆浸泡机构，所述摇摆浸泡机构包括升降装置，所述升降装置的动作端上设置有摇摆机构，所述摇摆机构的活动端上设置有连接叉杆，所述连接叉杆位于所述腐蚀池或所述清洗池的上方，所述连接叉杆上设置有载物框，所述载物框与所述腐蚀池或所述清洗池相配合。

进一步地，所述摇摆机构包括设置在所述升降装置上的驱动电机和固定架，所述固定架位于所述驱动电机的前侧，所述固定架的上端设置有固定横板，所述固定横板的上端面设置有固定件，所述固定横板的下方设置有与所述固定件相配合的凸轮，所述凸轮转动设置在所述固定件的下端，所述驱动电机的输出轴上设置有圆轮，所述圆轮上铰接有连杆，所述连杆远离所述圆轮的一端与所述凸轮的凸段相铰接，所述连接叉杆的上端固定设置在所述凸轮上。

进一步地，所述回转模组包括底板，所述底板上设置有左链轮和右链轮，所述左链轮和所述右链轮上配合设置有传动链，所述摇摆浸泡机构固定设置在所述传动链上，所述左链轮和所述右链轮之间设置有驱动装置，所述驱动装置与所述左链轮和所述右链轮传动配合。

进一步地，所述传动链的两侧均设置有回转导轨，所述底板上沿所述传动链的投影设置有若干根支撑柱，所述回转导轨设置在所述支撑柱上，所述传动链上固定设置有若干个安装板，所述安装板与所述回转导轨相配合，所述摇摆浸泡机构设置在所述安装板上。

进一步地，所述回转导轨上设置有若干个转轮，所述转轮与所述安装板相配合。

进一步地，所述腐蚀池的数量为两个且分别设置在所述回转模组的前后两侧。

进一步地，所述清洗池的上端环绕设置有四道首尾相连的水槽，至少有一道所述水槽上设置有排水孔，所述排水孔与设置在所述清洗池下端的排水口相连通。

进一步地，所述清洗池内设置有加温器。

进一步地，所述腐蚀池上设置有四张防护板，靠近所述摇摆浸泡机构的所述防护板上设置有配合口。

进一步地，所述载物框的框面为筛网结构。

本实用新型的有益效果是：由于本实用新型采用了包括回转模组，沿着所述回转模组的输送方向的一侧依次设置有至少一个腐蚀池和若干个清洗池，所述回转模组上设置有若干个与所述腐蚀池和所述清洗池相配合的摇摆浸泡机构，所述摇摆浸泡机构包括升降装置，所述升降装置的动作端上设置有摇摆机构，所述摇摆机构的活动端上设置有连接叉杆，所述连接叉杆位于所述腐蚀池或所述清洗池的上方，所述连接叉杆上设置有载物框，所述载物框与所述腐蚀池或所述清洗池相配合。与现有的技术相比，本实用新型具有以下特点：本实用新型通过设置回转模组，再在回转模组的一侧设置有腐蚀池和清洗池，摇摆浸泡机构设置在回转模组上，跟随回转模组做回转运动，并且摇摆浸泡机构包括有用于装载石英晶体的载物框，载物框与腐蚀池和清洗池配合实现石英晶体的腐蚀和清洗，由于腐蚀池和清洗池排序设置，因此可以在腐蚀工作完成后再进行清洗工作；由上述可见，本实用新型兼具腐蚀及清洗功能，实现流水线式的腐蚀和清洗工作，工作效率高，可减少操作工人的数量，节省成本。

附图说明

图1是本实用新型第一视角的平面布局图；

图2是本实用新型回转模组和摇摆机构配合的第二视角的平面布局图；

图3是图1中A部分的放大图；

图4是本实用新型凸轮和圆轮的配合关系的示意图；

图5是本实用新型清洗池的第一视角的平面结构示意图；

图6是本实用新型腐蚀池的立体示意图；

图7是图3中B部分的放大图。

具体实施方式

如图1至图7所示，本实用新型的具体实施方式是：本实用新型包括回转模组1，沿着所述回转模组1的输送方向的一侧依次设置有至少一个腐蚀池2和若干个清洗池3，所述回转模组1上设置有若干个与所述腐蚀池2和所述清洗池3相配合的摇摆浸泡机构4，所述摇摆浸泡机构4包括升降装置41，所述升降装置41的动作端上设置有摇摆机构42，所述摇摆机构42的活动端上设置有连接叉杆43，所述连接叉杆43位于所述腐蚀池2或所述清洗池3的上方，所述连接叉杆43上设置有载物框44，所述载物框44与所述腐蚀池2或所述清洗池3相配合。所述回转模组1作回转运动，用于带动设置在其结构上的所述摇摆浸泡机构4进行回转；所述腐蚀池2用于石英晶体的腐蚀，装载腐蚀液体，为腐蚀工作的场所，所述清洗池用于装载清洁用液体，为清洗工作的场所；所述摇摆浸泡机构4主要包括所述升降装置41、所述摇摆机构42、所述连接叉杆43和所述载物框44，所述升降装置41用于带动设置在其动作端上的其它机构进行上下动作，实现产品的上下冲洗；所述摇摆机构42用于驱动所述连接叉杆43进行来回摆动，以带动所述载物框44进行摆动清洗，所述载物框44用于盛放石英晶体。本实用新型的工作原理为：将石英晶体放置在位于与腐蚀池2相对应的载物框44上，随后升降装置41下降直至载物框44被腐蚀池2内的腐蚀液体完全浸泡，随后摇摆机构42驱动使载物框44来回摇摆且同时升降装置41进行下上往复动作，每次向上时载物框44不露出腐蚀液体的液面，当完成腐蚀工作后，升降装置41将载物框44带离腐蚀池2然后回转模组1动作将已完成浸泡工作的石英晶体移动至第一个清洗池3的上方，然后再在移到腐蚀池2上方的新的载物框44放置石英晶体，随后已完成浸泡工作的载物框44与清洗池3配合进行清洗工作，未进行浸泡工作的载物框44与腐蚀池2进行腐蚀工作，整个工作流程如上述循环，且清洗次数与清洗池3的数量一致，当载物框44在最后一个清洗池3完成清洗时，整个腐蚀清洗工作完成，可将该载物框44中的石英晶体取出，并且此时该载物框44已经回转一圈，即该载物框44再移动一次就到达腐蚀池1的上方，因此在取出石英晶体后马上又放入新的石英晶体，以实现循环工作。由上述可见，本实用新型兼具腐蚀及清洗功能，实现流水线式的腐蚀和清洗工作，整体工作效率高，经济效益好，可减少操作工人的数量，有利于降低生产成本。

在本实施例中，所述摇摆机构42包括设置在所述升降装置41上的驱动电机421和固定架422，所述固定架422位于所述驱动电机421的前侧，所述固定架422的上端设置有固定横板423，所述固定横板423的上端面设置有固定件424，所述固定横板423的下方设置有与所述固定件424相配合的凸轮425，所述凸轮425转动设置在所述固定件424的下端，所述驱动电机421的输出轴上设置有圆轮426，所述圆轮426上铰接有连杆427，所述连杆427远离所述圆轮426的一端与所述凸轮425的凸段相铰接，所述连接叉杆43的上端固定设置在所述凸轮425上。所述驱动电机421为驱动源，为摇摆动作的动力来源，所述固定架422起固定支撑作用并用于所述固定横板423的安装，所述固定件424设置在固定横板423的前端的上端面，并且所述固定件424的下端穿过所述固定横板423，所述凸轮425转动设置在所述固定件424的下端，其圆心与所述固定件424的中心共线，并且所述凸轮425受所述固定件424的限制，不会从所述固定件424上脱落，所述转轮426的圆心与所述驱动电机421的输出轴的中心线重合，所述连杆427的一端铰接在所述转轮426的上表面上且靠近外缘，所述连杆427的另一端铰接在所述凸轮425的凸段上，当所述驱动电机421转动时，所述连杆427作往复运动，带动所述凸轮425动作，由于连杆427与所述凸轮425的凸段铰接，故而所述凸轮425并不会作旋转运动，而是在一定的范围内作来回曲线运动，所述连接叉杆4固定设置在所述凸轮425上，因此带动所述载物框44做摇摆运动。

在本实施例中，所述回转模组1包括底板11，所述底板11上设置有左链轮12和右链轮13，所述左链轮12和所述右链轮13上配合设置有传动链14，所述摇摆浸泡机构4固定设置在所述传动链14上，所述左链轮12和所述右链轮13之间设置有驱动装置15，所述驱动装置15与所述左链轮12和所述右链轮13传动配合。所述左链轮12和所述右链轮13均与所述底板11平行并且转动设置在所述底板11上，所述左链轮12和所述右链轮13通过所述传动链14实现传动配合，所述驱动装置15可驱动所述左链轮12和所述右链轮13同时转动，当所述驱动装置15动作时，所述左链轮12和所述右链轮13同时转动，所述传动链14进行回转运动，所述摇摆浸泡机构4跟随进行回转运动。

在本实施例中，所述传动链14的两侧均设置有回转导轨16，所述底板11上沿所述传动链14的投影设置有若干根支撑柱17，所述回转导轨16设置在所述支撑柱17上，所述传动链14上固定设置有若干个安装板18，所述安装板18与所述回转导轨16相配合，所述摇摆浸泡机构4设置在所述安装板18上。所述底板11上设置有若干个支撑柱17，所述支撑柱17沿着所述回转导轨16的投影进行间隔设置，所述安装板18用于所述摇摆浸泡机构4的安装，所述安装板18与所述回转导轨16配合，设置所述回转导轨16和所述安装板18可用于承担所述摇摆浸泡机构4的重量，减轻所述传动链14的压力，以保证运动精度，减少磨损，延长使用寿命。

在本实施例中，所述回转导轨16上设置有若干个转轮19，所述转轮19与所述安装板18相配合。通过在所述回转导轨16上设置转轮19，大幅降低了所述安装板18与所述回转导轨16之间的摩擦作用，减少了摩擦损伤的程度。

在本实施例中，所述腐蚀池2的数量为两个且分别设置在所述回转模组1的前后两侧。所述腐蚀池2的数量为两个，并且分别设置在所述回转模组1的两处进行水平运动的所述传动链14的侧边，即所述回转模组1每完成一个回转周期可实现两个所述载物框44石英晶体的腐蚀清洗工作。

在本实施例中，所述清洗池3的上端环绕设置有四道首尾相连的水槽31，至少有一道所述水槽31上设置有排水孔32，所述排水孔32与设置在所述清洗池3下端的排水口33相连通。四道所述水槽31连通呈“口”字形，分布在所述清洗池3的四侧，在清洗时可以将溢出的液体排走，每道所述水槽31均设置有倾斜度，便于将水引导至所述排水孔7处，然后通过所述排水孔32将水排出。

在本实施例中，所述清洗池3内设置有加温器34。设置所述加温器34可对所述清洗池3内的液体进行加热，以增强清洗效果。

在本实施例中，所述腐蚀池2上设置有四张防护板22，靠近所述摇摆浸泡机构4的所述防护板22上设置有配合口23。所述防护板22用于防止所述腐蚀池2内的腐蚀液体在工作时会飞溅四射，起保护作用，所述配合口23用于给予所述摇摆浸泡机构4动作空间，防止运动干涉。

在本实施例中，所述载物框44的框面为筛网结构。所述载物框44为筛网结构，密集设置有网孔，能够便于液体的流入及流出，便于对石英晶体进行腐蚀及清洗。

虽然本实用新型的实施例是以实际方案来描述的，但是并不构成对本实用新型含义的限制，对于本领域的技术人员，根据本说明书对其实施方案的修改及与其他方案的组合都是显而易见的。

Claims

1.一种用于石英晶体腐蚀及清洗的设备，其特征在于：包括回转模组（1），沿着所述回转模组（1）的输送方向的一侧依次设置有至少一个腐蚀池（2）和若干个清洗池（3），所述回转模组（1）上设置有若干个与所述腐蚀池（2）和所述清洗池（3）相配合的摇摆浸泡机构（4），所述摇摆浸泡机构（4）包括升降装置（41），所述升降装置（41）的动作端上设置有摇摆机构（42），所述摇摆机构（42）的活动端上设置有连接叉杆（43），所述连接叉杆（43）位于所述腐蚀池（2）或所述清洗池（3）的上方，所述连接叉杆（43）上设置有载物框（44），所述载物框（44）与所述腐蚀池（2）或所述清洗池（3）相配合。

2.根据权利要求1所述的一种用于石英晶体腐蚀及清洗的设备，其特征在于：所述摇摆机构（42）包括设置在所述升降装置（41）上的驱动电机（421）和固定架（422），所述固定架（422）位于所述驱动电机（421）的前侧，所述固定架（422）的上端设置有固定横板（423），所述固定横板（423）的上端面设置有固定件（424），所述固定横板（423）的下方设置有与所述固定件（424）相配合的凸轮（425），所述凸轮（425）转动设置在所述固定件（424）的下端，所述驱动电机（421）的输出轴上设置有圆轮（426），所述圆轮（426）上铰接有连杆（427），所述连杆（427）远离所述圆轮（426）的一端与所述凸轮（425）的凸段相铰接，所述连接叉杆（43）的上端固定设置在所述凸轮（425）上。

3.根据权利要求1所述的一种用于石英晶体腐蚀及清洗的设备，其特征在于：所述回转模组（1）包括底板（11），所述底板（11）上设置有左链轮（12）和右链轮（13），所述左链轮（12）和所述右链轮（13）上配合设置有传动链（14），所述摇摆浸泡机构（4）固定设置在所述传动链（14）上，所述左链轮（12）和所述右链轮（13）之间设置有驱动装置（15），所述驱动装置（15）与所述左链轮（12）和所述右链轮（13）传动配合。

4.根据权利要求3所述的一种用于石英晶体腐蚀及清洗的设备，其特征在于：所述传动链（14）的两侧均设置有回转导轨（16），所述底板（11）上沿所述传动链（14）的投影设置有若干根支撑柱（17），所述回转导轨（16）设置在所述支撑柱（17）上，所述传动链（14）上固定设置有若干个安装板（18），所述安装板（18）与所述回转导轨（16）相配合，所述摇摆浸泡机构（4）设置在所述安装板（18）上。

5.根据权利要求4所述的一种用于石英晶体腐蚀及清洗的设备，其特征在于：所述回转导轨（16）上设置有若干个转轮（19），所述转轮（19）与所述安装板（18）相配合。

6.根据权利要求1所述的一种用于石英晶体腐蚀及清洗的设备，其特征在于：所述腐蚀池（2）的数量为两个且分别设置在所述回转模组（1）的前后两侧。

7.根据权利要求1所述的一种用于石英晶体腐蚀及清洗的设备，其特征在于：所述清洗池（3）的上端环绕设置有四道首尾相连的水槽（31），至少有一道所述水槽（31）上设置有排水孔（32），所述排水孔（32）与设置在所述清洗池（3）下端的排水口（33）相连通。

8.根据权利要求1所述的一种用于石英晶体腐蚀及清洗的设备，其特征在于：所述清洗池（3）内设置有加温器（34）。

9.根据权利要求1所述的一种用于石英晶体腐蚀及清洗的设备，其特征在于：所述腐蚀池（2）上设置有四张防护板（22），靠近所述摇摆浸泡机构（4）的所述防护板（22）上设置有配合口（23）。

10.根据权利要求1所述的一种用于石英晶体腐蚀及清洗的设备，其特征在于：所述载物框（44）的框面为筛网结构。