CN210657111U - 一种线性蒸发源机构 - Google Patents

一种线性蒸发源机构 Download PDF

Info

Publication number
CN210657111U
CN210657111U CN201921295073.2U CN201921295073U CN210657111U CN 210657111 U CN210657111 U CN 210657111U CN 201921295073 U CN201921295073 U CN 201921295073U CN 210657111 U CN210657111 U CN 210657111U
Authority
CN
China
Prior art keywords
plate
angle
evaporation source
linear evaporation
source mechanism
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201921295073.2U
Other languages
English (en)
Inventor
黄逸臻
王海燕
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujian Huajiacai Co Ltd
Original Assignee
Fujian Huajiacai Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujian Huajiacai Co Ltd filed Critical Fujian Huajiacai Co Ltd
Priority to CN201921295073.2U priority Critical patent/CN210657111U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN210657111U publication Critical patent/CN210657111U/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

本实用新型提供一种线性蒸发源机构:包括坩埚腔室,坩埚腔室下方均匀分隔着若干个独立的点源坩埚,所述坩埚腔室上方两侧设有可升降的限制板,所述限制板顶端连接着角度板,两侧角度板的方向指向二者之间上方的中间位置。通过机构中限制板的上下升降,来改变蒸镀气流在坩埚腔室内的行程,从而增加蒸发气流的混合时间,改善混合气流均匀性,同时通过调节角度板的角度来调节蒸发气流喷射角,使得蒸发气流预先混合均匀后再均匀沉积到基板表面,进而不仅改善膜层厚度不良,也可以减轻阴影效应问题。

Description

一种线性蒸发源机构
技术领域
本实用新型涉及OLED蒸镀设备技术领域,特别是一种线性蒸发源机构。
背景技术
有机电致发光显示器件(OLED)可以通过蒸镀设备制作得到,其主要用到的蒸发源由最初的点蒸发源发展到线性蒸发源,利用线性蒸发源蒸发镀膜形成OLED器件结构。而在蒸发材料镀膜时,由于基板和掩膜板之间存在一定的空隙,升华的有机材料分子会在预设的蒸镀区域之外进行沉积造成掩膜阴影效应,同时由于蒸发气流的喷射角度问题,造成膜层厚度不均匀性(一般膜厚会呈现出中间厚,两边薄),而膜层厚度不良会影响CIE数据(一种色彩描述标准),进而直接影响OLED产品的品质。
实用新型内容
为此,需要提供一种线性蒸发源机构,解决现有蒸镀设备造成的膜层厚度不均匀的问题。
为实现上述目的,发明人提供了一种线性蒸发源机构,包括坩埚腔室,坩埚腔室下方均匀分隔着若干个独立的点源坩埚,所述坩埚腔室上方两侧设有可升降的限制板,所述限制板顶端连接着角度板,两侧角度板的方向指向二者之间上方的中间位置。
进一步地,所述限制板顶端与角度板的连接为活动连接
进一步地,所述活动连接为铰链连接。
进一步地,所述点源坩埚的上方设有遮挡板,所述遮挡板上开设有一个或者多个相同的通孔。
进一步地,所述遮挡板的上方设有分散板,所述分散板上开设有一个或者多个相同的通孔。
进一步地,所述通孔的形状为圆形或者椭圆形或者多边形。
进一步地,所述遮挡板的通孔的分布区域与所述分散板的通孔的分布区域相错开。
区别于现有技术,上述技术方案通过机构中限制板的上下升降,来改变蒸镀气流在坩埚腔室内的行程,从而增加蒸发气流的混合时间,改善混合气流均匀性,同时通过角度板的角度来调节蒸发气流喷射角,使得蒸发气流预先混合均匀后再均匀沉积到基板表面,进而不仅改善膜层厚度不良,也可以减轻阴影效应问题。
附图说明
图1为具体实施方式所述一种线性蒸发源机构正等轴测图的透视图;
图2为具体实施方式所述一种线性蒸发源机构的侧视图;
图3为具体实施方式所述一种线性蒸发源机构遮挡板和分散板的示意图;
图4为具体实施方式所述一种线性蒸发源机构遮挡板和分散板之间蒸发气流的运动示意图;
图5为具体实施方式所述一种线性蒸发源机构角度板的角度调节图。
附图标记说明:
10、坩埚腔室;
20、点源坩埚;
30、限制板;31、角度板;301、铰链;
40、遮挡板;
50、分散板;
60、掩膜板;
70、基板;
401、遮挡板的通孔;
501、分散板的通孔。
具体实施方式
为详细说明技术方案的技术内容、构造特征、所实现目的及效果,以下结合具体实施例并配合附图详予说明。
请参阅图1-5,本实施例提供了一种线性蒸发源机构,包括坩埚腔室10,坩埚腔室10下方均匀分隔着若干个独立的点源坩埚20,可同时蒸镀多种材料,提高蒸镀效率。在坩埚腔室10的上方两侧设有可上下升降的限制板30,限制板30顶端连接着角度板31,两侧角度板31的方向指向二者之间上方的中间位置。通过机构中限制板的上下升降,来改变蒸镀气流在坩埚腔室10内的行程,从而增加蒸发气流的混合时间,改善混合气流均匀性,同时通过角度板 31的角度来调节蒸发气流喷射角,使得蒸发气流预先混合均匀后再均匀沉积到基板表面,进而不仅改善膜层厚度不良,也可以减轻阴影效应问题。
为调节角度板31,使其适应不同的基板70,限制板顶端与角度板的连接为活动连接,本实施例采用铰链301连接,此铰链301连接带有阻尼,可是角度板31固定在某一角度,另外通过调节角度板31的角度来改变蒸发气流喷射角,使得蒸发气流预先混合均匀后再均匀沉积到基板70表面,进而改可善膜层厚度不良的问题,使膜层均匀。
为了避免蒸发的材料气体进入到其他点源坩埚20和坩埚加热装置中,造成装置污染或损坏,在点源坩埚20的上方设有遮挡板40,遮挡板上开设有一个或者多个相同的方形通孔401,点源坩埚20内的蒸汽气流向上运动通过遮挡板40的方形通孔后,有些蒸汽气流可能受环境影响发生回流,回流的蒸汽气流会被遮挡板40阻挡,避免进入其他点源坩埚20造成污染,同时基板70 上掉落的材料也会落入遮挡板40的上表面,避免污染点源坩埚20。
同时使用多个点源坩埚20蒸镀材料时,为了使不同点源坩埚20产生的蒸汽气流充分混合,在遮挡板40的上方设有分散板,分散板50上开设有一个或者多个相同的通孔501,通过遮挡板40的蒸汽气流受到分散板50的阻碍,在遮挡板40和分散板50之间滞留,增加了混合时间,使得不同点源坩埚20 产生的蒸汽气流有充分的时间混合。
为了适应不同形状的点源坩埚,使得蒸汽气流能够顺利上升,遮挡板40 和分散板50的通孔形状可为圆形或者椭圆形或者多边形,以对应点源坩埚的形状。
同时使用多个点源坩埚20蒸镀材料时,为了进一步提高不同点源坩埚20 产生的蒸汽气流混合均匀性,使遮挡板的通孔的分布区域与所述分散板的通孔的分布区域相错开,如图4从遮挡板方形通孔出来的蒸汽气流被分散板50 阻挡在遮挡板40和分散板50之间,不同点源坩埚20产生的蒸汽气流在遮挡板和分散板50之间充分混合均匀后从分散板50的圆形通孔溢出,进入限制板30升降区域,起到缓冲控制,充分混合的作用。
在另一些实施例中,为了方便拆卸和安装,以便更换不同的角度板31,限制板30顶端和角度板31之间的连接可以为卡紧式连接,结构简单,连接紧密,拆装方便。
需要说明的是,尽管在本文中已经对上述各实施例进行了描述,但并非因此限制本实用新型的专利保护范围。因此,基于本实用新型的创新理念,对本文所述实施例进行的变更和修改,或利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,直接或间接地将以上技术方案运用在其他相关的技术领域,均包括在本实用新型专利的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种线性蒸发源机构,包括坩埚腔室,坩埚腔室下方均匀分隔着若干个独立的点源坩埚,其特征在于,所述坩埚腔室上方两侧设有可升降的限制板,所述限制板顶端连接着角度板,两侧角度板的方向指向二者之间上方的中间位置。
2.根据权利要求1所述的一种线性蒸发源机构,其特征在于,所述限制板顶端与角度板的连接为活动连接。
3.根据权利要求2所述的一种线性蒸发源机构,其特征在于,所述活动连接为铰链连接。
4.根据权利要求1所述的一种线性蒸发源机构,其特征在于,所述点源坩埚的上方设有遮挡板,所述遮挡板上开设有一个或者多个相同的通孔。
5.根据权利要求4所述的一种线性蒸发源机构,其特征在于,所述遮挡板的上方设有分散板,所述分散板上开设有一个或者多个相同的通孔。
6.根据权利要求4或5所述的一种线性蒸发源机构,其特征在于,所述通孔的形状为圆形或者椭圆形或者多边形。
7.根据权利要求5所述的一种线性蒸发源机构,其特征在于,所述遮挡板的通孔的分布区域与所述分散板的通孔的分布区域相错开。
CN201921295073.2U 2019-08-12 2019-08-12 一种线性蒸发源机构 Active CN210657111U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201921295073.2U CN210657111U (zh) 2019-08-12 2019-08-12 一种线性蒸发源机构

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201921295073.2U CN210657111U (zh) 2019-08-12 2019-08-12 一种线性蒸发源机构

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN210657111U true CN210657111U (zh) 2020-06-02

Family

ID=70821751

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201921295073.2U Active CN210657111U (zh) 2019-08-12 2019-08-12 一种线性蒸发源机构

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN210657111U (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112899621A (zh) * 2021-01-19 2021-06-04 京东方科技集团股份有限公司 一种蒸发源装置和蒸镀设备
CN114525474A (zh) * 2022-03-10 2022-05-24 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀坩埚及蒸镀装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112899621A (zh) * 2021-01-19 2021-06-04 京东方科技集团股份有限公司 一种蒸发源装置和蒸镀设备
CN114525474A (zh) * 2022-03-10 2022-05-24 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀坩埚及蒸镀装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN210657111U (zh) 一种线性蒸发源机构
JP5064810B2 (ja) 蒸着装置および蒸着方法
US10066289B2 (en) Evaporation crucible and evaporation device
US20180207677A1 (en) Vacuum evaporation apparatus
CN101825808B (zh) 配向膜加热装置
CN210425778U (zh) 真空干燥装置
EP3444373A1 (en) Linear evaporation source, evaporation source system and vapour deposition device
WO2015165167A1 (zh) 基板蒸镀装置和蒸镀方法
KR20140006499A (ko) 증착 장치
US9783881B2 (en) Linear evaporation apparatus for improving uniformity of thin films and utilization of evaporation materials
US8709837B2 (en) Deposition apparatus and method for manufacturing organic light emitting diode display using the same
CN206033867U (zh) 蒸镀坩埚及蒸镀设备
CN108344254A (zh) 真空干燥装置
US20160361931A1 (en) Ink jet printing apparatus, display substrate manufactured by ink jet printing apparatus, and ink jet printing method
US11469280B2 (en) Organic light-emitting diode display
US20170067144A1 (en) Vacuum evaporation source apparatus and vacuum evaporation equipment
US11530874B2 (en) Dry box and control method thereof, and preparation method of organic electroluminescent device
US20210332471A1 (en) Evaporation Device
JP2017538039A (ja) 材料堆積システム及び材料堆積システムで材料を堆積する方法
CN205576264U (zh) 一种蒸镀材料均匀性调节装置及真空蒸镀装置
KR20150012806A (ko) 증착 장치
CN112030113B (zh) 一种蒸镀坩埚
CN206375995U (zh) 一种真空蒸镀装置
KR20160090988A (ko) 복수의 모듈을 갖는 증착원
CN107190232A (zh) 一种显示基板的蒸镀装置、蒸镀设备及蒸镀方法

Legal Events

Date Code Title Description
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant