CN211595790U - 镀膜装置的镀膜系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型主要提供一种镀膜装置的镀膜系统，用于一镀膜装置为至少一待镀膜产品提供一镀膜空间，所述镀膜装置的镀膜系统在所述镀膜空间内为所述待镀膜产品完成类金刚石涂层镀膜，其中所述镀膜空间为六面立方体结构且能够被密闭。

Description

镀膜装置的镀膜系统

技术领域

本发明涉及一种镀膜装置，具体而言，本发明涉及一种应用于类金刚石涂层镀膜的镀膜装置中的镀膜空间结构。

背景技术

类金刚石膜由于具有高硬度和高弹性模量，同时也具有很高的内应力以及优异的耐磨性和低摩擦系数，因而是一种优异的表面抗磨损改性膜，因此利用类金刚石膜高硬度、低摩擦系数以及自身良好的抗磨损性能，可将其用于机械减摩和耐磨防护涂层。

等离子体增强化学气相沉积法，又称辉光放电法，由于具有沉积温度低、绕镀性好、沉积速率高、设备简单及能够制备高质量的均匀致密薄膜的特点，已成为制备类金刚石薄膜的最常用方法之一。

在等离子体增强化学气相沉积促进化学反应过程中的重要因素是高能电子的作用，等离子体中高能电子温度可以达到9000℃，它们与气体分子产生非弹性碰撞，使分子激活，促进自由基化和离子化，产生化学活性强的高能粒子、长寿命亚稳原子、激发态原子、原子或分子态离子和电子等大量活性粒这些活性组分引发化学反应，生成反应产物，同时放出反应热。

在等离子体增强化学气相沉积的低压非平衡等离子体中，高能电子为源物质粒子提供了能量，不需要更多的外界热能便可以发生化学气相沉积，从而降低了化学反应温度，使本来难以发生或者速度很慢的化学反应成为可能，这就是低温下实现高温反应的根本原因。

而在类金刚石涂层镀膜技术向产业化推进的过程中，经常会遇到一些问题，比如由于镀膜腔的密封性达不到要求，而使镀膜产品化学反应过程中反应温度发生变化而导致镀膜产品的外观异常等，或者是由于镀膜腔的内负压无法达到一额定要求或者是无法维持在一额定要求，从而导致镀膜产品在镀膜过程中产生外观或性能异常等。

此外，由于镀膜产品是在密封的镀膜腔中完成镀膜过程，因此该镀膜腔要承受镀膜气体的长期污染，这对于镀膜产品而言，在不同的镀膜阶段是否能保持始终如一的镀膜品质也是很大的考验。

因此，本领域技术人员需要发明一种镀膜装置的镀膜系统，以改善上述提及的现有技术中存在的问题。

发明内容

本发明的一个目的在于提供一种镀膜装置的镀膜系统，所述镀膜装置的镀膜系统被设置于一镀膜装置，用于为至少一待镀膜产品提供镀膜空间，其中所述镀膜装置的镀膜系统能够为该待镀膜产品提供密封的镀膜空间，从而避免该待镀膜产品在镀膜过程中品质不稳定的情况。

本发明的一个目的在于提供一种镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜装置的镀膜系统能够同时容纳较多数量的该待镀膜产品同时进行镀膜从而提高所述镀膜装置的工作效率。

本发明的一个目的在于提供一种镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜装置的镀膜系统具有一密封单元，通过所述密封单元使所述镀膜装置的镀膜系统在该待镀膜产品在镀膜过程中保持密封装置。

本发明的一个目的在于提供一种镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜装置的镀膜系统具有不易被污染的效果，从而使所述镀膜装置的镀膜系统能够为不同的该待镀膜产品长期提供稳定的镀膜空间。

本发明的一个目的在于提供一种镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜装置的镀膜系统能够直接容纳放置该待镀膜产品的支架单元，从而使该待镀膜产品能够被同时地并且直接地放置于所述镀膜装置的镀膜系统。

本发明的一个目的在于提供一种镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜装置的镀膜系统的内部结构与所述支架单元的结构在形状上适配，从而使所述镀膜装置的镀膜系统能够最大程度为该待镀膜产品提供镀膜空间。

本发明的一个目的在于提供一种镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜装置的镀膜系统能够为该待镀膜产品提供至少一负压产生元件，从而使所述镀膜装置的镀膜系统能够形成负压环境。

本发明的一个目的在于提供一种镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜装置的镀膜系统能够与一电路单元连通，从而使位于所述镀膜装置的镀膜系统内的该待镀膜产品能够通电而产生等离子体。

本发明的一个目的在于提供一种镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜装置的镀膜系统能够为该待镀膜产品提供进气通路从而能够使镀膜气体能够进入所述镀膜装置的镀膜系统而被送达至该待镀膜产品的表面。

本发明的一个目的在于提供一种镀膜装置的镀膜系统，其中在该待镀膜产品的镀膜过程中，所述镀膜装置的镀膜系统的内部能够被观察到，从而使该待镀膜产品的镀膜过程能够被管控，从而进一步提高该待镀膜产品的镀膜品质。

为达上述至少一目的，本发明提供一种镀膜装置的镀膜系统，用于一镀膜装置为至少一待镀膜产品提供一镀膜空间，所述镀膜装置的镀膜系统在所述镀膜空间内为该待镀膜产品完成类金刚石涂层镀膜。

在其中一些实施例中，所述镀膜系统包括一镀膜单元，所述镀膜空间形成于所述镀膜单元用于容纳该待镀膜产品并使该待镀膜产品在所述镀膜空间内完成类金刚石涂层的镀膜过程。

在其中一些实施例中，所述镀膜单元包括一主体结构和一门扇，所述门扇被转动连接于所述主体结构以使所述门扇能够相对于所述主体结构对所述镀膜空间进行开启或关闭。进一步地，所述门扇上下设置4个螺栓以控制所述门扇的四个角与所述主体结构的间距，从而调整所述镀膜空间的密封性能。

在其中一些实施例中，所述镀膜单元进一步包括至少一密封结构，所述密封结构被固定设置于所述主体结构并位于所述主体结构与所述门扇的连接处，从而提高所述门扇与所述主体结构的连接紧密型，以此提高所述镀膜空间的密封性。

在其中一些实施例中，所述密封结构为一燕尾槽密封圈。

在其中一些实施例中，所述镀膜单元为不锈钢材料制成。

在其中一些实施例中，所述镀膜空间的内壁表面粗糙度小于2.0um。

在其中一些实施例中，所述镀膜空间的内壁为镜面加工，从而提高所述镀膜空间的内壁的表面光滑度。

在其中一些实施例中，所述镀膜空间的内壁表面粗糙度为0.8um。

在其中一些实施例中，所述镀膜单元进一步包括至少一预留窗口，所述预留窗口被固定设置于所述主体结构以便能够在所述预留窗口安装ICP。

在其中一些实施例中，所述主体结构为不锈钢材料制成，所述预留窗口为透明玻璃制成，且所述主体结构与所述预留窗口为一体密封连接。

在其中一些实施例中，所述镀膜装置的镀膜系统进一步包括至少一通电单元，所述通电单元被设置于所述镀膜装置的所述镀膜单元并能够为所述镀膜空间内的该待镀膜产品提供电场以产生等离子体。

在其中一些实施例中，所述通电单元的一端与一电源电性连接，所述通电单元的另一端被设置于所述镀膜单元并能够为所述镀膜空间提供电场。

在其中一些实施例中，所述镀膜装置的镀膜系统进一步包括至少一负压产生单元，所述负压产生单元的一端连接至少一动力元件，另一端被设置于所述镀膜单元并与所述镀膜空间相连通，从而在所述动力元件的作用下为所述镀膜空间提供负压环境。

在其中一些实施例中，所述动力元件为一真空泵。

在其中一些实施例中，所述镀膜装置的镀膜系统进一步包括至少一进气系统，所述进气系统的一端与一气源连通，且所述进气系统被设置于所述镀膜装置并与所述镀膜空间相通从而将所述气源提供的镀膜气体输送至所述镀膜空间。

在其中一些实施例中，该待镀膜产品被放置于一支撑单元，所述支撑单元被活动设置于所述镀膜空间内，从而通过所述支撑单元为该待镀膜产品提供支撑力。

在其中一些实施例中，所述支撑单元的形状与所述镀膜单元的所述镀膜空间的形状一致。

在其中一些实施例中，所述支撑单元被设置为所述镀膜装置的所述进气系统。

在其中一些实施例中，所述支撑单元包括自上而下设置的多层支撑板，该待镀膜产品分别被放置于各层所述支撑板。

在其中一些实施例中，所述支撑单元进一步包括至少一支撑元件，所述支撑元件沿着多层所述支撑板自上而下设置以支撑并连接各层所述支撑板。

在其中一些实施例中，所述支撑元件为中空结构，且相邻两层所述支撑板之间的所述支撑元件朝向所述支撑单元的中心轴的方向设置有至少一个送气孔，所述支撑元件与所述气源连通，从而能够将所述气源提供的气体通过所述支撑元件输送至各层所述支撑板上的该待镀膜产品的表面。

附图说明

图1为本发明所述的镀膜装置的镀膜系统的第一实施例的立体结构示意图。

图2为本发明所述的镀膜系统中的所述密封结构的主视结构示意图即A-A处的剖面结构示意图以及B处的放大结构示意图。

图3为本发明所述的镀膜装置的镀膜系统的第一实施例的应用场景的立体示意图及C处的放大结构示意图。

图4为本发明所述的镀膜装置的镀膜系统的第一实施例的一变形实施方式的结构示意图。

具体实施方式

以下描述用于揭露本发明以使本领域技术人员能够实现本发明。以下描述中的优选实施例只作为举例，本领域技术人员可以想到其他显而易见的变型。在以下描述中界定的本发明的基本原理可以应用于其他实施方案、变形方案、改进方案、等同方案以及没有背离本发明的精神和范围的其他技术方案。

本领域技术人员应理解的是，在本发明的揭露中，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系是基于附图所示的方位或位置关系，其仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此上述术语不能理解为对本发明的限制。

可以理解的是，术语“一”应理解为“至少一”或“一个或多个”，即在一个实施例中，一个元件的数量可以为一个，而在另外的实施例中，该元件的数量可以为多个，术语“一”不能理解为对数量的限制。

本发明的主要目的在于提供一种镀膜装置10的镀膜系统11，所述镀膜装置10的镀膜系统11用于为至少一待镀膜产品提供一镀膜空间1110从而进行类金刚石涂层镀膜。

详细而言，如图1至图3所示，在本发明的第一实施例中，所述镀膜装置10的镀膜系统11用于一镀膜装置10完成对该待镀膜产品的镀膜过程，所述镀膜装置10的镀膜系统11包括至少一镀膜空间1110，所述镀膜空间1110由所述镀膜装置10中的一镀膜单元111形成，用于容纳该待镀膜产品并使该待镀膜产品完成类金刚石涂层的镀膜过程。

更具体地，在本发明的第一实施例中，所述镀膜单元111为一六面立方体结构以使形成的所述镀膜空间1110为规则的一长方体或正方体结构，以便于放置该待镀膜产品。其中，所述镀膜单元111包括一主体结构1111和一门扇1112，所述门扇1112被转动连接于所述主体结构1111以使所述门扇1112能够相对于所述主体结构1111进行开启或关闭，从而实现对所述镀膜空间1110的开启或关闭。进一步地，所述门扇1112上下设置4个螺栓以控制所述门扇1112的四个角与所述主体结构1111的间距，从而调整所述镀膜空间1110的密封性能。在本发明的第一实施例中，所述镀膜单元111的所述镀膜空间1110的尺寸为800mm*638mm*740mm，但本发明的具体实施方式并不以此为限，本领域技术人员可以根据实际需求将所述镀膜空间1110的尺寸设置任何参数，只要能满足通过与本发明相同或相似的技术方案对该待镀膜产品进行镀膜即可。

除此以外，本领域技术人员也可以将所述镀膜单元111的所述镀膜空间1110设置为其他形状，比如圆筒形等，而当所述镀膜单元111的所述镀膜空间1110被设置为圆筒形，那么所述镀膜空间1110的长度和其直径以及所述镀膜单元111的壁厚之间的关系需要符合公式：

式中，

L_l为圆筒形的所述镀膜空间1110的临界长度(mm)；

Di为圆筒形的所述镀膜空间1110的直径(mm)；

S为形成所述圆筒形的所述镀膜空间1110的所述镀膜单元111的壁厚(mm)。

换句话说，只要采用了与本发明相同或近似的技术方案，解决了与本发明相同或近似的技术问题，并且达到了与本发明相同或近似的技术效果，都属于本发明的保护范围之内，本发明的具体实施方式并不以此为限。

优选地，所述镀膜单元111为不锈钢材料制成，由于不锈钢材料具有优异的耐腐蚀性能，因此用不锈钢材料制成的所述镀膜单元111抵挡该待镀膜产品在镀膜过程中所需求的镀膜气体的腐蚀，从而提高所述镀膜装置10的使用寿命，并相应提高该待镀膜产品在镀膜过程中的品质的稳定性以及降低该待镀膜产品的生产成本。在本发明的第一实施例中，所述镀膜单元111是采用AISI304不锈钢制成，且由于该待镀膜产品在所述镀膜空间1110内进行镀膜，为降低所述镀膜气体对所述镀膜空间1110的污染以及减少所述镀膜空间1110对镀膜气体的吸收并降低所述镀膜空间1110的清理难度，在本发明的第一实施例中，所述镀膜空间1110的内壁采用镜面加工。优选地，所述镀膜空间1110的内壁通过抛光方式进行镜面加工，且加工后的表面粗糙度要求在2.0um以下。优选地，所述镀膜空间1110的内壁的表面粗糙度要求小于0.8um。

此外，本领域技术人员可以根据实际情况确定所述镀膜空间1110内壁的加工方式以及所述镀膜空间1110内壁的表面粗糙度，比如通过磨削、挤压或电火花等方式达到实际需要或客户需求的任意表面粗糙度，只要采用了与本发明相同或近似的技术方案，解决了与本发明相同或近似的技术问题，并且达到了与本发明相同或近似的技术效果，都属于本发明的保护范围之内，本发明的具体实施方式并不以此为限。

优选地，在本发明的第一实施例中，所述主体结构1111进一步包括至少一密封结构11111，所述密封结构11111被设置于所述主体结构1111上并位于所述主体结构1111与所述门扇1112的交接处以提高所述门扇1112与所述主体结构1111的密封效果。换句话说，所述密封结构11111被固定设置于所述主体结构1111的门框处，以使当所述门扇1112被闭合于所述主体结构1111时，能形成完全密闭的所述镀膜空间1110。

详细而言，如图所示，所述密封结构11111为一燕尾槽密封圈，所述所述燕尾槽结构的密封圈中的具有槽体的第二侧111112被固定于所述镀膜单元111中的所述主体结构1111以使所述燕尾槽的平滑的第一侧111111被设置于所述主体结构1111与所述门扇1112之间。

因此当所述门扇1112相对于所述主体结构1111转动而关闭所述镀膜空间1110时，所述密封结构1111(即燕尾槽密封圈)不仅能紧紧密封所述门扇1112与所述主体结构1111之间的缝隙，而且在所述门扇1112被转动以离开所述主体结构1111从而打开所述镀膜空间1110时，不会由于所述镀膜空间1110的负压环境或吸力等因素而导致所述密封结构11111脱离于所述主体结构1111，从而使所述门扇1112与所述主体结构1111之间的缝隙能够被所述密封结构11111内的密封圈稳固地密封，以此提高所述镀膜空间1110的密封性，从而进一步提高所述镀膜装置10对该待镀膜产品的镀膜效果。

作为本发明的一种变形，所述密封结构11111也可以被设置为其他形状，比如本领域技术人员根据实际需求将所述密封结构11111设置为梯形或卡槽型等，只要采用了与本发明相同或近似的技术问题，解决了与本发明相同或近似的技术方案，并且达到了与本发明相同或近似的技术效果，都属于本发明的保护范围之内，本发明的具体实施方式并不以此为限。

需要注意的是，在本发明的第一实施例中，所述镀膜空间1110的腔壁1112包括至少一预留窗口11121，所述预留窗口11121位于所述镀膜空间1110的腔壁1112并且与所述镀膜空间1110的腔壁1112密封，以使工作所述腔壁1112能够安装ICP，而当不需要的时候，则可以通过不透明物体对所述预留窗口11121进行遮挡。优选地，所述预留窗口11121为透明玻璃制成。

进一步地，在本发明的第一实施例中，所述镀膜装置10的镀膜系统11进一步包括至少一通电单元112，所述通电单元112被设置于所述镀膜装置10的所述镀膜单元111并能够为所述镀膜空间1110内的该待镀膜产品提供电场以产生等离子体而完成类金刚石涂层的镀膜过程。

优选地，所述通电单元112的一端与一电源电性联通，所述通电单元112的另一端通过所述镀膜单元111能够为所述镀膜空间1110内的该待镀膜产品提供电力。在本发明的第一实施例中，所述通电单元112被实施为一供电组件1121，所述供电组件1121的一端被电性连接于所述电源，所述供电组件1121的另一端被固定于所述镀膜单元111并位于所述镀膜空间1110内部，以使当该待镀膜产品开始类金刚石涂层镀膜使能够通过所述供电组件1121进行供电，从而向所述镀膜空间1110内提供等离子体。

所述镀膜装置10的镀膜系统11进一步包括至少一负压产生单元113，所述负压产生单元113的一端连接至少一动力元件，从而为所述负压产生单元113提供动力，所述负压产生单元113的另一端被设置于所述镀膜单元111并与所述镀膜空间1110相通，从而在所述动力元件的动力作用下能够通过所述负压产生单元113为所述镀膜空间1110提供负压环境。

优选地，在本发明的第一实施例中，所述负压产生单元113被实施为一管道1131，所述管道1131的一端口被设置于所述镀膜单元111的所述主体结构1111上并与所述镀膜单元111的所述镀膜空间1110连通，所述管道1131的另一端口被连接于所述动力单元114，从而所述动力单元114通过所述管道1131为所述镀膜单元111的所述镀膜空间1110提供负压环境。进一步地，所述动力单元114被实施为一真空泵1141，通过所述真空泵1141为所述镀膜空间1110进行抽真空从而提供负压环境。除此以外，本领域技术人员可以根据实际情况选择所述动力单元114的类型，只要采用了与本发明相同或近似的技术方案，解决了与本发明相同或近似的技术问题，并且达到了与本发明相同或近似的技术效果，都属于本发明的保护范围之内，本发明的具体实施方式并不以此为限。

在本发明的第一实施例中，所述镀膜装置10的镀膜系统11进一步包括至少一进气单元115，所述进气单元115的一端连接一气源装置，所述进气单元115的另一端与所述镀膜空间1110连通从而将该气源装置提供的镀膜气体输送至所述镀膜空间1110内。也就是说，所述进气单元115被设置于所述镀膜系统11并能够为所述镀膜空间1110内提供镀膜气体，从而使该待镀膜产品完成类金刚石涂层的镀膜。

更进一步地，在本发明的第一实施例中，该待镀膜产品被放置于一支撑单元116，通过所述支撑单元116为该待镀膜产品提供支撑力。优选地，所述支撑单元116被活动设置于所述镀膜单元111的所述镀膜空间1110内，从而使所述支撑单元116能够相对于所述镀膜空间1110进行活动，如此，该待镀膜产品可以在所述支撑单元116进入所述镀膜空间1110之前被放置于所述支撑单元116，之后再将支撑有该待镀膜产品的所述支撑单元116推入所述镀膜单元111的所述镀膜空间1110，从而能够提高该待镀膜产品放置于所述支撑单元116的便利性和安全性，以此提高所述镀膜装置10的工作效率。

优选地，在本发明的第一实施例中，所述支撑单元116的形状与所述镀膜单元111的所述镀膜空间1110的形状一致，从而提高所述支撑单元116对该待镀膜产品的支撑率，以此提高所述镀膜单元111的所述镀膜空间1110一次性容纳的该待镀膜产品的数量。详细而言，在本发明的第一实施例中，所述镀膜空间1110为一竖直向上的长方体结构，所述支撑单元116的形状也为一竖直向上设置的长方体结构并且尺寸与所述镀膜空间1110的尺寸适配，以使所述支撑单元116能够被放置于所述镀膜单元111的所述镀膜空间1110内。

作为本发明的第一实施例的一种变形，所述镀膜单元111的所述镀膜空间1110也可以被设置为其他结构，比如若所述镀膜单元111如果由于体积太大或者是原材料质量的原因等而导致所述镀膜单元111重量太重，那么所述镀膜单元111会被设置为在横向方向延伸的长方体，相应地，所述镀膜空间1110也设置为在横向方向延伸的长方体，那么所述支撑单元116也会被设置为横向方向延伸的长方体，以使所述支撑单元116不仅能够被放置于所述镀膜空间1110的内部，而且能最大化承载更多的该待镀膜产品，从而提高所述镀膜装置10的镀膜效率。

除此以外，本领域技术人员可以根据实际情况确定所述镀膜单元111的所述镀膜空间1110以及所述支撑单元116的具体形状，比如所述镀膜单元111的所述镀膜空间1110也可以被设置为其他结构，比如设置为椭圆形或菱形等形状，此时所述支撑单元116的形状也会随着所述镀膜空间1110的形状的改变而改变。换句话说，只要采用了与本发明相同或近似的技术方案，解决了与本发明相同或近似的技术问题，并且达到了与本发明相同或近似的技术效果，都属于本发明的保护范围之内，本发明的具体实施方式并不以此为限。

更进一步地，在本发明的第一实施例中，所述支撑单元116被设置为所述镀膜装置10的所述进气单元115，即该气源装置通过与所述支撑单元116连通，通过所述支撑单元116为该待镀膜产品提供镀膜气体。优选地，通过所述支撑单元116将所述气源提供的镀膜气体由该待镀膜产品的上端到达该待镀膜产品的表面，从而使该待镀膜产品的表面能够被均匀镀膜。

详细而言，在本发明的第一实施例中，所述支撑单元116包括从上而下设置的多层支撑板1161，该待镀膜产品分别被放置于各层所述支撑板1161上，所述支撑单元116进一步包括至少一支撑元件1162，所述支撑元件1162沿着多层所述支撑板1161自上而下设置，用于支撑并连接各层所述支撑板1161。所述支撑元件1162为中空结构，且相邻两层所述支撑板1161之间的所述支撑元件1162朝向所述支撑单元116的中心轴的方位设置有一个或多个送气孔1163，所述支撑元件1162与该气源装置连通，从而使从该气源装置进来的镀膜气体能够通过所述支撑元件1162的所述送气孔1163到达各层所述支撑板1161的上方，从而为各层所述支撑板1161上的该待镀膜产品提供镀膜气体。

作为本发明的一种改进，本领域技术人员可以根据实际情况选择镀膜气体从所述支撑单元116到达该待镀膜产品的表面的方式，比如将所述支撑元件1162上的送气孔1163设置于该待镀膜产品的顶部，则镀膜气体则从该待镀膜产品的顶部到达该待镀膜产品的表面，若将所述支撑元件1162上的送气孔1163设置于该待镀膜产品的周围，则镀膜气体则从该待镀膜产品的周围到达该待镀膜产品的表面，本发明的具体实施方式并不以此为限。

此外，所述气源也可以与所述镀膜单元111的所述镀膜空间1110的腔壁1112连通，从而通过所述镀膜空间1110的腔壁1112向其内部提供镀膜气体，以使位于所述镀膜空间1110内部的该待镀膜产品能够均匀地接收镀膜气体，以完成类金刚石涂层的镀膜。

接下来，对本发明所述的镀膜装置10的镀膜系统11的工作原理做进一步的简单说明。

将该待镀膜产品放置于所述支撑单元116上，并将所述支撑单元116设置于所述镀膜单元111的所述镀膜空间1110内，将所述镀膜空间1110密封并通过所述负压产生单元113使所述镀膜空间1110内部处于负压状态，再通过所述通电单元112向所述镀膜空间1110内部通电，之后通过所述气源向所述镀膜空间1110内提供镀膜气体，镀膜气体通过所述镀膜空间1110的腔壁1112或者所述镀膜空间1110内部的所述支撑单元116中的所述支撑元件1162向该待镀膜产品的表面提供气体，从而通过化学沉积的方法完成该待镀膜产品的类金刚石涂层镀膜。

其中，在镀膜过程中，由于所述镀膜空间1110的腔壁1112设置有所述预留窗口11121，工作人员可以通过所述预留窗口11121在所述腔壁1112上安装ICP，当不需要时则会通过一不透明物体对所述预留窗口11121进行遮挡。

如图4所示，为本发明所述的镀膜装置10的镀膜系统11的第一实施例的一变形实施方式的结构示意图。

与本发明上述第一实施例不同的是，在该变形实施方式中，所述进气单元115’被实施为至少一根进气管道1151，所述进气管道1151的一端与该气源装置连接，所述进气管道1151的另一端与所述镀膜空间1110连通，从而为所述镀膜空间1110输送镀膜气体。

优选地，在该变形实施方式中，所述进气单元115’被实施为两根所述进气管道1151’，两根所述进气管道1151’分别被垂直设置于所述镀膜空间1110的腔壁1112上，且两根所述进气管道上分别设置有一个或多个出气孔11510’，且一个或多个所述出气孔11510’被沿着所述进气管道1151’自上而下均匀设置，从而使从一个或多个所述出气孔11510’中出来的镀膜气体能够被均匀输送至所述镀膜空间1110的所有位置。

换句话说，在本发明的该变形实施方式中，所述进气单元115’被设置为通过所述镀膜空间1110的腔壁1112上的所述进气管道1151’对所述镀膜空间1110进行送气，从而在不影响所述镀膜空间1110大小的前提下对该带镀膜产品提供镀膜气体。

除此以外，本领域技术人员可以根据实际情况对所述进气单元115’的具体结构进行其他调整，只要在本发明上述结论的技术方案的基础上，采用了与本发明相同或近似的技术方案，解决的是与本发明相同或近似的技术问题，并且达到了与本发明相同或近似的技术效果，都属于本发明的保护范围内，本发明的具体实施方式并不以此为限。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。

本领域的技术人员应理解，上述描述及附图中所示的本发明的实施例只作为举例而并不限制本发明。本发明的目的已经完整并有效地实现。本发明的功能及结构原理已在实施例中展示和说明，在没有背离所述原理下，本发明的实施方式可以有任何变形或修改。

Claims (23)

1.一种镀膜装置的镀膜系统，用于一镀膜装置为至少一待镀膜产品提供一镀膜空间，其特征在于，所述镀膜装置的镀膜系统在所述镀膜空间内为所述待镀膜产品完成类金刚石涂层镀膜，其中所述镀膜空间为六面立方体结构且能够被密闭。

2.根据权利要求1所述的镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜系统包括一镀膜单元，所述镀膜空间形成于所述镀膜单元用于容纳所述待镀膜产品并使所述待镀膜产品在所述镀膜空间内完成类金刚石涂层的镀膜过程。

3.根据权利要求2所述的镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜单元包括一主体结构和一门扇，所述门扇被转动连接于所述主体结构以使所述门扇能够相对于所述主体结构对所述镀膜空间进行开启或关闭。

4.根据权利要求3所述的镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜单元进一步包括至少一密封结构，所述密封结构被固定设置于所述主体结构并位于所述主体结构与所述门扇的连接处，从而提高所述门扇与所述主体结构的连接紧密型，以此提高所述镀膜空间的密封性。

5.根据权利要求4所述的镀膜装置的镀膜系统，其中所述密封结构为一燕尾槽密封圈。

6.根据权利要求5所述的镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜单元为不锈钢材料制成。

7.根据权利要求4或6所述的镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜空间的内壁表面粗糙度小于2.0um。

8.根据权利要求7所述的镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜空间的内壁为镜面加工，从而提高所述镀膜空间的内壁的表面光滑度。

9.根据权利要求8所述的镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜空间的内壁表面粗糙度为0.8um。

10.根据权利要求5所述的镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜单元进一步包括至少一预留窗口，所述预留窗口被固定设置于所述主体结构以便于能够通过所述预留窗口安装ICP。

11.根据权利要求10所述的镀膜装置的镀膜系统，其中所述主体结构为不锈钢材料制成，所述预留窗口为透明玻璃制成，且所述主体结构与所述预留窗口为一体密封连接。

12.根据权利要求11所述的镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜装置的镀膜系统进一步包括至少一通电单元，所述通电单元被设置于所述镀膜装置的所述镀膜单元并能够为所述镀膜空间内的所述待镀膜产品提供电场以产生等离子体。

13.根据权利要求12所述的镀膜装置的镀膜系统，其中所述通电单元的一端与一电源电性连接，所述通电单元的另一端被设置于所述镀膜单元并能够为所述镀膜空间提供电场。

14.根据权利要求11或13所述的镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜装置的镀膜系统进一步包括至少一负压产生单元，所述负压产生单元的一端连接至少一动力元件，另一端被设置于所述镀膜单元并与所述镀膜空间相连通，从而在所述动力元件的作用下为所述镀膜空间提供负压环境。

15.根据权利要求14所述的镀膜装置的镀膜系统，其中所述动力元件为一真空泵。

16.根据权利要求11或15所述的镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜装置的镀膜系统进一步包括至少一进气系统，所述进气系统的一端与一气源连通，且所述进气系统被设置于所述镀膜装置并与所述镀膜空间相通从而将所述气源提供的镀膜气体输送至所述镀膜空间。

17.根据权利要求16所述的镀膜装置的镀膜系统，其中所述待镀膜产品被放置于一支撑单元，所述支撑单元被活动设置于所述镀膜空间内，从而通过所述支撑单元为所述待镀膜产品提供支撑力。

18.根据权利要求17所述的镀膜装置的镀膜系统，其中所述支撑单元的形状与所述镀膜单元的所述镀膜空间的形状一致。

19.根据权利要求18所述的镀膜装置的镀膜系统，其中所述支撑单元被设置为所述镀膜装置的所述进气系统。

20.根据权利要求19所述的镀膜装置的镀膜系统，其中所述支撑单元包括自上而下设置的多层支撑板，所述待镀膜产品分别被放置于各层所述支撑板。

21.根据权利要求20所述的镀膜装置的镀膜系统，其中所述支撑单元进一步包括至少一支撑元件，所述支撑元件沿着多层所述支撑板自上而下设置以支撑并连接各层所述支撑板。

22.根据权利要求21所述的镀膜装置的镀膜系统，其中所述支撑元件为中空结构，且相邻两层所述支撑板之间的所述支撑元件朝向所述支撑单元的中心轴的方向设置有至少一个送气孔，所述支撑元件与所述气源连通，从而能够将所述气源提供的气体通过所述支撑元件输送至各层所述支撑板上的所述待镀膜产品的表面。

23.根据权利要求3所述的镀膜装置的镀膜系统，其中所述门扇通过一个或多个螺栓转动连接于所述主体结构，且一个或多个所述螺栓并均匀设置于所述门扇以均匀调节所述门扇与所述主体结构之间的间距，进而调整所述镀膜空间的密封性能。

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