CN220346666U - 一种晶片去污装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及晶片处理技术领域，尤其涉及一种晶片去污装置。一种晶片去污装置，包括顶部设有固定组件、去污组件的底板，所述底板顶部放置有收集斗，所述固定组件包括与底板相连接的顶板、底部设有托板的固定架，所述顶板底部设有与固定架相驱动连接的电机，所述托板内部具有固定通槽，所述去污组件包括横杆、与顶板相连接的水箱、位于顶板底部的连接座以及喷水件，所述水箱与喷水件相连通，本实用新型通过固定组件能够对晶片进行固定，并带动其水平转动，通过去污组件能够通过不断竖直摆动喷水件向晶片喷出竖直角度多样的清洁剂，固定组件与去污组件相互配合对晶片进行全方位去污。

Description

一种晶片去污装置

技术领域

本实用新型涉及晶片处理技术领域，尤其涉及一种晶片去污装置。

背景技术

晶片是电子元器件中最为重要的元件，晶片在生产流程中需要经过多道处理工序，而制取的晶片在加工过程中会被污染，需要借助晶片去污装置对其表面进行清理。

经检索，现有技术中申请号为CN202221741074.7的实用新型公开了一种石英晶片去污装置，包括主体机构和去污机构，主体机构包括框架、污水箱、水箱、水枪、污水盖；去污机构包括电机，电机下方活动连接有转轴，转轴两侧固定连接有支撑板，支撑板左右两侧活动连接有定位板，转轴两侧设置有夹具。该石英晶片去污装置，通过将石英晶片放置在夹具内部的卡槽内，然后将夹具卡合在定位板和支撑板内壁，然后通过螺钉固定定位板，然后打开电机和水枪，电机旋转带动转轴旋转，然后带动支撑板和支撑板内壁的夹具旋转，水枪对旋转的夹具进行冲洗，然后冲洗的污水落入污水箱，然后打开污水盖，对污水进行收集处理，到达通过冲洗的方式对石英晶片进行清洗的效果。

但是该实用新型的水枪不能自动偏转，水枪喷出的水柱与晶片表面之间的夹角只有水平上的变化，缺少竖直方向的变化，倒置水柱的冲击角度较少，去污效果不好。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种去污效果好的一种晶片去污装置。

本实用新型为了解决上述问题，所提出的技术方案为：一种晶片去污装置，包括顶部设有固定组件、去污组件的底板，所述底板顶部放置有收集斗，所述固定组件包括与底板相连接的顶板、底部设有托板的固定架，所述顶板底部设有与固定架相驱动连接的电机，所述托板内部具有固定通槽，所述去污组件包括横杆、与顶板相连接的水箱、位于顶板底部的连接座以及喷水件，所述水箱与喷水件相连通，所述连接座一侧转动连接有与喷水件相固接的转轴，所述转轴表面设有齿轮，所述顶板底部设有与横杆相连接的电动伸缩杆，所述横杆两端均设有与齿轮相啮合的齿条。

作为改进，所述固定架内部螺纹连接有螺杆，所述螺杆底部转动连接有固定座，所述固定座上下两端分别设有导杆、限位槽，所述导杆贯穿固定架并与固定架滑动连接。

作为改进，所述顶板与底板之间通过设有撑杆相连接。

作为改进，所述水箱顶部设有注水口，所述水箱与喷水件之间通过设有软管相连通，所述软管连通有水泵。

作为改进，所述顶板底部设有壳体，所述电机、电动伸缩杆均位于壳体内部。

作为改进，所述横杆贯穿壳体并与壳体滑动连接。

本实用新型的有益效果为：本实用新型通过固定组件能够对晶片进行固定，并带动其水平转动，通过去污组件能够通过不断竖直摆动喷水件向晶片喷出竖直角度多样的清洁剂水柱，固定组件与去污组件相互配合对晶片进行全方位去污，去污效果好。

附图说明

图1为本实用新型的第一立体示意图；

图2为本实用新型的第二立体示意图；

图3为本实用新型的侧视示意图；

图4为本实用新型的正视示意图。

1、水箱；2、撑杆；3、横杆；4、连接座；5、齿轮；6、转轴；7、齿条；8、喷水件；9、收集斗；10、托板；11、固定座；12、螺杆；13、固定架；14、壳体。

具体实施方式

下面将结合附图，对本实用新型的优选实施例进行详细的描述。

一种晶片去污装置，包括顶部设有固定组件、去污组件的底板，底板顶部放置有收集斗9，固定组件包括与底板相连接的顶板、底部设有托板10的固定架13；

顶板与底板之间通过设有撑杆2相连接，固定架13内部螺纹连接有螺杆12，螺杆12底部转动连接有固定座11，固定座11上下两端分别设有导杆、限位槽，导杆贯穿固定架13并与固定架13滑动连接，防止固定座11绕螺杆转动，顶板底部设有与固定架13相驱动连接的电机，托板10内部具有固定通槽，方便固定晶片并排出废水，去污组件包括横杆3、与顶板相连接的水箱1、位于顶板底部的连接座4以及喷水件8，水箱1与喷水件8相连通，水箱1顶部设有注水口，方便加注清洁剂，水箱1与喷水件8之间通过设有软管相连通，软管连通有水泵，连接座4一侧转动连接有与喷水件8相固接的转轴6，转轴6表面设有齿轮5，顶板底部设有与横杆3相连接的电动伸缩杆，横杆3两端均设有与齿轮5相啮合的齿条7，顶板底部设有壳体14，电机、电动伸缩杆均位于壳体14内部，横杆3贯穿壳体14并与壳体14滑动连接，使得横杆3能够平稳竖直移动。

进一步的，水泵、电机、电动伸缩杆均电连有控制器，方便控制水泵、电机、电动伸缩杆。

工作原理：通过注水口向水箱1内加注清洁剂，如图2所示，将晶片放在固定通槽上，转动螺杆12使得固定座11下移直至固定座11与托板10配合将晶片夹住固定，电机带动固定架13水平转动，从而使得晶片水平转动；

如图1所示，水泵将清洁剂泵入喷水件8并喷出，同时电动伸缩杆间歇性的伸长、缩短，使得横杆3带动齿条7上下移动，齿条7带动齿轮5来回转动，齿轮5通过转轴6带动喷水件8绕转轴6来回竖直摆动，从而向晶片喷出竖直角度多样的清洁剂水柱，固定组件与去污组件相互配合对晶片进行全方位去污，去污效果好。

以上对本实用新型及其实施方式进行了描述，这种描述没有限制性，附图中所示的也只是本实用新型的实施方式之一，实际的结构并不局限于此。总而言之如果本领域的普通技术人员受其启示，在不脱离本实用新型创造宗旨的情况下，不经创造性的设计出与该技术方案相似的结构方式及实施例，均应属于本实用新型的保护范围。

Claims (6)

1.一种晶片去污装置，包括顶部设有固定组件、去污组件的底板，其特征在于：所述底板顶部放置有收集斗(9)，所述固定组件包括与底板相连接的顶板、底部设有托板(10)的固定架(13)，所述顶板底部设有与固定架(13)相驱动连接的电机，所述托板(10)内部具有固定通槽，所述去污组件包括横杆(3)、与顶板相连接的水箱(1)、位于顶板底部的连接座(4)以及喷水件(8)，所述水箱(1)与喷水件(8)相连通，所述连接座(4)一侧转动连接有与喷水件(8)相固接的转轴(6)，所述转轴(6)表面设有齿轮(5)，所述顶板底部设有与横杆(3)相连接的电动伸缩杆，所述横杆(3)两端均设有与齿轮(5)相啮合的齿条(7)。

2.根据权利要求1所述的一种晶片去污装置，其特征在于：所述固定架(13)内部螺纹连接有螺杆(12)，所述螺杆(12)底部转动连接有固定座(11)，所述固定座(11)上下两端分别设有导杆、限位槽，所述导杆贯穿固定架(13)并与固定架(13)滑动连接。

3.根据权利要求1所述的一种晶片去污装置，其特征在于：所述顶板与底板之间通过设有撑杆(2)相连接。

4.根据权利要求1所述的一种晶片去污装置，其特征在于：所述水箱(1)顶部设有注水口，所述水箱(1)与喷水件(8)之间通过设有软管相连通，所述软管连通有水泵。

5.根据权利要求1所述的一种晶片去污装置，其特征在于：所述顶板底部设有壳体(14)，所述电机、电动伸缩杆均位于壳体(14)内部。

6.根据权利要求5所述的一种晶片去污装置，其特征在于：所述横杆(3)贯穿壳体(14)并与壳体(14)滑动连接。