CN210835582U - 一种防溢胶粘连装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提出一种防溢胶粘连装置,包括:真空吸盘;真空泵,与所述真空吸盘连接;垫板,位于所述真空吸盘的上表面通过所述真空泵吸附在所述真空吸盘上,所述垫板上开着有容纳槽,基板与所述容纳槽适配,基板固定于所述容纳槽内。本实用新型可以有效避免在压印过程中溢胶现象导致的基板粘在托板上难以分离以及真空泵与环形槽之间的通道堵塞的问题,且成本低廉,操作简便,适应性广。
Description
技术领域
本实用新型属于纳米压印技术领域,尤其涉及一种防溢胶粘连装置。
背景技术
随着半导体、光学组件的发展,市场对低成本、高产量的微纳加工技术需求量持续加大。纳米压印技术是通过机械转移的手段以达到超高的分辨率,其有望在未来取代传统光刻技术,成为微电子、材料领域的重要加工手段。
CN206440934U公开了一种新型纳米压印设备,该设备中包括托板,托板上设有环形槽与真空泵相接通,使用时基板和环形槽形成密闭空间,通过真空泵将密闭空间中的空气吸出,从而固定基板。但在实际操作中,一旦发生溢胶现象,真空泵打开后会将溢出的胶体吸入环形槽,胶体在环形槽中流动固化,一方面会造成基板粘在托板上难以分离,另一方面会造成真空泵与环形槽之间的通道堵塞,无法吸出空气形成负压固定基板。
发明内容
本实用新型针对上述的技术问题,提出一种防溢胶粘连装置,此装置可以有效避免在压印过程中溢胶现象导致的基板粘在托板上难以分离以及真空泵与环形槽之间的通道堵塞的问题,且成本低廉,操作简便,适应性广。
为了达到上述目的,本实用新型采用的技术方案为:
一种防溢胶粘连装置,包括:
真空吸盘;
真空泵,与所述真空吸盘连接;
垫板,位于所述真空吸盘的上表面通过所述真空泵吸附在所述真空吸盘上,所述垫板上开着有容纳槽,基板与所述容纳槽适配,基板固定于所述容纳槽内。
作为优选的,上述防溢胶粘连装置,所述垫板的材质为PET。
作为优选的,上述防溢胶粘连装置,所述真空吸盘上表面开设有真空槽,在所述真空槽内开设有真空孔,所述真空孔通过气管与所述真空泵连接。
作为优选的,上述防溢胶粘连装置,所述容纳槽位于垫板的中心位置。
作为优选的,上述防溢胶粘连装置,所述容纳槽为通槽,基板的底面与所述真空吸盘的顶面抵接。
作为优选的,上述防溢胶粘连装置,所述垫板具有第一垫层以及与所述第一垫层连接的第二垫层,所述第二垫层位于所述第一垫层下方,所述第二垫层的底面与所述真空吸盘的上表面抵接,所述容纳槽位于所述第一垫层上,所述容纳槽内位于所述第二垫层上设置有用于固定基板的粘性层。
作为优选的,上述防溢胶粘连装置,所述粘性层为胶层。
作为优选的,上述防溢胶粘连装置,所述第一垫层的厚度小于所述第二垫层的厚度。
与现有技术相比,本实用新型的优点和积极效果在于:
1、容纳槽为设置在垫板上的通槽,基板放置在容纳槽内,基板的底面与真空吸盘的顶面抵接,通过真空泵将垫板以及基板固定在真空吸盘1的上表面,在压印过程中,溢出的胶液流至垫板上表面而不会流至真空吸盘上表面的真空槽内,避免了真空孔的堵塞,可使真空泵持续的产生吸力,保证压印的连续性。
2、在压印过程中,溢出的胶液流至第一垫层上表面而不会流至真空吸盘上表面的真空槽内,避免了真空孔的堵塞,可使真空泵持续的产生吸力,保证压印的连续性。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型结构示意图一;
图2为本实用新型的结构示意图二;
图3为真空吸盘的俯视图;
图4为图1的俯视图;
图5为图2的俯视图。
具体实施方式
下面,通过示例性的实施方式对本实用新型进行具体描述。然而应当理解,在没有进一步叙述的情况下,一个实施方式中的元件、结构和特征也可以有益地结合到其他实施方式中。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
参见图1、3,一种防溢胶粘连装置,包括:
真空吸盘1,用于固定基板2,真空吸盘1上表面开设有真空槽11,在真空槽11内开设有真空孔12,真空槽11的形状为环形:
真空泵3,与真空吸盘1连接,真空泵通过气管与真空孔连接,进而在真空吸盘1上产生真空度进而将基板2固定在真空吸盘1上;
在实际操作过程中,一旦基片上发生溢胶现象,在真空泵3打开后,会将溢出的胶体吸入真空槽11,胶体在真空槽11中流动固化,一方面会使基板2粘在真空吸盘1上难以分离,另一方面会造成真空泵3与真空槽11之间的真空孔 12堵塞,无法吸出空气形成负压固定基板2。
为了避免在压印过程中溢胶现象导致的基板2粘在真空吸盘1上难以分离以及真空泵3与真空槽11之间的通道堵塞的问题,增加垫板4,垫板的材质为PET,垫板4的上表面无粘性,垫板4位于真空吸盘1的上表面通过真空泵3吸附在真空吸盘1上,垫板4上开着有容纳槽41,容纳槽41位于垫板
4的中心位置,容纳槽4的形状根据基板2的形状确定,基板2与容纳槽41
适配,基板2固定于容纳槽41内。
实施例1,参见图1、4,针对规则形状的基板2,如圆形、方形等,在本实施例1中,垫板4采用单层垫板,容纳槽41为设置在垫板4上的通槽,基板 2放置在容纳槽41内,基板2的底面与真空吸盘1的顶面抵接,通过真空泵3 将垫板4以及基板2固定在真空吸盘1的上表面,在压印过程中,溢出的胶液流至垫板4上表面而不会流至真空吸盘1上表面的真空槽11内,避免了真空孔 12的堵塞,可使真空泵3持续的产生吸力,保证压印的连续性。
实施例2,参见图2、5,与实施例1的不同之处在于:针对不规则形状的基板,即异形片,如方形缺角,由于单层垫板不好裁切,容易出现漏真空的现象,故垫板4采用双层垫板,垫板4具有第一垫层42以及与第一垫层42连接的第二垫层43,第二垫层43位于第一垫层42下方,第二垫层42的底面与真空吸盘1的上表面抵接,容纳槽41位于第一垫层42上,容纳槽41内位于第二垫层43上设置有用于固定基板2的粘性层44,粘性层44为胶层,胶层的粘性以使基板2在压印完成后能够取下为准,在压印过程中,溢出的胶液流至第一垫层42上表面而不会流至真空吸盘1上表面的真空槽11内,避免了真空孔12的堵塞,可使真空泵3持续的产生吸力,保证压印的连续性。
第一垫层42的厚度小于第二垫层43的厚度以便于加工容纳槽41。
以上所述,仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (8)
1.一种防溢胶粘连装置,其特征在于,包括:
真空吸盘;
真空泵,与所述真空吸盘连接;
垫板,位于所述真空吸盘的上表面通过所述真空泵吸附在所述真空吸盘上,所述垫板上开着有容纳槽,基板与所述容纳槽适配,基板固定于所述容纳槽内。
2.根据权利要求1所述的防溢胶粘连装置,其特征在于:所述垫板的材质为PET。
3.根据权利要求1所述的防溢胶粘连装置,其特征在于:所述真空吸盘上表面开设有真空槽,在所述真空槽内开设有真空孔,所述真空孔通过气管与所述真空泵连接。
4.根据权利要求1所述的防溢胶粘连装置,其特征在于:所述容纳槽位于垫板的中心位置。
5.根据权利要求1所述的防溢胶粘连装置,其特征在于:所述容纳槽为通槽,基板的底面与所述真空吸盘的顶面抵接。
6.根据权利要求1所述的防溢胶粘连装置,其特征在于:所述垫板具有第一垫层以及与所述第一垫层连接的第二垫层,所述第二垫层位于所述第一垫层下方,所述第二垫层的底面与所述真空吸盘的上表面抵接,所述容纳槽位于所述第一垫层上,所述容纳槽内位于所述第二垫层上设置有用于固定基板的粘性层。
7.根据权利要求6所述的防溢胶粘连装置,其特征在于:所述粘性层为胶层。
8.根据权利要求6所述的防溢胶粘连装置,其特征在于:所述第一垫层的厚度小于所述第二垫层的厚度。
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CN201922287114.XU CN210835582U (zh) | 2019-12-19 | 2019-12-19 | 一种防溢胶粘连装置 |
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CN201922287114.XU Active CN210835582U (zh) | 2019-12-19 | 2019-12-19 | 一种防溢胶粘连装置 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111913349A (zh) * | 2020-08-25 | 2020-11-10 | 青岛天仁微纳科技有限责任公司 | 纳米压印设备及压印方法 |
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2019
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