CN210787161U - 一种半导体清洗剂的生产装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种半导体清洗剂的生产装置，属于半导体加工领域。该生产装置包括:安装部；搅拌组件；搅拌室，所述的搅拌室活动设置在所述的安装部上，所述的搅拌组件设置在所述的搅拌室内；驱动机构，所述的驱动机构与所述的搅拌组件相连；往复机构，所述的往复机构与所述的驱动机构相连；循环机构，用于将所述搅拌室内的物料循环输送至所述的搅拌室内。本实用新型可以在搅拌组件进行搅拌操作的同时，通过往复机构带动搅拌室进行运动，从而可以大大提高对半导体清洗剂原料的搅拌效果。另外，本实用新型还通过设置循环机构，可以使搅拌室内的半导体清洗剂原料进行循环流动，从而可以进一步提高对原料的搅拌效果。

Description

一种半导体清洗剂的生产装置

技术领域

本实用新型涉及半导体加工领域，具体是一种半导体清洗剂的生产装置。

背景技术

半导体清洗剂，是一种用于清洁半导体表面污物的试剂，其一般是由多种有机溶剂混合在一起，因此，半导体清洗剂在生产时，需要将各个原料混合在一起，并进行搅拌混合处理。

然而，传统大多数半导体清洗剂的生产装置只是通过搅拌叶的转动来实现对清洗剂原料的搅拌混合处理，该类型的生产装置存在搅拌效果较差的问题，因此，还需要对其进行改进。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种半导体清洗剂的生产装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型实施例提供如下技术方案：

一种半导体清洗剂的生产装置，包括安装部和搅拌组件，以及还包括：

搅拌室，所述的搅拌室活动设置在所述的安装部上，所述的搅拌组件设置在所述的搅拌室内；

驱动机构，用于驱动所述的搅拌组件进行搅拌操作；所述的驱动机构与所述的搅拌组件相连；

往复机构，所述的往复机构与所述的驱动机构相连；当所述的驱动机构驱动所述的搅拌组件进行搅拌操作时，所述的往复机构带动所述的搅拌室进行往复运动；

循环机构，用于将所述搅拌室内的物料循环输送至所述的搅拌室内；所述的循环机构与所述的搅拌室形成循环回路。

本实用新型实施例采用的一种优选方案，所述的搅拌组件包括：

转动设置在所述搅拌室内的搅拌轴，所述的搅拌轴上设有搅拌叶，所述的搅拌轴与所述的驱动机构相连，所述的驱动机构用于驱动所述的搅拌轴进行转动。

本实用新型实施例采用的另一种优选方案，所述的往复机构包括：

导向组件，用于使所述的搅拌室沿着所述的导向组件进行直线运动；所述的导向组件设置在所述的安装部上；

弹性伸缩组件，所述的弹性伸缩组件分别与所述的搅拌室和所述的导向组件相连；

间歇组件，所述的间歇组件与所述的驱动机构相连；当所述的搅拌组件进行搅拌操作时，所述的间歇组件间歇性带动所述的搅拌室沿着所述的导向组件进行直线运动。

本实用新型实施例采用的另一种优选方案，所述的间歇组件包括：

转动设置在所述搅拌室上的凸轮，所述的凸轮通过传动组件与所述的驱动机构相连；当所述的搅拌组件进行搅拌操作时，所述的传动组件带动所述的凸轮进行转动；

固定部，所述的固定部固定设置在所述凸轮的一侧；当所述的凸轮进行转动时，所述的凸轮间歇地与所述的固定部相接触。

本实用新型实施例采用的另一种优选方案，所述的循环机构包括：

循环室，所述的循环室与所述的搅拌室形成循环回路；

限流组件，用于限制所述循环室与所述搅拌室之间的物料流动方向；

密封件，所述的密封件滑动设置在所述的循环室内；

滑动组件，所述的滑动组件与所述的搅拌组件相连；当所述的搅拌组件进行搅拌操作时，所述的滑动组件带动所述的密封件在所述的循环室内进行往复滑动。

本实用新型实施例的提供的上述技术方案，相比于现有技术，具有以下技术效果：

本实用新型实施例提供的一种半导体清洗剂的生产装置，通过设置可活动的搅拌室，以及将往复机构与驱动机构相连，便可在搅拌组件进行搅拌操作的同时，通过往复机构带动搅拌室进行运动，从而可以大大提高对半导体清洗剂原料的搅拌效果。另外，本实用新型还通过设置循环机构，可以使搅拌室内的半导体清洗剂原料进行循环流动，从而可以进一步提高对原料的搅拌效果。

附图说明

图1为本实用新型实施例提供的一种半导体清洗剂的生产装置的结构示意图。

图2为本实用新型实施例提供的驱动机构和往复机构的立体结构图。

图3为本实用新型实施例提供的另一种半导体清洗剂的生产装置的结构示意图。

图中：1-底座、2-搅拌室、3-限位槽、4-滚轮、5-固定板、6-搅拌轴、7-搅拌叶、8-进液口、9-出液口、10-第一从动齿轮、11-主动齿轮、12-电机、13-第一传动轴、14-第二从动齿轮、15-凸轮、16-伸缩杆、17-弹簧、18-循环出液管、19-循环进液管、20-循环泵、21-循环室、22-单向阀、23-活塞件、24-活动杆、25-转盘、26-第二传动轴、27-从动锥齿轮、28-主动锥齿轮。

具体实施方式

下面的具体实施例是结合本说明书中提供的附图对本申请的技术方案作出的具体、清楚的描述。其中，说明书的附图只是为了用于将本申请的技术方案呈现得更加清楚明了，并不代表实际生产或使用中的形状或大小，以及也不能将附图的标记作为所涉及的权利要求的限制。

另外，在本申请的描述中，所采用到的术语应当作广义的理解，对于本领域的技术人员而言，可以根据实际的具体情况来理解术语的具体含义。譬如，本申请中所采用的术语“安装”可以定义为可拆卸的固定安装或者是不可拆卸的固定安装等；所采用的术语“设置”和“设有”，可以定义为接触式设置或者未接触式设置等；所采用的术语“连接”和“相连”可以定义为焊接、铆接、螺栓连接、过盈配合等固定式机械连接或者定义为铰接、通过轴承连接等活动式机械连接；所采用的方位词术语均是以附图为参考或者根据以实际情况以及公知常识所定义的方向为准。

如附图1所示，为本实用新型实施例提供的一种半导体清洗剂的生产装置的结构示意图，其包括安装部和搅拌组件，以及还包括：

搅拌室2，所述的搅拌室2活动设置在所述的安装部上，所述的搅拌组件设置在所述的搅拌室2内；

驱动机构，用于驱动所述的搅拌组件进行搅拌操作；所述的驱动机构与所述的搅拌组件相连；

往复机构，所述的往复机构与所述的驱动机构相连；当所述的驱动机构驱动所述的搅拌组件进行搅拌操作时，所述的往复机构带动所述的搅拌室2进行往复运动；

循环机构，用于将所述搅拌室2内的物料循环输送至所述的搅拌室2内；所述的循环机构与所述的搅拌室2形成循环回路。

在本实用新型的实施例中，通过设置可活动的搅拌室2，以及将往复机构与驱动机构相连，便可在搅拌组件进行搅拌操作的同时，通过往复机构带动搅拌室2进行运动，从而可以大大提高对半导体清洗剂原料的搅拌效果。另外，本实用新型还通过设置循环机构，可以使搅拌室2内的半导体清洗剂原料进行循环流动，从而可以进一步提高对原料的搅拌效果。

在本实用新型的一个实例中，搅拌室2可以选用现有常见的反应釜等容器，搅拌室2上设有进液口8和出液口9；驱动机构可以采用现有常见的齿轮电机驱动结构或者皮带/链条电机驱动结构等；往复机构可以采用现有的凸轮弹簧结构或者曲柄连杆传动结构等；循环机构可以采用水泵或活塞往复结构等。

如附图1和2所示，作为本实用新型实施例的一种优选方案，所述的搅拌组件包括：

转动设置在所述搅拌室2内的搅拌轴6，所述的搅拌轴6上设有搅拌叶7，所述的搅拌轴6与所述的驱动机构相连，所述的驱动机构用于驱动所述的搅拌轴6进行转动。

具体的，搅拌轴6可以通过轴承转动安装在搅拌室2内，搅拌叶7为现有常见的搅拌桨叶，搅拌叶7通过焊接的方式固定安装在搅拌轴6上；驱动机构包括第一从动齿轮10，所述的第一从动齿轮10固定在搅拌轴6上，第一从动齿轮10与主动齿轮11相啮合，主动齿轮11与电机12的电机轴固定相连，电机12固定安装在搅拌室2的顶部。通过电机12可以驱动主动齿轮11转动，主动齿轮11的转动可以带动第一从动齿轮10转动，第一从动齿轮10的转动可以带动搅拌轴6和搅拌叶7转动，从而可以对搅拌室2内的物料进行搅拌操作。

如附图1所示，作为本实用新型实施例的另一种优选方案，所述的往复机构包括：

导向组件，用于使所述的搅拌室2沿着所述的导向组件进行直线运动；所述的导向组件设置在所述的安装部上；

弹性伸缩组件，所述的弹性伸缩组件分别与所述的搅拌室2和所述的导向组件相连；

间歇组件，所述的间歇组件与所述的驱动机构相连；当所述的搅拌组件进行搅拌操作时，所述的间歇组件间歇性带动所述的搅拌室2沿着所述的导向组件进行直线运动。

具体的，安装部为底座1，底座1上设有与搅拌室2相匹配的限位槽3，导向组件包括若干组转动安装在搅拌室2底部的滚轮4，滚轮4与限位槽3进行滚动配合。另外，弹性伸缩组件包括伸缩杆16和弹簧17，弹簧17的两端分别与搅拌室2外壁和限位槽3内壁相连，伸缩杆16的两端也分别与搅拌室2外壁和限位槽3内壁相连。通过伸缩杆16和弹簧17的设置，可以使搅拌室2在位移后回到原位，以实现搅拌室2的往复运动。

如附图1和2所示，作为本实用新型实施例的另一种优选方案，所述的间歇组件包括：

转动设置在所述搅拌室2上的凸轮15，所述的凸轮15通过传动组件与所述的驱动机构相连；当所述的搅拌组件进行搅拌操作时，所述的传动组件带动所述的凸轮15进行转动；

固定部，所述的固定部固定设置在所述凸轮15的一侧；当所述的凸轮15进行转动时，所述的凸轮15间歇地与所述的固定部相接触。

具体的，传动组件包括第一传动轴13，凸轮15套设固定在第一传动轴13上，第一传动轴13转动安装在搅拌室2的顶部，第一传动轴13上还固定有第二从动齿轮14，第二从动齿轮14与主动齿轮11相啮合；另外，固定部为固定板5，固定板5固定安装在底座1上，且位于凸轮15的右侧；通过主动齿轮11的转动可以带动第二从动齿轮14转动，第二从动齿轮14的转动可以带动第一传动轴13和凸轮15转动，凸轮15的转动可以间歇与固定板5接触，使得搅拌室2间歇往左运动，并压缩弹簧17，从而便可在弹簧17的反弹力作用下使搅拌室2沿着限位槽3进行往复直线运动，以提高搅拌效果。

如附图1所示，作为本实用新型实施例的另一种优选方案，所述的循环机构包括循环泵20，搅拌室2分别与循环出液管18和循环进液管19相连通，循环出液管18和循环进液管19均与循环泵20相连通，通过循环泵20可以使搅拌室2内的液体物料进行循环流动，以进一步提高搅拌效果。

如附图3所示，作为本实用新型实施例的另一种优选方案，所述的循环机构包括：

循环室21，所述的循环室21与所述的搅拌室2形成循环回路；

限流组件，用于限制所述循环室21与所述搅拌室2之间的物料流动方向；

密封件，所述的密封件滑动设置在所述的循环室21内；

滑动组件，所述的滑动组件与所述的搅拌组件相连；当所述的搅拌组件进行搅拌操作时，所述的滑动组件带动所述的密封件在所述的循环室21内进行往复滑动。

具体的，循环室21分别与循环出液管18和循环进液管19相连通，循环出液管18和循环进液管19均与搅拌室2相连通；密封件为活塞件23，活塞件23与循环室21的内壁进行滑动贴合；限流组件包括两组单向阀22，两组单向阀22分别设置在循环出液管18和循环进液管19内；滑动组件包括活动杆24，活动杆24的一端与活塞件23进行转动连接，活动杆24的另一端转动安装在转盘25的偏心位置上，转盘25固定在第二传动轴26上，第二传动轴26穿过搅拌室2与从动锥齿轮27固定相连，从动锥齿轮27与主动锥齿轮28相啮合，主动锥齿轮28固定在搅拌轴6上，当搅拌轴6转动时，会带动主动锥齿轮28转动，主动锥齿轮28的转动可以带动从动锥齿轮27转动，从动锥齿轮27的转动可以带动第二传动轴26转动，第二传动轴26的转动可以转盘25转动，转盘25的转动可以带动活塞件23在循环室21进行往复滑动，从而可以将搅拌室2内的液体物料循环输送至搅拌室2内。

需要说明的是，上述实施例只是针对本申请的技术方案和技术特征进行具体、清楚的描述。而对于本领域技术人员而言，属于现有技术或者公知常识的方案或特征，在上面实施例中就不作详细地描述了。

另外，本申请的技术方案不只局限于上述的实施例，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，从而可以形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (5)

1.一种半导体清洗剂的生产装置，包括安装部和搅拌组件，其特征在于，还包括：

搅拌室，所述的搅拌室活动设置在所述的安装部上，所述的搅拌组件设置在所述的搅拌室内；

驱动机构，用于驱动所述的搅拌组件进行搅拌操作；所述的驱动机构与所述的搅拌组件相连；

往复机构，所述的往复机构与所述的驱动机构相连；当所述的驱动机构驱动所述的搅拌组件进行搅拌操作时，所述的往复机构带动所述的搅拌室进行往复运动；

循环机构，用于将所述搅拌室内的物料循环输送至所述的搅拌室内；所述的循环机构与所述的搅拌室形成循环回路。

2.根据权利要求1所述的一种半导体清洗剂的生产装置，其特征在于，所述的搅拌组件包括：

转动设置在所述搅拌室内的搅拌轴，所述的搅拌轴上设有搅拌叶，所述的搅拌轴与所述的驱动机构相连，所述的驱动机构用于驱动所述的搅拌轴进行转动。

3.根据权利要求1所述的一种半导体清洗剂的生产装置，其特征在于，所述的往复机构包括：

导向组件，用于使所述的搅拌室沿着所述的导向组件进行直线运动；所述的导向组件设置在所述的安装部上；

弹性伸缩组件，所述的弹性伸缩组件分别与所述的搅拌室和所述的导向组件相连；

间歇组件，所述的间歇组件与所述的驱动机构相连；当所述的搅拌组件进行搅拌操作时，所述的间歇组件间歇性带动所述的搅拌室沿着所述的导向组件进行直线运动。

4.根据权利要求3所述的一种半导体清洗剂的生产装置，其特征在于，所述的间歇组件包括：

转动设置在所述搅拌室上的凸轮，所述的凸轮通过传动组件与所述的驱动机构相连；当所述的搅拌组件进行搅拌操作时，所述的传动组件带动所述的凸轮进行转动；

固定部，所述的固定部固定设置在所述凸轮的一侧；当所述的凸轮进行转动时，所述的凸轮间歇地与所述的固定部相接触。

5.根据权利要求1所述的一种半导体清洗剂的生产装置，其特征在于，所述的循环机构包括：

循环室，所述的循环室与所述的搅拌室形成循环回路；

限流组件，用于限制所述循环室与所述搅拌室之间的物料流动方向；

密封件，所述的密封件滑动设置在所述的循环室内；

滑动组件，所述的滑动组件与所述的搅拌组件相连；当所述的搅拌组件进行搅拌操作时，所述的滑动组件带动所述的密封件在所述的循环室内进行往复滑动。

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