CN210765500U - 一种外延炉用稳定性好的旋转放置基座 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种外延炉用稳定性好的旋转放置基座，包括外基座、内基座和衬底固定座，所述内基座设置在外基座中，衬底固定座设置在内基座中；所述外基座、内基座、衬底固定座均呈圆形结构，且三者中轴线相互重合；所述外基座内部中空，设置有调节腔，所述内基座设置在调节腔中；所述内基座整体呈“凸”字形结构，在调节腔中设置有调节螺杆和限位导杆，所述调节螺杆、限位导杆均从内基座上穿过；所述内基座的上表面开有安装沉槽，所述衬底固定座设置在安装沉槽中，且衬底固定座尺寸与安装沉槽尺寸相互配合；本实用新型通过将传统基座拆分为内外基座，且二者能够上下调节位置，从而调节衬底的位置；设置衬底固定座，便于衬底的取放。

Description

一种外延炉用稳定性好的旋转放置基座

技术领域

本实用新型涉及外延炉配件技术领域，具体为一种外延炉用稳定性好的旋转放置基座。

背景技术

外延炉用于外延晶片采用CVD(化学气相沉积)方法生长的装置，具体方法为将衬底置于外延炉反应室中，将含有构成薄膜元素的化合物、单质气体通入反应室，借助空间气相化学反应在衬底表面上沉积固体薄膜。随着半导体技术的进步，产业应用对外延晶片的参数指标要求越来越高，并且外延晶片逐渐在向厚膜大尺寸方向迈进，这对于外延片厚度及浓度的均匀性提出了更高的要求。为了得到较好的片内及片间均匀性，商业化的外延炉通常采用小盘自旋转的方式进行外延生长。而且，为了在较短时间内得到更高的外延厚度，部分外延炉通过增加小盘旋转速度，使得衬底在高速旋转下进行外延生长，能够得到很快的生长速率

现有的衬底都放置在基座上，在转动过程中可能从基座上甩出，且基座功能较为单一，无法调节基座的位置，在使用时造成不便；同时，基座都是固定设置，衬底放置上去之后，也不便于取出。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种外延炉用稳定性好的旋转放置基座，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种外延炉用稳定性好的旋转放置基座，包括外基座、内基座和衬底固定座，所述内基座设置在外基座中，衬底固定座设置在内基座中；所述外基座、内基座、衬底固定座均呈圆形结构，且三者中轴线相互重合；所述外基座内部中空，设置有调节腔，所述内基座设置在调节腔中；所述内基座整体呈“凸”字形结构，在调节腔中设置有调节螺杆和限位导杆，所述调节螺杆和限位导杆均从内基座上穿过；所述内基座的上表面开有安装沉槽，所述衬底固定座设置在安装沉槽中，且衬底固定座尺寸与安装沉槽尺寸相互配合，衬底固定座中设置有衬底放置槽。

优选的，所述调节螺杆设置有两根，关于外基座中轴线中心对称设置，所述限位导杆设置有四根，绕着外基座中轴线均匀设置，且限位导杆与相邻的调节螺杆之间的夹角为45°；在内基座上配合设置有调节螺孔和导向孔，调节螺杆和限位导杆分别从调节螺孔和导向孔中穿过。

优选的，所述调节螺杆一端通过转轴安装在调节腔腔底，另一端从外基座上穿出，且穿出一端安装有拧块。

优选的，所述衬底固定座底部设置有定位销，在安装沉槽中设置有定位槽，所述定位销配合设置在定位槽中；所述定位销设置不少于三组。

优选的，所述衬底固定座顶端向外弯折设置有折耳部，所述折耳部卡在安装沉槽的槽口部位。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型通过将传统基座拆分为内外基座，且二者能够上下调节位置，从而调节衬底的位置，使用更加方便；同时，设置衬底固定座，与内基座相互拆分，便于衬底的取放，减轻工作人员的工作量。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型的内基座结构示意图；

图3为本实用新型的衬底固定座结构示意图；

图中标号：1、外基座；11、调节腔；12、调节螺杆；13、拧块；2、内基座；21、安装沉槽；22、调节螺孔；23、导向孔；24、定位槽；3、衬底固定座；31、衬底放置槽；32、定位销。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“竖直”、“上”、“下”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：一种外延炉用稳定性好的旋转放置基座，包括外基座1、内基座2和衬底固定座3，所述内基座2设置在外基座1中，衬底固定座3设置在内基座2中；所述外基座1、内基座2、衬底固定座3均呈圆形结构，且三者中轴线相互重合；所述外基座1内部中空，设置有调节腔11，所述内基座2设置在调节腔11中；所述内基座2整体呈“凸”字形结构，在调节腔11中设置有调节螺杆12和限位导杆，所述调节螺杆12和限位导杆均从内基座2上穿过；所述内基座2的上表面开有安装沉槽21，所述衬底固定座3设置在安装沉槽21中，且衬底固定座3尺寸与安装沉槽21尺寸相互配合，衬底固定座3中设置有衬底放置槽31。

进一步的，所述调节螺杆12设置有两根，关于外基座1中轴线中心对称设置，所述限位导杆设置有四根，绕着外基座1中轴线均匀设置，且限位导杆与相邻的调节螺杆12之间的夹角为45°；在内基座2上配合设置有调节螺孔22和导向孔23，调节螺杆12和限位导杆分别从调节螺孔22和导向孔23 中穿过。

进一步的，所述调节螺杆12一端通过转轴安装在调节腔11腔底，另一端从外基座1上穿出，且穿出一端安装有拧块13。

进一步的，所述衬底固定座3底部设置有定位销32，在安装沉槽21中设置有定位槽24，所述定位销32配合设置在定位槽24中；所述定位销32设置不少于三组。

进一步的，所述衬底固定座3顶端向外弯折设置有折耳部，所述折耳部卡在安装沉槽21的槽口部位。

工作原理：在实际使用过程中，使用者将需要加工的衬底放入衬底固定座3的衬底放置槽31中，将衬底固定座3放置在内基座2的安装沉槽21中，并使衬底固定座3底部的定位销32插在安装沉槽21中的定位槽24中，同时，衬底固定座3顶端的折耳部卡在安装沉槽21的槽口部位；之后同时拧动拧块 13，带动调节螺杆12转动，与调节螺孔22发生配合，从而带动内基座2在调节腔11中上下移动，进而调节衬底放置槽31中衬底的高度位置；同时，设置多根限位导杆从导向孔23中穿过，保证内基座2上下运动的水平性。

外基座1安装在外延炉内的转轴上，在转轴的作用下转动，外基座1带动内基座2转动，内基座2带动衬底固定座3转动，从而带动衬底转动，进行外延晶片的生长。加工结束后，工作人员可以通过取出衬底固定座3的方式将衬底取出，更加方便。定位销32设置不少于三组，保证内基座2和衬底固定座3之间连接的稳定性，方便带动其转动。调节螺杆12设置有两根，方便双手同时进行操作，且两根调节螺杆12设置的位置相互对称，能够保证内基座2上下运动的同步性，两侧同步上下运动，更加平稳。同时，设置凹型的衬底固定座3，也能够一定程度上起到保护衬底的功能，避免在转动过程中从基座上甩出。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (5)

1.一种外延炉用稳定性好的旋转放置基座，其特征在于：包括外基座(1)、内基座(2)和衬底固定座(3)，所述内基座(2)设置在外基座(1)中，衬底固定座(3)设置在内基座(2)中；所述外基座(1)、内基座(2)、衬底固定座(3)均呈圆形结构，且三者中轴线相互重合；所述外基座(1)内部中空，设置有调节腔(11)，所述内基座(2)设置在调节腔(11)中；所述内基座(2)整体呈“凸”字形结构，在调节腔(11)中设置有调节螺杆(12)和限位导杆，所述调节螺杆(12)和限位导杆均从内基座(2)上穿过；所述内基座(2)的上表面开有安装沉槽(21)，所述衬底固定座(3)设置在安装沉槽(21)中，且衬底固定座(3)尺寸与安装沉槽(21)尺寸相互配合，衬底固定座(3)中设置有衬底放置槽(31)。

2.根据权利要求1所述的一种外延炉用稳定性好的旋转放置基座，其特征在于：所述调节螺杆(12)设置有两根，关于外基座(1)中轴线中心对称设置，所述限位导杆设置有四根，绕着外基座(1)中轴线均匀设置，且限位导杆与相邻的调节螺杆(12)之间的夹角为45°；在内基座(2)上配合设置有调节螺孔(22)和导向孔(23)，调节螺杆(12)和限位导杆分别从调节螺孔(22)和导向孔(23)中穿过。

3.根据权利要求2所述的一种外延炉用稳定性好的旋转放置基座，其特征在于：所述调节螺杆(12)一端通过转轴安装在调节腔(11)腔底，另一端从外基座(1)上穿出，且穿出一端安装有拧块(13)。

4.根据权利要求1所述的一种外延炉用稳定性好的旋转放置基座，其特征在于：所述衬底固定座(3)底部设置有定位销(32)，在安装沉槽(21)中设置有定位槽(24)，所述定位销(32)配合设置在定位槽(24)中；所述定位销(32)设置不少于三组。

5.根据权利要求1所述的一种外延炉用稳定性好的旋转放置基座，其特征在于：所述衬底固定座(3)顶端向外弯折设置有折耳部，所述折耳部卡在安装沉槽(21)的槽口部位。

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