CN210664329U - 一种测量系统辅助治具 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种测量系统辅助治具,包括:量测部件、用于竖直支承放置被测物的辅助治具、用于调节所述辅助治具的测量选定位置的调节装置以及用于提供所述被测物的基准面中心与所述量测部件的光轴之间的相对位置信息的测试装置,所述量测部件可拆卸地设置于所述被测物的基准面上,所述辅助治具与所述调节装置相连接,所述测试装置设置于所述辅助治具的上方。相比于传统技术,本实用新型能够实时获取被测物的基准面测量平坦情况并根据实际情况来对应调节辅助治具的位置,可为被测物提供更佳的测量位置,从而减少测量误差,使被测物的加工及改善工序更加优化。

Description

一种测量系统辅助治具
技术领域
本实用新型涉及光学测量领域,尤其是一种测量系统辅助治具。
背景技术
光学镜头朝着高解析、高清晰方向发展,市场对镜头的解析能力要求越来越高,同时对零部件的精度要求也越来越高;在行业内,零部件的精度是否达到要求,是要通过专门测量来体现的,即使零部件的加工精度达到要求,若测量数据不准确,也会很大程度的影响到零部件的加工精度和改善方向。目前,该研究方向上的常见测量系统有很多,存在着待测物品与测量设备间的对准匹配不佳的技术问题,容易产生较大的测量误差,不利于零部件的加工及改善。
实用新型内容
为了解决上述问题,本实用新型的目的是提供一种测量系统辅助治具,能够实时获取被测物的测量匹配对准情况并根据实际情况来对应调节辅助治具的位置,可为被测物提供更佳的测量位置,从而减少测量误差,使被测物的加工及改善工序更加优化。
为了弥补现有技术的不足,本实用新型实施例采用的技术方案是:
一种测量系统辅助治具,包括:量测部件、用于竖直支承放置被测物的辅助治具、用于调节所述辅助治具的测量选定位置的调节装置以及用于提供所述被测物的基准面中心与所述量测部件的光轴之间的相对位置信息的测试装置,所述量测部件可拆卸地设置于所述被测物的基准面上,所述辅助治具与所述调节装置相连接,所述测试装置设置于所述辅助治具的上方。
进一步地,所述测试装置包括光测探头和计算机,所述光测探头设置于所述量测部件的正上方,所述光测探头与所述计算机相连接。
进一步地,本技术方案还包括放置平台和支撑座,所述辅助治具设置于所述放置平台上,所述放置平台设置于所述支撑座上。
进一步地,所述调节装置包括用于配合实现所述辅助治具的不同状态调节的微调整装置和粗调整装置,所述微调整装置包括用于在第一方向上调节所述辅助治具位置的第一调节旋钮以及用于在第二方向上调节所述辅助治具位置的第二调节旋钮,所述粗调整装置包括用于在第一方向上调节所述辅助治具位置的第三调节旋钮以及用于在第二方向上调节所述辅助治具位置的第四调节旋钮,所述第一调节旋钮和第二调节旋钮均嵌入设置于所述放置平台上,第三调节旋钮和第四调节旋钮均嵌入设置于所述支撑座上;其中,所述第一方向和所述第二方向为所述辅助治具所在平面内所述辅助治具的两相互垂直的轴向。
进一步地,所述放置平台设置为两层矩形机构,所述两层矩形机构内开有用于稳固安装所述第一调节旋钮和第二调节旋钮的活动间隙。
进一步地,所述量测部件为平面玻璃。
本实用新型实施例中提供的一个或多个技术方案,至少具有如下有益效果:通过测试装置可实时获取被测物与量测部件之间的匹配程度,进而在匹配程度未达到要求的时候,可以控制调节装置来对应调节辅助治具的位置,从而实现被测物的位置调整,以此类推,最终可以找到被测物与量测部件之间的完美匹配位置,从而实现测量,相对来说,误差较小,得到的被测物测试数据更准确,使被测物的加工及改善工序可对应优化。因此,本实用新型能够实时获取被测物的测量匹配对准情况并根据实际情况来对应调节辅助治具的位置,可为被测物提供更佳的测量位置,从而减少测量误差,使被测物的加工及改善工序更加优化。
附图说明
下面结合附图给出本实用新型较佳实施例,以详细说明本实用新型的实施方案。
图1是本实用新型实施例的结构示意图;
图2是本实用新型实施例的被测物的基准面中心与量测部件的光轴之间的相对位置测量效果显示图;其中,(a)是被测物的基准面中心与量测部件的光轴未重合的情况,(b)是被测物的基准面中心与量测部件的光轴重合的情况。
具体实施方式
本部分将详细描述本实用新型的具体实施例,本实用新型之较佳实施例在附图中示出,附图的作用在于用图形补充说明书文字部分的描述,使人能够直观地、形象地理解本实用新型的每个技术特征和整体技术方案,但其不能理解为对本实用新型保护范围的限制。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,涉及到方位描述,例如上、下、前、后、左、右等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型的描述中,如果有描述到第一、第二等只是用于区分技术特征为目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量或者隐含指明所指示的技术特征的先后关系。
本实用新型的描述中,除非另有明确的限定,设置、安装、连接等词语应做广义理解,所属技术领域技术人员可以结合技术方案的具体内容合理确定上述词语在本实用新型中的具体含义。
下面结合附图,对本实用新型实施例作进一步阐述。
参照图1,本实用新型实施例提供了一种测量系统辅助治具,包括:量测部件100、用于竖直支承放置被测物110的辅助治具120、用于调节辅助治具120的测量选定位置的调节装置130以及用于提供被测物110的基准面中心与量测部件100的光轴之间的相对位置信息的测试装置140,量测部件100可拆卸地设置于被测物110的基准面上,辅助治具120与调节装置130相连接,测试装置140设置于辅助治具120的上方,其中,量测部件100为平面玻璃。
在本实施例中,平面玻璃具有良好的透光及反射性,便于匹配测量,效果较好,但并不限定,也可用具有类似功能的光学反射元件进行代替;“可拆卸”的限定,表明量测部件100可以不是一直放置在被测物110上面,即可仅在需要测量时才放上去,而且隐含表明了可以随时更换量测部件100,使用更加方便;在测试时,将量测部件100 放置于被测物110的基准面上,通过测试装置140可实时获取来自量测部件100的反射光以检测被测物110的基准面是否平坦,进而在发现其不平坦的时候,可以控制调节装置130来对应调节辅助治具120 的位置,从而实现被测物110的位置调整,以此类推,最终可以找到使被测物110得基准面平坦的测量位置,从而实现准确测量,相对来说,误差较小,得到的被测物110测试数据更准确,使被测物110的加工及改善工序可对应优化。因此,本实用新型能够实时获取被测物110的基准面测量平坦情况并根据实际情况来对应调节辅助治具120 的位置,可为被测物110提供更佳的测量位置,从而减少测量误差,使被测物110的加工及改善工序更加优化。
具体地,基准面是本领域的一个现有概念,用于描述物体的参照,量测部件100的光轴是指通过量测部件100的中心位置的光线所在轴线;辅助治具120的形状一般可与被测物110的形状相匹配,因此对其形状不做限定;参照图2,在光学中,被测物110(或者叫做零部件)的基准面用于通光,因此在测试时可以通过其与量测部件100的光轴是否重合来判断光线效果,若重合,则出光好,测量稳定,否则测量不稳定,由于被测物110靠辅助治具120承载,因此当辅助治具 120移动调整的时候,被测物110会被对应地移动调整,可见,测试人员只需通过测试装置140了解相关信息即可,若不匹配则进行调整,非常方便有效。
进一步地,参照图1,本实用新型另一实施例还提供了一种测量系统辅助治具,其中,测试装置140包括光测探头1401和计算机(未示出),光测探头1401设置于量测部件100的正上方,光测探头1401 与计算机相连接。在本实施例中,通过光测探头1401发光,该光射到量测部件100上,其会反射到光测探头1401上,此时由计算机对比被测物110的基准面的中心位置与该反射像的中心位置是否重合 (一般采用图像对比,较为直观,在计算机上可以显示出来),即可实现测量;采用光测探头1401,发光稳定,而且能够与计算机连接,便于实时显示测量数据,非常方便有效。
进一步地,参照图1,本实用新型另一实施例还提供了一种测量系统辅助治具,其中,还包括放置平台150和支撑座160,辅助治具 120设置于放置平台150上,放置平台150设置于支撑座160上。在本实施例中,放置平台150起到支撑辅助治具120的作用,支撑座 160起到支撑放置平台150的作用;优选地,放置平台150与辅助治具120的接触面上可设置为磁性的,可更稳定地与辅助治具120进行连接。
进一步地,参照图1,本实用新型另一实施例还提供了一种测量系统辅助治具,其中,调节装置130包括用于配合实现辅助治具120 的不同状态调节的微调整装置和粗调整装置,微调整装置包括用于在第一方向上调节辅助治具120位置的第一调节旋钮1301以及用于在第二方向上调节辅助治具120位置的第二调节旋钮1302,粗调整装置包括用于在第一方向上调节辅助治具120位置的第三调节旋钮1303以及用于在第二方向上调节辅助治具120位置的第四调节旋钮 1304,第一调节旋钮1301和第二调节旋钮1302均嵌入设置于放置平台150上,第三调节旋钮1303和第四调节旋钮1304均嵌入设置于支撑座160上;其中,第一方向和第二方向为辅助治具120所在平面内辅助治具120的两相互垂直的轴向。
在本实施例中,第一调节旋钮1301和第二调节旋钮1302适用于小范围的辅助治具120调整,第三调节旋钮1303和第四调节旋钮1304 适用于大范围的辅助治具120调整,小范围和大范围是相对的,可根据放置平台150宽度、辅助治具120规格等自行设置,比如小范围设置为30cm内,大范围设置为70cm内等等,也可以两者配合调节;上述设置的好处在于:能够方便操作人员选择调节辅助治具120,并且更容易匹配辅助治具120在不同状态下的调节情况;第一方向和第二方向的分别设置调节,使得可单独朝向调节,也可配合形成倾斜调节、旋转调节的功能,因此,调节辅助治具120时更加容易可靠;放置平台150和支撑座160均对应起到安装联结作用。
进一步地,参照图1,本实用新型另一实施例还提供了一种测量系统辅助治具,其中,放置平台150设置为两层矩形机构,两层矩形机构内开有用于稳固安装第一调节旋钮1301和第二调节旋钮1302的活动间隙1501。在本实施例中,矩形机构的两侧边可直接定向为第一方向和第二方向,方便设置调节方向,具体地,在图1中,此时第一方向为X轴方向,第二方向为Y轴方向,两者相互垂直;活动间隙 1501用于方便放置平台150与第一调节旋钮1301或第二调节旋钮1302以连接杆方式进行连接,即第一调节旋钮1301或第二调节旋钮1302通过连接杆的嵌入来与放置平台150连接,因此互相连接更加紧密可靠,增强了连接稳定性。
以上内容对本实用新型的较佳实施例和基本原理作了详细论述,但本实用新型并不局限于上述实施方式,熟悉本领域的技术人员应该了解在不违背本实用新型精神的前提下还会有各种等同变形和替换,这些等同变形和替换都落入要求保护的本实用新型范围内。

Claims (6)

1.一种测量系统辅助治具,其特征在于,包括:量测部件、用于竖直支承放置被测物的辅助治具、用于调节所述辅助治具的测量选定位置的调节装置以及用于提供所述被测物的基准面中心与所述量测部件的光轴之间的相对位置信息的测试装置,所述量测部件可拆卸地设置于所述被测物的基准面上,所述辅助治具与所述调节装置相连接,所述测试装置设置于所述辅助治具的上方。
2.根据权利要求1所述的一种测量系统辅助治具,其特征在于:所述测试装置包括光测探头和计算机,所述光测探头设置于所述量测部件的正上方,所述光测探头与所述计算机相连接。
3.根据权利要求1所述的一种测量系统辅助治具,其特征在于:还包括放置平台和支撑座,所述辅助治具设置于所述放置平台上,所述放置平台设置于所述支撑座上。
4.根据权利要求3所述的一种测量系统辅助治具,其特征在于:所述调节装置包括用于配合实现所述辅助治具的不同状态调节的微调整装置和粗调整装置,所述微调整装置包括用于在第一方向上调节所述辅助治具位置的第一调节旋钮以及用于在第二方向上调节所述辅助治具位置的第二调节旋钮,所述粗调整装置包括用于在第一方向上调节所述辅助治具位置的第三调节旋钮以及用于在第二方向上调节所述辅助治具位置的第四调节旋钮,所述第一调节旋钮和第二调节旋钮均嵌入设置于所述放置平台上,第三调节旋钮和第四调节旋钮均嵌入设置于所述支撑座上;其中,所述第一方向和所述第二方向为所述辅助治具所在平面内所述辅助治具的两相互垂直的轴向。
5.根据权利要求4所述的一种测量系统辅助治具,其特征在于:所述放置平台设置为两层矩形机构,所述两层矩形机构内开有用于稳固安装所述第一调节旋钮和第二调节旋钮的活动间隙。
6.根据权利要求1-5任一所述的一种测量系统辅助治具,其特征在于:所述量测部件为平面玻璃。
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