CN211590637U - 一种甩釉装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开并提供了一种能够为砖面添加不规则釉点图案的甩釉装置。本实用新型移包括机台座，所述机台座上设配设置有链排传输带、甩釉塔以及上釉机构，所述甩釉塔竖直设置在所述机台座上，所述甩釉塔的底部设置有甩釉口，所述甩釉口置于所述链排传输带的上方，所述甩釉塔的外塔壁上设置有甩釉电机，所述甩釉塔的内塔壁上设置有旋转甩釉喷头，所述旋转甩釉喷头与所述甩釉电机的输出端相连接，所述旋转甩釉喷头置于所述链排传输带的上方，所述上釉机构与所述旋转甩釉喷头相连接。本实用新型适用于陶瓷砖体表面上釉领域。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种甩釉装置。
背景技术
在陶瓷砖的生产中，根据客户的要求，需要生产表面有不规则釉点的瓷砖。以往的施釉机其喷釉效果是规则均匀的，其所施釉的砖体不符合企业客户对于砖面施釉效果的要求，所以需要根据实际设计出一种能够在砖体表面添加不规则釉点的上釉装置。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种能够为砖面添加不规则釉点图案的甩釉装置。
本实用新型所采用的技术方案是：本实用新型移包括机台座，所述机台座上设配设置有链排传输带、甩釉塔以及上釉机构，所述甩釉塔竖直设置在所述机台座上，所述甩釉塔的底部设置有甩釉口，所述甩釉口置于所述链排传输带的上方，所述甩釉塔的外塔壁上设置有甩釉电机，所述甩釉塔的内塔壁上设置有旋转甩釉喷头，所述旋转甩釉喷头与所述甩釉电机的输出端相连接，所述旋转甩釉喷头置于所述链排传输带的上方，所述上釉机构与所述旋转甩釉喷头相连接。
所述旋转甩釉喷头置于所述甩釉口的上方，所述甩釉塔的顶部呈扁塔状，所述旋转甩釉喷头置于所述扁塔状顶部的下方。
所述旋转甩釉喷头包括呈扁圆柱体状的釉盒，所述釉盒与所述甩釉电机的输出端相连接，所述釉盒的侧面上均匀连通设置有若干个甩釉嘴。
所述上釉机构包括釉桶、釉料搅拌机、上釉泵以及除铁棒，所述釉料搅拌机架设在所述釉桶上，所述上釉泵的进釉端置于所述釉桶内，所述上釉泵的出釉端与所述釉盒相连接，所述除铁棒适配竖直置于所述釉桶内。
所述甩釉塔的底部设置有釉料回流管，所述釉料回流管与所述釉桶相连接。
本实用新型的有益效果是：在本实用新型中，喷釉头釉扁圆柱体状的釉盒与设置在釉盒侧面的若干个甩釉嘴组成，在甩釉电机的带动下通过离心力把釉盒内的釉料经甩釉嘴甩在砖体表面，达到为砖体表面添加不规则釉点图案的目的；
在本实用新型中，旋转甩釉喷头的没有甩喷到转体表面的釉料会甩喷在甩釉塔的内壁，由于甩釉塔的顶部呈扁塔状，所以被甩喷在塔顶内壁的釉料会沿着塔顶内壁往下流，并带动塔壁的其它釉料流向塔底，最后经釉料回流管回流至釉桶内，以达到釉料回收再用目的；
在本实用新型中，在釉桶中设置有除铁棒，能够有效吸附叼釉料中的金属杂质，保证釉料的纯度；
在本具体实施例中，采用了链排传输带来传送砖体，链排式传输带由于其与砖体的接触面积小，这样相对于以往的宽带状传输带更加不会形成沾底。
附图说明
图1是本实用新型的侧面结构示意图；
图2是本实用新型的正面结构示意图。
具体实施方式
如图1、图2所示，本实用新型包括机台座1，所述机台座1上设配设置有链排传输带2、甩釉塔3以及上釉机构，所述链排传输带2上横向设置有若干条承托链条21，所述机台座1的一端上设置有输送电机，所述链排传输带2与所述输送电机的输出端相连接。所述甩釉塔3竖直设置在所述机台座1上，所述甩釉塔3的底部设置有甩釉口，所述甩釉口置于所述链排传输带2的上方，所述甩釉塔3的外塔壁上设置有甩釉电机31，所述甩釉塔3的内塔壁上设置有旋转甩釉喷头，所述旋转甩釉喷头与所述甩釉电机31的输出端相连接，所述旋转甩釉喷头置于所述链排传输带2的上方，所述上釉机构与所述旋转甩釉喷头相连接。
所述旋转甩釉喷头置于所述甩釉口的上方，所述甩釉塔3的顶部呈扁塔状，所述旋转甩釉喷头置于所述扁塔状顶部的下方。所述旋转甩釉喷头包括呈扁圆柱体状的釉盒33，所述釉盒33与所述甩釉电机31的输出端相连接，所述釉盒33的侧面上均匀连通设置有若干个甩釉嘴34。
所述上釉机构包括釉桶41、釉料搅拌机42、上釉泵43以及除铁棒，所述釉料搅拌机42通过架梁42架设在所述釉桶41上，所述釉料搅拌机42的搅拌端置于所述釉桶41内，所述上釉泵43的进釉端置于所述釉桶41内，所述上釉泵43的出釉端通过输送管与所述釉盒33相连接，所述除铁棒适配竖直置于所述釉桶41内，在本具体实施例中，所述除铁棒为磁铁棒，用以吸附釉料中多余的金属杂质。所述甩釉塔3的底部设置有釉料回流管，所述釉料回流管与所述釉桶41相连接。
工作前，所述釉料搅拌机42将所述釉桶41的釉料进行搅拌，搅拌结束后所述釉泵43将釉料泵送至所述釉盒33内，所述釉盒33在所述甩釉电机31的带动下转动，从而利用离心力将釉料通过若干个所述甩釉嘴34向外甩出，同时所述链排传输带2开始将待上釉砖传送至所述甩釉口，砖体上表面被甩上无规则釉料。过程中，所述甩釉电机31的带动所述釉盒先顺时针方向转动一百八十度，然后再逆时针回转一百八十度，另外甩在所述甩釉塔3内壁的釉料在自身的重力作用下流向所述甩釉塔3的底部，最后通过所述釉料回流管回流至所述釉料特别是甩在所述甩釉塔3顶部内壁的釉料，由于所述甩釉塔3顶部呈扁塔状，即上尖下宽状，所以在所述甩釉塔3顶部内壁的釉料顺着斜边内壁能够更好地下流，避免在所述甩釉塔3顶部积聚，能够更好地将釉料回收。
本实用新型适用于陶瓷砖体表面上釉领域。
Claims (5)
1.一种甩釉装置，其特征在于：它包括机台座（1），所述机台座（1）上设配设置有链排传输带（2）、甩釉塔（3）以及上釉机构，所述甩釉塔（3）竖直设置在所述机台座（1）上，所述甩釉塔（3）的底部设置有甩釉口，所述甩釉口置于所述链排传输带（2）的上方，所述甩釉塔（3）的外塔壁上设置有甩釉电机（31），所述甩釉塔（3）的内塔壁上设置有旋转甩釉喷头，所述旋转甩釉喷头与所述甩釉电机（31）的输出端相连接，所述旋转甩釉喷头置于所述链排传输带（2）的上方，所述上釉机构与所述旋转甩釉喷头相连接。
2.根据权利要求1所述的一种甩釉装置，其特征在于：所述旋转甩釉喷头置于所述甩釉口的上方，所述甩釉塔（3）的顶部呈扁塔状，所述旋转甩釉喷头置于所述扁塔状顶部的下方。
3.根据权利要求2所述的一种甩釉装置，其特征在于：所述旋转甩釉喷头包括呈扁圆柱体状的釉盒（33），所述釉盒（33）与所述甩釉电机（31）的输出端相连接，所述釉盒（33）的侧面上均匀连通设置有若干个甩釉嘴（34）。
4.根据权利要求3所述的一种甩釉装置，其特征在于：所述上釉机构包括釉桶（41）、釉料搅拌机（42）、上釉泵（43）以及除铁棒，所述釉料搅拌机（42）架设在所述釉桶（41）上，所述上釉泵（43）的进釉端置于所述釉桶（41）内，所述上釉泵（43）的出釉端与所述釉盒（33）相连接，所述除铁棒适配竖直置于所述釉桶（41）内。
5.根据权利要求4所述的一种甩釉装置，其特征在于：所述甩釉塔（3）的底部设置有釉料回流管，所述釉料回流管与所述釉桶（41）相连接。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN201922465672.0U CN211590637U (zh) | 2019-12-31 | 2019-12-31 | 一种甩釉装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Family Applications (1)
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Country Status (1)
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|---|---|
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2019
- 2019-12-31 CN CN201922465672.0U patent/CN211590637U/zh active Active
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