CN210998118U - 一种抛光垫 - Google Patents

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顾兆伟
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Abstract

本实用新型涉及抛光工具技术领域,公开了一种抛光垫,包括垫体,所述垫体具有抛光表面,所述抛光表面喷涂有磨料层,所述磨料层包含多个磨粒,所述磨粒通过粘接剂附着在所述抛光表面,多个所述磨粒以所述抛光表面的中心为中心呈放射状分布,使抛光垫具有万向性,适合各个方向的研磨抛光,抛光效果好。

Description

一种抛光垫
技术领域
本实用新型涉及抛光工具技术领域,特别是涉及一种抛光垫。
背景技术
抛光垫是通过连接在相应的机器上使用的,如全自动洗地机、晶面机、高速抛光机等清洁设备,通过机器带动抛光垫旋转来对石材、陶瓷、PVC、混凝土地面等进行抛光,从而达到清洁养护的效果。目前有的抛光垫是在垫体上喷涂磨粒,在抛光过程中,通过磨粒与被处理件的表面摩擦来进行抛光的,但是现有的抛光垫上的磨粒都是从同一个方向喷涂到垫体上的,由于磨粒是通过粘接剂附着在垫体上的,磨粒与垫体的粘接处均朝同一个方向,导致磨粒的锐部朝一个方向分布,使抛光垫在该方向的研磨抛光性能强,而其余部分的效果较差甚至容易造成磨粒大量脱落。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种适合各个方向研磨抛光、抛光效果好的抛光垫。
为了实现上述目的,本实用新型提供了一种抛光垫,包括垫体,所述垫体具有抛光表面,所述抛光表面喷涂有磨料层,所述磨料层包含多个磨粒,所述磨粒通过粘接剂附着在所述抛光表面,多个所述磨粒以所述抛光表面的中心为中心呈放射状分布。
作为优选方案,所述垫体为可挠性垫体。
作为优选方案,所述垫体呈三维非织造网状。
作为优选方案,所述垫体为无纺布基体。
作为优选方案,所述磨粒的粒度为100~10000目。
作为优选方案,所述磨粒的粒度为120目或200目或350目或400目或800目或1500目或3000目或8000目。
作为优选方案,所述垫体的克重为49.682g/m3~74.523g/m3。
作为优选方案,所述磨粒为金刚石颗粒。
作为优选方案,所述垫体呈圆盘状,所述多个所述磨粒以所述垫体的中轴线为中心呈放射状分布。
本实用新型的抛光垫与现有技术相比,其有益效果在于:
1、本实用新型通过在垫体上设置呈放射状分布的磨粒,使抛光垫具有万向性,适合各个方向的研磨抛光,抛光效果好。
2、本实用新型的垫体为可挠性垫体,可对需要抛光的表面的不平度进行补偿,增加磨粒与需抛光表面的接触面积,且使施加于垫体的压力均匀分布,另外可降低磨粒划伤需抛光表面的风险。垫体的三维非织造网状,使垫体具有可挠性,且可使垫体具有孔隙,能让灰尘、碎屑和颗粒进入垫中,防止擦伤需抛光的表面。垫体的克重为49.682g/m3~74.523g/m3,使垫体的可挠性和孔隙足够,并给磨粒提供足够的空间,且降低成本。
附图说明
图1是本实用新型实施例的抛光垫的俯视图。
图2是本实用新型实施例的抛光垫的侧视图。
图中,1、垫体;101、磨料层;102、安装孔;2、磨粒。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型,但不用来限制本实用新型的范围。
在本实用新型的描述中,应当理解的是,本实用新型中采用术语“多个”的含义是两个或两个以上。
如图1和图2所示,本实用新型优选实施例的一种抛光垫,包括垫体1,垫体1具有抛光表面,抛光表面喷涂有磨料层101,磨料层101包含多个磨粒2,磨粒2通过粘接剂附着在抛光表面,多个磨粒2以抛光表面的中心为中心呈放射状分布。通过在垫体1上设置呈放射状分布的磨粒2,使磨粒2用于研磨抛光的锐部朝向各个方向,使抛光垫具有万向性,适合各个方向的研磨抛光,抛光效果好,且磨粒2与垫体1的粘接处朝向各个不同的方向,避免遇到障碍时磨粒大面积脱落。
进一步地,垫体1为可挠性垫体,使垫体1具有柔性,可对需要抛光的表面的不平度进行补偿,增加磨粒2与需抛光表面的接触面积,且使施加于垫体1的压力均匀分布,另外可降低磨粒2划伤需抛光表面的风险。本实施例的垫体1呈三维非织造网状,使垫体1具有可挠性,且可使垫体1具有孔隙,能让灰尘、碎屑和颗粒进入垫中,防止擦伤需抛光的表面。另外,本实施例的垫体1为无纺布基体,无纺布具有防潮、透气、柔韧、质轻、不助燃、容易分解等特性,可使垫体1的结构扎实,降低成本。本实施例的垫体1通过将无纺布纤维丝熔融粘接形成蓬松的、开放的三维非织造纤维网。通过喷枪以垫体1的抛光表面的中心为中心成放射状向垫体1上喷涂辅助粘接剂,再通过喷枪将磨粒2微粉以垫体1的抛光表面的中心为中心成放射状喷涂在垫体1上。
在本实施中,磨粒2的粒度为100~10000目。优选地,磨粒2的粒度为120目或200目或350目或400目或800目或1500目或3000目或8000目。磨粒2的粒度数值越小说明颗粒越粗,切削力越高;数值越大说明颗粒越细,抛光效果越好,可根据需抛光表面的粗糙度进行选择。此外,垫体1的克重为49.682g/m3~74.523g/m3,垫体1的克重过小,垫体1的孔隙大,不利于磨粒2的附着;垫体1的克重过大,则会影响垫体1的可挠性,并且制造成本高。另外,本实施例的磨粒2为金刚石颗粒,强度高,不易磨损,使抛光垫的使用寿命长、加工效率高。本实施例的垫体1呈圆盘状,多个磨粒2以垫体1的中轴线为中心呈放射状分布。本实施例的垫体1的中心设有安装孔102,方便安装在全自动洗地机、晶面机、高速抛光机等清洁设备使用。
综上,本实用新型实施例提供一种抛光垫,其通过在垫体1上设置呈放射状分布的磨粒2,使磨粒2用于研磨抛光的锐部朝向各个方向,使抛光垫具有万向性,适合各个方向的研磨抛光,抛光效果好,且磨粒2与垫体1的粘接处朝向各个不同的方向,避免遇到障碍时磨粒大面积脱落。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型技术原理的前提下,还可以做出若干改进和替换,这些改进和替换也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (9)

1.一种抛光垫,其特征在于,包括垫体,所述垫体具有抛光表面,所述抛光表面喷涂有磨料层,所述磨料层包含多个磨粒,所述磨粒通过粘接剂附着在所述抛光表面,多个所述磨粒以所述抛光表面的中心为中心呈放射状分布。
2.根据权利要求1所述的抛光垫,其特征在于,所述垫体为可挠性垫体。
3.根据权利要求2所述的抛光垫,其特征在于,所述垫体呈三维非织造网状。
4.根据权利要求1所述的抛光垫,其特征在于,所述垫体为无纺布基体。
5.根据权利要求1所述的抛光垫,其特征在于,所述磨粒的粒度为100~10000目。
6.根据权利要求4所述的抛光垫,其特征在于,所述磨粒的粒度为120目或200目或350目或400目或800目或1500目或3000目或8000目。
7.根据权利要求1所述的抛光垫,其特征在于,所述垫体的克重为49.682g/m3~74.523g/m3
8.根据权利要求1所述的抛光垫,其特征在于,所述磨粒为金刚石颗粒。
9.根据权利要求1所述的抛光垫,其特征在于,所述垫体呈圆盘状,所述多个所述磨粒以所述垫体的中轴线为中心呈放射状分布。
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