CN211227309U - 一种大型蒸发镀膜机的腔体 - Google Patents

一种大型蒸发镀膜机的腔体 Download PDF

Info

Publication number
CN211227309U
CN211227309U CN201922155466.XU CN201922155466U CN211227309U CN 211227309 U CN211227309 U CN 211227309U CN 201922155466 U CN201922155466 U CN 201922155466U CN 211227309 U CN211227309 U CN 211227309U
Authority
CN
China
Prior art keywords
cavity
chamber
cavity body
flange
door
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201922155466.XU
Other languages
English (en)
Inventor
郭爱云
朱选敏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wuhan Jiuyi Intelligent Technology Co.,Ltd.
Original Assignee
Wuhan Keruida Vacuum Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wuhan Keruida Vacuum Technology Co ltd filed Critical Wuhan Keruida Vacuum Technology Co ltd
Priority to CN201922155466.XU priority Critical patent/CN211227309U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN211227309U publication Critical patent/CN211227309U/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本实用新型涉及一种大型蒸发镀膜机的腔体,包括腔本体、腔体门,所述腔本体一侧开口,所述腔体门安装在腔本体的开口处,所述腔本体与腔体门的外壁上设置有具有冷却功能的冷却系统;所述腔本体的顶板上设置有一个第一法兰;所述腔本体的侧壁上设置有用于安装高真空获得装置和简易挡板阀的第二法兰;所述腔本体的侧壁上还设置有第三法兰;所述腔体门的侧壁上设置有三个观察视窗;所述冷却系统包括布满腔本体与腔体门的外壁的冷却水道。本实用新型通过在腔体的外侧壁上布置冷却水道,使用冷却水经过冷却水道与腔体壁接触实现换热,将腔体内因蒸镀产生的大量的热带出,可以有效降低腔体的温度。

Description

一种大型蒸发镀膜机的腔体
技术领域
本实用新型涉及蒸发镀膜技术领域,具体涉及一种大型蒸发镀膜机的腔体。
背景技术
真空蒸镀,简称蒸镀,是指在真空条件下,采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化,粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。
电子束蒸镀是利用加速电子轰击镀膜材料,电子的动能转换成热能使镀膜材料加热蒸发,并成膜。电子枪有直射式、环型和E型之分。电子束加热蒸镀的特点是能获得极高的能量密度,最高可达109w/cm2,加热温度可达3000~6000℃,可以蒸发难熔金属或化合物;被蒸发材料置于水冷的坩埚中,可避免坩埚材料的污染,制备高纯薄膜;另外,由于蒸发物加热面积小,因而热辐射损失减少,热效率高。蒸发镀膜的腔体用于放置待镀膜的工件;在其腔体设置有一个及以上的真空泵。
现有的电子束蒸发镀膜,处置大型工件时,腔体内会产生的大量的热,无法有效的降低及回收,而且使用的是真空泵,所以体积大效率不高。
实用新型内容
本实用新型针对现有技术中存在的技术问题,提供一种大型蒸发镀膜机的腔体。
本实用新型解决上述技术问题的技术方案如下:
一种大型蒸发镀膜机的腔体,包括腔本体、腔体门,所述腔本体一侧开口,所述腔体门安装在腔本体的开口处,所述腔本体与腔体门的外壁上设置有具有冷却功能的冷却系统;所述腔本体的顶板上设置有一个第一法兰;所述腔本体的侧壁上设置有用于安装高真空获得装置和简易挡板阀的第二法兰;所述腔本体的侧壁上还设置有第三法兰;所述腔体门的侧壁上设置有三个观察视窗;所述冷却系统包括布满腔本体与腔体门的外壁的冷却水道。
本实用新型的有益效果是:通过在腔体的外侧壁上布置冷却水道,使用冷却水经过冷却水道与腔体壁接触实现换热,将腔体内因蒸镀产生的大量的热带出,可以有效降低腔体的温度。
在上述技术方案的基础上,本实用新型还可以做如下改进。
进一步的,所述腔本体的顶板上的第一法兰用于安装基片架转动系统和膜厚监控系统。
进一步的,所述第二法兰根据腔体大小设置为一个,两个或三个。
进一步的,所述第二法兰的形状与高真空获得装置适配,其形状为方形或圆形。
进一步的,所述高真空获得装置为低温冷凝泵和任意角度安装的分子泵。
进一步的,所述第三法兰有两个,用于安装活动的均匀性调节板。
进一步的,所述所述腔本体的侧壁下部设置有两个焊接的用于与粗抽气系统连接的第四法兰。
进一步的,所述腔本体的下方设置有机架,所述腔本体固定安装在机架上。
进一步的,所述机架与腔本体的安装面为框架结构。
采用上述进一步方案的有益效果是:进一步提升降温效果,加速散热;使用低温冷凝泵和任意角度安装的分子泵代替真空泵,体积小且效率高。
附图说明
图1为蒸发镀膜机腔体的立体结构示意图;
图2为蒸发镀膜机腔体的顶部结构示意图;
附图中,各标号所代表的部件列表如下:
10、腔本体,11、腔体门,21、冷却水道,30、机架,40、高真空获得装置,51、第一法兰,52、第二法兰,53、第三法兰,54、观察视窗,55、第四法兰。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的原理和特征进行描述,所举实例只用于解释本实用新型,并非用于限定本实用新型的范围。
图1为蒸发镀膜机腔体的立体结构示意图;
图2为蒸发镀膜机腔体的顶部结构示意图。
实施例
如图1和2所示,一种大型蒸发镀膜机的腔体,包括腔本体10、腔体门11,所述腔本体10一侧开口,所述腔体门11安装在腔本体10的开口处,所述腔本体10与腔体门11的外侧壁上均布满冷却水道21。
通过在腔体的外侧壁上布置冷却水道21,使用冷却水经过冷却水道21与腔体壁接触实现换热,将腔体内因蒸镀产生的大量的热带出,可以有效降低腔体的温度。
所述冷却水道21为“S”形弯折布置。这样布置的特点是能尽可能提高腔本体10侧壁上布置冷却水道21的长度,从而延长冷却水的换热时间,提升降温效果。
所述腔本体10的下方设置有机架30,所述腔本体10固定安装在机架30上。机架30将腔本体10抬高悬空,有利于空气流通,避免腔本体10底部直接安装在地面上而压缩底部空间,导致底部热量聚集难以散失。
所述机架30与腔本体10的安装面为框架结构,腔本体10通过螺栓等连接件与机架30固定。框架结构能尽可能避免对腔本体10造成封闭,有利于腔本体10散热。
上述腔本体10的顶板上设置有一个第一法兰51,第一法兰51用于安装基片架转动系统和膜厚监控系统;所述腔本体10的侧壁上设置有第二法兰52,第二法兰52用于安装高真空获得装置40和简易挡板阀,所述简易挡板阀用于隔离或连通真空获得装置40与真空腔体之间,第二法兰52根据腔体大小可设置有一个、两个或三个,第二法兰52的形状与高真空获得装置40适配,其形状为方形或圆形,高真空获得装置40的数量与第二法兰52适配,为一个,两个或三个,高真空获得装置40为低温冷凝泵和任意角度安装的分子泵,传统的真空泵体积大,效率低,使用低温冷凝泵和任意角度安装的分子泵代替真空泵,体积小且效率高;所述腔本体10的侧壁上还设置有第三法兰53,所述第三法兰53有两个,用于安装活动的均匀性调节板;所述腔体门11的侧壁上设置有三个观察视窗54,用于观察真空腔体内部的情况;所述腔本体10的侧壁下部设置有两个焊接的第四法兰55用于与粗抽气系统连接。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种大型蒸发镀膜机的腔体,包括腔本体(10)、腔体门(11),所述腔本体(10)一侧开口,所述腔体门(11)安装在腔本体(10)的开口处,其特征在于,所述腔本体(10)与腔体门(11)的外壁上设置有具有冷却功能的冷却系统;所述腔本体(10)的顶板上设置有一个第一法兰(51);所述腔本体(10)的侧壁上设置有用于安装高真空获得装置(40)和简易挡板阀的第二法兰(52);所述腔本体(10)的侧壁上还设置有第三法兰(53);所述腔体门(11)的侧壁上设置有三个观察视窗(54);所述冷却系统包括布满腔本体(10)与腔体门(11)的外壁的冷却水道(21)。
2.根据权利要求1所述的一种大型蒸发镀膜机的腔体,其特征在于,所述腔本体(10)的顶板上的第一法兰(51)用于安装基片架转动系统和膜厚监控系统。
3.根据权利要求2所述的一种大型蒸发镀膜机的腔体,其特征在于,所述第二法兰(52)根据腔体大小设置为一个,两个或三个。
4.根据权利要求3所述的一种大型蒸发镀膜机的腔体,其特征在于,所述第二法兰(52)的形状与高真空获得装置(40)适配,其形状为方形或圆形。
5.根据权利要求4所述的一种大型蒸发镀膜机的腔体,其特征在于,所述高真空获得装置(40)为低温冷凝泵和任意角度安装的分子泵。
6.根据权利要求1所述的一种大型蒸发镀膜机的腔体,其特征在于,所述第三法兰(53)有两个,用于安装活动的均匀性调节板。
7.根据权利要求1所述的一种大型蒸发镀膜机的腔体,其特征在于,所述腔本体(10)的侧壁下部设置有两个焊接的用于与粗抽气系统连接的第四法兰(55)。
8.根据权利要求1~7中任一所述的一种大型蒸发镀膜机的腔体,其特征在于,所述腔本体(10)的下方设置有机架(30),所述腔本体(10)固定安装在机架(30)上。
9.根据权利要求8所述的一种大型蒸发镀膜机的腔体,其特征在于,所述机架(30)与腔本体(10)的安装面为框架结构。
CN201922155466.XU 2019-12-03 2019-12-03 一种大型蒸发镀膜机的腔体 Active CN211227309U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201922155466.XU CN211227309U (zh) 2019-12-03 2019-12-03 一种大型蒸发镀膜机的腔体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201922155466.XU CN211227309U (zh) 2019-12-03 2019-12-03 一种大型蒸发镀膜机的腔体

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN211227309U true CN211227309U (zh) 2020-08-11

Family

ID=71923221

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201922155466.XU Active CN211227309U (zh) 2019-12-03 2019-12-03 一种大型蒸发镀膜机的腔体

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN211227309U (zh)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106480420A (zh) 一种高密度等离子体溅射镀膜设备
CN209243159U (zh) 一种用于蒸发镀膜的装置
CN105200381B (zh) 阳极场辅磁控溅射镀膜装置
CN103436837A (zh) 改进旋转靶材喷涂系统
CN211227309U (zh) 一种大型蒸发镀膜机的腔体
CN103887133B (zh) 一种磁场增强型线性大面积离子源
CN102703867A (zh) 电子轰击镀膜机
CN108624859A (zh) 一种双面物理气相沉积镀膜设备及其原理
CN218321597U (zh) 一种超高真空磁控溅射靶以及磁控溅射装置
CN1160477C (zh) 霍尔型离子辅助蒸发源
US20020148941A1 (en) Sputtering method and apparatus for depositing a coating onto substrate
CN202116640U (zh) 一种用于制备非晶薄膜的电弧离子镀冷却装置
CN201160064Y (zh) 霍尔型离子源
CN211227332U (zh) 一种真空系统用挡板阀
CN201301339Y (zh) 一种高功率平面磁控溅射阴极
CN112899627B (zh) 一种靶材安装结构、磁控溅射设备及磁控溅射方法
CN205152320U (zh) 阳极场辅磁控溅射镀膜装置
CN209412302U (zh) 一种立式的pecvd复合pvd的真空镀膜系统
CN101418432B (zh) 一种高功率平面磁控溅射阴极
CN208632632U (zh) 一种用于物理气相沉积的电介质沉积的设备
CN211947208U (zh) 一种靶材降温电动升降装置
CN115522174B (zh) 一种可调节磁场的主动阳极和磁控溅射设备
CN218321596U (zh) 一种模块化的磁控阴极的阳极布气装置
CN219886169U (zh) 一种低损伤磁控平面阴极
CN218435922U (zh) 一种电子束蒸发镀膜设备隔离阀防护机构

Legal Events

Date Code Title Description
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20230323

Address after: Room 1004, Building B1, Phase I, Optical Valley Chongwen Center, 792 Gaoxin Avenue, Donghu New Technology Development Zone, Wuhan, Hubei Province, 430000 (Wuhan Area of Free Trade Zone)

Patentee after: Wuhan Jiuyi Intelligent Technology Co.,Ltd.

Address before: 430000 R&D Building B1 of Wuhan National Biological Industrial Base Project B, C and D, 666 High-tech Avenue, Donghu High-tech Development Zone, Wuhan City, Hubei Province

Patentee before: WUHAN KERUIDA VACUUM TECHNOLOGY Co.,Ltd.